由不同材料制造结晶材料的方法

    公开(公告)号:CN114929927B

    公开(公告)日:2024-11-01

    申请号:CN202080092221.X

    申请日:2020-11-10

    摘要: 一种在表面上制造材料的结晶层的方法,该结晶层包含锂、至少一种过渡金属和至少一种抗衡离子,其中该方法包括以下步骤:将来自包含锂的第一靶的材料等离子体溅射到基板的表面或由基板支撑的表面上,至少存在对应于粒子从第一靶到表面上的轨迹的第一羽流,以及将来自包含至少一种过渡金属的第二靶的材料等离子体溅射到表面上,至少存在对应于粒子从第二靶到表面上的轨迹的第二羽流。第一靶定位成与第二靶不平行,第一羽流和第二羽流会聚在靠近基板表面或由基板支撑的表面的区域,并且结晶层形成在所述区域的表面上。

    磁控溅射装置及磁控溅射方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118726923A

    公开(公告)日:2024-10-01

    申请号:CN202310350050.1

    申请日:2023-03-28

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/00

    摘要: 本申请实施例提供一种磁控溅射装置及磁控溅射方法,涉及溅射技术领域,用于实现沉积多层薄膜。磁控溅射装置包括反应腔以及与反应腔连通的第一气体管路。其中,反应腔包括腔壁,腔壁具有第一凸部,第一凸部沿远离反应腔中心的方向外凸,第一凸部用于存放待溅射基板。反应腔内设置有靶材以及与靶材相对设置的载物台,载物台用于放置待溅射基板。第一气体管路用于为反应腔通入第一气体。

    SiO粉末的制造方法及球形颗粒状SiO粉末

    公开(公告)号:CN112689612B

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN201980056749.9

    申请日:2019-08-26

    摘要: 本发明旨在高效且经济地制造一种SiO粉末,该SiO粉末为没有棱角的球形颗粒状且粒径小,并且由杂质引起的污染程度也很低。将作为SiO气体产生原料(9)的Si和SiO2的混合物装入坩埚(2)内。在减压条件下,加热坩埚(2)内部的混合物以产生SiO气体。使产生的SiO气体沉积于在坩埚(2)上旋转的析出基体(5)上。当将沉积在析出基体(5)上的SiO析出物(10)通过刀片(7)刮取时,刀片(7)的尖端与析出基体(5)的表面分离,以将沉积在析出基体(5)上的SiO析出物(10)的一部分残留在析出基体(5)上,同时将剩余的SiO析出物(10)通过刀片(7)刮取,并作为SiO粉末(11)回收。

    真空处理装置、微粒去除机构以及微粒去除方法

    公开(公告)号:CN117898027A

    公开(公告)日:2024-04-16

    申请号:CN202380013408.X

    申请日:2023-03-14

    摘要: 本发明的目的在于抑制微粒向真空处理装置内的侵入。为了实现上述目的,本发明的一个方式的真空处理装置具有真空容器、带电粒子产生源、排气机构、微粒去除机构。上述带电粒子产生源在内部生成带电粒子。上述排气机构将上述真空容器内的气体排气。上述微粒去除机构包括中间槽,上述中间槽配置于上述真空容器与上述带电粒子产生源之间并将上述真空容器和上述带电粒子产生源连结,通过气体气流将上述带电粒子产生源所产生的微粒在上述真空容器前排出至上述中间槽之外。

    镀膜装置
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110527946B

    公开(公告)日:2024-03-19

    申请号:CN201910834157.7

    申请日:2019-09-04

    IPC分类号: C23C14/00 C23C16/00

    摘要: 一种镀膜装置,其包括具有镀膜腔室的主体部、盖板组件以及密封元件,所述盖板组件包括盖板以及固定在所述盖板上的摇臂;所述镀膜装置还包括用以顶起所述盖板组件的至少两组顶起机构以及用以驱动所述摇臂带动盖板绕第一转轴旋转的旋转驱动机构;所述摇臂设有位于所述第一转轴的一侧且与所述盖板相固定的固定部以及位于所述第一转轴的另一侧的施力部;所述旋转驱动机构包括旋转驱动件以及位置补偿机构,所述位置补偿机构与所述施力部相连,用以在所述盖板组件被顶起的过程中避免使所述旋转驱动件受力。如此设置,本发明的镀膜装置性能较好且易于操作。

    一种制备大长径比和小尺寸椭圆形磁性纳米线的方法

    公开(公告)号:CN117512595A

    公开(公告)日:2024-02-06

    申请号:CN202410022468.4

    申请日:2024-01-08

    申请人: 兰州大学

    摘要: 本发明涉及一种制备大长径比和小尺寸椭圆形磁性纳米线的方法,该方法包括以下步骤:⑴将模板经重离子束辐照、敏化后,得到具有潜径迹模板;⑵采用5M NaOH溶液对所述具有潜径迹模板进行蚀刻,得到重离子径迹模板;⑶所述重离子径迹模板裁剪后使用拉伸仪进行拉伸,通过控制拉伸率获得具有不同椭偏率的模板;⑷在具有不同椭偏率的模板的一侧先溅射金导电层,再以铜为电极,在喷金一侧再沉积一层铜,然后在另一侧电化学沉积椭圆形镍纳米线,最后对金层和铜层进行剥离,即得大长径比和小尺寸椭圆形磁性纳米线。本发明简便易行,首次实现了大长径比椭圆形磁性纳米线阵列的可控制备,成功制备出小尺寸椭圆形磁性纳米线阵列。

    一种耐磨蚀的梯度碳氮高熵陶瓷涂层及制备方法

    公开(公告)号:CN117364041A

    公开(公告)日:2024-01-09

    申请号:CN202311338047.4

    申请日:2023-10-17

    摘要: 一种耐磨蚀的梯度碳氮高熵陶陶瓷涂层及制备方法,其特征在于该梯度碳氮高熵陶瓷涂层C元素和N元素在涂层生长方向呈现梯度分布,抑制柱状晶的生长,抑制腐蚀离子在柱状晶晶间扩散,显著提升涂层的耐腐蚀性能。所得的梯度碳氮的高熵陶瓷涂层,晶体结构为面心立方结构,硬度高于30GPa,人工海水环境中涂层的电荷转移电阻高于3×106Ωcm2,腐蚀电流密度低于1×10‑8A/cm2。发明提供的耐磨蚀的梯度碳氮高熵陶瓷涂层在核电设施、加工工具、航天航空装备、海洋装备或医疗器械等领域耐磨、耐蚀、耐高温表面功能涂层中的应用。