一种改性醇用清洗剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN118516188A

    公开(公告)日:2024-08-20

    申请号:CN202410503753.8

    申请日:2024-04-25

    摘要: 本发明公开了一种改性醇用清洗剂及其制备方法,清洗剂包括以下重量份的材料:表面活性剂8~17份、助溶剂48~68份、螯合剂10~20份和去离子水。本发明的有益效果是,该清洗剂主要由表面活性剂、助溶剂、螯合剂和去离子水等成分组成;通过表面活性剂的润湿和乳化作用,有效地分散和去除改性醇残留物;助溶剂能够增强清洗剂对改性醇的溶解能力;螯合剂则能与改性醇中的金属离子结合,形成稳定的络合物,从而防止金属离子对清洗过程的干扰。

    一种油水通用型碳化硅晶片的研磨液清洗剂

    公开(公告)号:CN118496930A

    公开(公告)日:2024-08-16

    申请号:CN202410668712.4

    申请日:2024-05-28

    发明人: 陈中华 高建

    摘要: 本发明涉及一种油水通用型碳化硅晶片的研磨液清洗剂,属于清洗剂技术领域。该研磨液清洗剂包括以下质量分数的组分:改性脱污剂10‑15%、表面活性剂8‑12%、螯合剂2.8‑3.4%和分散剂3.2‑4.5%,余量为水;改性脱污剂分子链中部亲水、端部亲油,在油水体系中均能良好地分散,其链中的硅链段与碳化硅晶片和金刚石磨粒具有良好的浸润性,端部结构相较于硅链的浸润性较差,在清洗过程中,从链端部进行剥离,类似“胶带”将晶片表面的杂质剥离;在测试中,对油基和水基研磨液清洗后的清洁度值均不高于10RFU,具有优异的清洗能力。

    一种环保的溶剂型飞机外表面清洗剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN118165790A

    公开(公告)日:2024-06-11

    申请号:CN202410330122.0

    申请日:2024-03-22

    发明人: 余勇 赵建红

    摘要: 本发明公开了一种环保的溶剂型飞机外表面清洗剂以及制备方法,所述溶剂型飞机外表面清洗剂由以下质量百分含量的成分组成:碳氢溶剂50%~80%;2‑甲基戊二酸二甲酯15%~35%;复配表面活性剂5%~15%;2%~6%助溶剂。所述复配表面活性剂为平平加和多元醇脂肪酸酯的组合物,平平加和多元醇脂肪酸酯的比例为1:10~1:2。本发明以碳氢溶剂为主溶剂,复配清洗能力强,且可生物降低的2‑甲基戊二酸二甲酯,并协同表面活性剂的去污作用,在保持溶剂型清洗剂强大去污能力的同时,提高产品的环保性能。并通过特定的制备方案,将价格低廉、乳化效果好的平平加应用在溶剂型清洗剂中,兼顾了成本与效果。

    一种黄油污垢在线清除剂及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN118146882A

    公开(公告)日:2024-06-07

    申请号:CN202410253209.2

    申请日:2024-03-06

    摘要: 本发明公开了一种黄油污垢在线清除剂及其制备方法与应用,所述黄油污垢在线清除剂包括以下质量百分含量的组分,烷基多糖苷:8~20wt%,脂肪醇聚氧乙烯醚类化合物:8~25wt%,复合螯合剂:10~15wt%,乳酸甲酯:10~20wt%,余量为去离子水;其中所述复合螯合剂为葡萄糖酸钠和谷氨酸的混合物。本发明的黄油污垢在线清除剂均匀稳定,能够快速清除乙烯生产装置碱洗塔中的黄油污垢,且使用时无需停机开罐清理,只需将其随碱液加入碱洗塔中,操作极为简便;同时其原料无毒无污染,制备方法简单,适合工业上大规模的生产和应用。

    一种无金属离子型硅晶片清洗剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN117987213A

    公开(公告)日:2024-05-07

    申请号:CN202311768296.7

    申请日:2023-12-21

    摘要: 本发明涉及硅晶片清洗剂技术领域,尤其涉及一种无金属离子型硅晶片清洗剂,由以下重量份的物质组成:异构醇聚氧乙烯醚5~10份、脂肪醇烷氧基醚3~5份、马来酸‑丙烯酸共聚物15~25份、过氧化氢1~3份、乙二醇丁醚5~10份、单乙醇胺4~12份、纤维素浮选剂8~12份和去离子水30~40份,本发明提出的硅晶片清洗剂,不含有强酸和强碱,且不含有金属离子,清洗过程中不会引入新的金属离子杂质,保证清洗效果不受不良影响,本发明提出的硅晶片清洗剂,含有单乙醇胺代替传统的氢氧化钠,对硅晶片表面具有一定的腐蚀作用,配合其它组分,能够有效的将杂质从硅晶片表面去除。