用于减少溅射靶与屏蔽件之间的错位的器件

    公开(公告)号:CN119546797A

    公开(公告)日:2025-02-28

    申请号:CN202380052902.7

    申请日:2023-07-13

    Inventor: 刘波

    Abstract: 一种用于溅射室的暗空间屏蔽件上的间隔导向件包括水平主体,该水平主体具有第一端部、与第一端部相对的第二端部以及厚度,该水平主体被构造成静置在暗空间屏蔽件的端部上;第一腿部,该第一腿部从水平主体的第一端部侧向延伸并且被构造成静置抵靠暗空间屏蔽件的外表面;和第二腿部,该第二腿部从水平主体的第二端部侧向延伸并且被构造成静置抵靠屏蔽件的内表面。

    显示设备、显示设备的制造方法、显示设备的制造装置

    公开(公告)号:CN112424968B

    公开(公告)日:2024-12-10

    申请号:CN201880095750.8

    申请日:2018-07-19

    Abstract: 显示设备(1)在阳极(4)与发光层(8R/8G/8B)之间具备多个子像素(2R/2G/2B)共用的空穴输送层(6C),在该共用空穴输送层与所述发光层之间,针对所述多个子像素的每一个子像素单独地具备单独空穴输送层(6P)。所述共用空间输送层使用第一空穴输送层材料来构成。第一颜色的子像素(2B)所具备的第一单独空穴输送层(6B)使用第二空穴输送层材料来构成。第二颜色的子像素(2R/2G)所具备的第二单独空穴输送层(6R/6G)使用所述第一空穴输送层材料与所述第二空穴输送层材料的混合材料来构成。

    用于保护涂覆源中的氧敏感的靶材的方法和装置

    公开(公告)号:CN118900930A

    公开(公告)日:2024-11-05

    申请号:CN202380029051.4

    申请日:2023-02-22

    Abstract: 本发明公开了一种用于保护涂覆源中的氧敏感的靶材的方法和装置。本发明的目的在于,提供一种方法以及一种布置结构,借助它们可以保护涂覆源的反应性的、尤其是氧敏感的靶材免受污染和不期望的反应,该目的通过一种方法得以实现,其中,首先活门密封地封闭涂覆源,并且使保护气体通过气体入口引入到涂覆源空间中,该涂覆源空间通过涂覆源和活门形成。在此,相对于在处理室内部的真空室压力设定在涂覆源空间中的过压。接着,将另一气体引入到处理室中以用于引起反应,也就是说中和处理室中的涂层。现在,处理室被通风以空气或氮气,而不发生不期望的反应。处理室随后朝向大气打开,即处理室的门朝向周围环境打开,其中于是始终维持相对于涂覆源空间中的气氛的过压。

    高响应度β-Ga2O3基异质结自供能紫外探测器及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN115295677B

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202210996460.9

    申请日:2022-08-19

    Inventor: 王相虎 施华

    Abstract: 本发明公开了高响应度β‑Ga2O3基异质结自供能紫外探测器及其制备方法和应用,属于半导体光电器件领域。该紫外探测器由下至上包括依次层叠设置的衬底、第一电极、p型宽禁带导电薄膜、本征β‑Ga2O3薄膜耗尽层、n‑β‑Ga2O3:Sn导电薄膜、n+‑β‑Ga2O3:Sn电子收集层、MgO:Na或MgO:K薄膜钝化层和第二电极,p禁带导电薄膜的禁带宽度大于3.0eV。本发明利用化学气相沉积、金属有机物气相外延、脉冲激光沉积等真空制膜方法得到高响应度β‑Ga2O3基异质结自供能紫外探测器,有效提高了β‑Ga2O3基异质结薄膜紫外探测器的响应度,应用在日盲波段探测方面前景广阔。

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