Plasma processing apparatus
    41.
    发明申请
    Plasma processing apparatus 有权
    等离子体处理装置

    公开(公告)号:US20060137820A1

    公开(公告)日:2006-06-29

    申请号:US11313022

    申请日:2005-12-20

    IPC分类号: H01L21/306 C23F1/00

    摘要: A plasma processing apparatus for generating plasma in a chamber maintained in a vacuum state and processing a substrate using the plasma. The plasma processing apparatus includes a refrigerant channel for circulating a refrigerant formed in a shower head, thereby easily controlling the temperature of the shower head and improving the reproducibility of plasma treatment.

    摘要翻译: 一种等离子体处理装置,用于在保持真空状态的室中产生等离子体,并使用等离子体处理衬底。 等离子体处理装置包括用于使形成在喷淋头中的制冷剂循环的制冷剂通道,从而容易地控制淋浴头的温度并提高等离子体处理的再现性。