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公开(公告)号:CN118973764A
公开(公告)日:2024-11-15
申请号:CN202380028058.4
申请日:2023-02-20
申请人: 则武株式会社
IPC分类号: B24D3/32 , B24B37/24 , B24D3/00 , B24D11/00 , H01L21/304
摘要: 本发明提供一种研磨垫,容易进行研磨液的管理,可省略或简化研磨后的晶圆的清洗步骤,并且研磨后的研磨液的处理不麻烦,且可实现研磨后的晶圆的高面品质与高研磨速率。本发明的研磨垫(10)具有包含母材树脂且形成有多个气孔(14)的母材(12)、及保持于母材(12)或气孔(14)内的研磨粒子(16)。将任意的气孔作为特定气孔,定义特定气孔中最短内径为短径,最长内径为长径,将短径、长径、圆周率及1/4相乘而得到的气孔相关面积的平均值为87.7μm2以上;研磨粒子(16)是比表面积为8.9~10.5m2/g的二氧化硅粒子。
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公开(公告)号:CN118804818A
公开(公告)日:2024-10-18
申请号:CN202380024542.X
申请日:2023-02-28
申请人: 六号元素(英国)有限公司
IPC分类号: B24B53/07 , B24D3/00 , B24B53/047 , B24D5/06 , B24D7/06
摘要: 本文公开了修整砂轮的方法,该方法包括提供修整滚轮和砂轮,其中修整滚轮包括轮毂和围绕轮毂周边安装的多个多晶金刚石(PCD)节块,每个PCD节块均具有一对大致径向延伸的侧表面和在所述侧表面之间大致沿圆周延伸的端表面,该方法包括以下步骤:a.旋转修整滚轮和/或砂轮,以及b.使修整滚轮的周边与砂轮的周边接合,其中修整滚轮与砂轮之间的速度比qd低于0或高于+1,并且其中,前刀面位于所述每个PCD节块的所述侧表面中的一个上,并且对应的后刀面位于端表面上。
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公开(公告)号:CN118769124A
公开(公告)日:2024-10-15
申请号:CN202411112399.2
申请日:2024-08-14
申请人: 安徽禾臣新材料有限公司
摘要: 本发明公开了一种晶圆再生抛光用CMP抛光垫及其制备工艺,属于CMP抛光垫技术领域,包括基底层、加强层和抛光层,基底层的上表面设置有加强层,加强层的上表面设置有抛光层。本发明解决了现有的CMP抛光垫在使用时,其支撑强度低下,易磨损,导致CMP抛光垫使用寿命短的问题,本发明通过以聚氨酯纤维及聚酰胺纤维为原料来制备增强底层和增强面层,且将支撑层加工在增强底层内,通过充气机向支撑件内充气,经支撑条上设置的气孔排出进而对增强底层和增强面层进行更进一步地支撑,通过设置的加强层可提升CMP抛光垫的支撑强度,防止CMP抛光垫磨损,可提升CMP抛光垫的耐磨性能,延长CMP抛光垫的使用寿命。
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公开(公告)号:CN109159034B
公开(公告)日:2024-10-15
申请号:CN201810855402.8
申请日:2018-07-31
申请人: 秦皇岛道天精密磨具有限公司
IPC分类号: B24D3/00 , B24D18/00 , B24D5/00 , C08L61/06 , C08L77/10 , C08L97/02 , C08K13/04 , C08K7/14 , C08K3/22 , C08K5/098 , C08K7/12
摘要: 本发明针对现有技术中的磨具基体旋转载荷较大影响加工的精度的不足,提供一种塑料基体磨具、磨具基体的制造方法及所用的材料,该磨具基体用的材料,包括酚醛树脂、复合固化剂、增强剂、增硬剂以及添加剂,各组分质量百分比为:酚醛树脂30‑45%,复合固化剂2‑8%,增强剂35‑50%,增硬剂2‑15%,添加剂2‑5%;所述添加剂为硬质酸锌和硅烷偶联剂的混合物,二者占总组分质量百分比分别为:硬质酸锌1‑4.5%、硅烷偶联剂0‑1.5%;所述复合固化剂包括六次甲基四胺和氧化镁,其占总组分的质量百分比分别为:六次甲基四胺1‑7%、氧化镁1‑5%,采用本发明提供的材料,实现了在保证磨具基体的强度和硬度的前提下降低了磨具基体的整体重量,减少磨具在旋转时的旋转载荷,降低对加工的精度的影响。
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公开(公告)号:CN118725709A
公开(公告)日:2024-10-01
申请号:CN202311853503.9
申请日:2023-12-29
申请人: 湖北鼎龙汇盛新材料有限公司 , 湖北鼎汇微电子材料有限公司 , 湖北鼎龙控股股份有限公司
IPC分类号: C09D175/04 , C09D175/06 , C09D7/61 , C09D7/63 , C09D7/65 , C08J7/04 , C08L67/02 , C08L23/12 , C08L23/06 , B24B37/24 , B24B37/26 , B24D18/00 , B24D3/00
摘要: 本申请提供一种浆料组合物、软质抛光垫及其制备方法,涉及化学机械抛光领域。本申请的浆料组合物的组分按质量份数计,包括100份聚氨酯、1~4份阴离子型助剂、1~4份非离子型助剂,且所述非离子型助剂的数均分子量为15000~25000。使用本申请的浆料组合物制得的软质抛光垫,抛光效率高、耐磨性好,有利于提升晶片的加工效率,降低加工成本。
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公开(公告)号:CN118682572A
公开(公告)日:2024-09-24
申请号:CN202410284925.7
申请日:2024-03-13
申请人: 态金材料科技股份有限公司
摘要: 一种以金属玻璃粒子抛磨铜箔以降低其表面粗糙度的方法,于一大磨轮(或称母磨轮)上嵌入若干金属玻璃粒子的微磨轮或称“子磨轮”,由是可利用该母磨轮上的诸多“子磨轮”在铜箔上进行温和的抛光研磨(抛磨)动作,以有效降低铜箔表面的粗糙度,而又不损及铜箔的电性品质。
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公开(公告)号:CN118528122A
公开(公告)日:2024-08-23
申请号:CN202410669053.6
申请日:2024-05-28
申请人: 安徽禾臣新材料有限公司
IPC分类号: B24B13/01 , B24D18/00 , B24D3/00 , B24D3/28 , B32B3/30 , B32B27/28 , B32B27/20 , B32B27/08 , B32B27/40 , B32B27/32 , B32B27/18 , B32B27/06 , C08G18/48 , C08L75/04 , C08L27/18 , C08L5/08 , C08L3/02 , C08K3/22 , C08K3/36 , C08G101/00
摘要: 本发明公开了一种高移除率的光学元件抛光白垫及其生产工艺,属于光学元件加工技术领域。一种高移除率的光学元件抛光白垫,包括依次连接的基底层、缓冲层和抛光层,所述基底层采用聚酰亚胺与玻璃纤维复合材料制成,缓冲层为聚氨酯发泡材料制成,抛光层的表面开设有纵横交错的网格沟。本发明解决了现有移除率低的技术问题,本发明提出的一种高移除率的光学元件抛光白垫及其生产工艺,采用高耐温、高强度的聚酰亚胺材料作为基底层,确保在高速旋转和受压状态下保持稳定形态,提高整体使用寿命,阵列凸起为有规律排列的微凸点,这些微结构能够增加抛光液的保持能力,促进抛光粒子的有效滚动和剪切,从而提高材料移除率。
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公开(公告)号:CN107866753B
公开(公告)日:2024-07-26
申请号:CN201711297789.1
申请日:2017-12-08
申请人: 清华大学 , 上海航天精密机械研究所
摘要: 本发明公开了一种具有随机多孔结构金属结合剂砂轮、装置及制备工艺,所述金属结合剂砂轮包括砂轮基体和套设在所述砂轮基体外侧的砂轮磨削主体,所述砂轮磨削主体具有随机多孔结构,所述随机多孔结构通过三维建模软件生成,所述砂轮磨削主体通过选择性激光烧结制成,所述随机多孔结构的体积与所述砂轮磨削主体的体积之比的范围为10%~50%,所述砂轮磨削主体包括磨粒、金属粉末和填充剂。根据本发明实施例的金属结合剂砂轮,气孔率高,由此可以改善磨削区域散热,减少磨削烧伤,提高磨削表面质量。
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公开(公告)号:CN118256775A
公开(公告)日:2024-06-28
申请号:CN202410365480.5
申请日:2024-03-28
申请人: 宁波金田铜业(集团)股份有限公司
摘要: 本发明公开了一种铜合金及其制备方法和应用,所述铜合金包括以下质量百分含量的组分,Cu:59.0‑61.5wt%,Te:0.005‑0.015wt%,P:0.01‑0.02wt%,As:0.005‑0.01wt%,Si<0.001wt%,Al<0.001wt%,Sn<0.001wt%,Mg<0.001wt%,Fe<0.005wt%,Pb<0.005wt%,Zn余量;所述的铜合金中β相的比例在10%以下。本发明采用热轧+在线β/α相转变热处理,显著降低了合金中β相的比例,使得制备得到的铜合金具有优异的抗脱锌性能,良好的加工塑性和折弯性,在800‑1200m/min高速冲压不掉铜粉,同时电镀性能良好,在LED灯引线支架中应用前景广阔。
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公开(公告)号:CN118215556A
公开(公告)日:2024-06-18
申请号:CN202280074973.2
申请日:2022-06-30
申请人: 千贝克科技有限公司 , 大明化学工业株式会社
摘要: 具有轴的磨石(1)包括磨石(2)和从磨石(2)延伸的轴构件(3)。磨石(2)是通过树脂(23)将由多根无机长纤维(21)捆扎而成的多个纤维束(22)结合而得到的。轴构件(3)在将刚度设为S的情况下满足条件式(A)。在将从轴构件(3)的后端起30mm的区域作为柄部(4)并固定,从与轴线(L)正交的方向将磨石(2)的外周端(2a)的后端压入,且将压入载荷设为F(N),将轴构件(3)的前端的位移量设为δ(mm)的情况下,轴构件(3)的刚度利用以下的式(B)求出。0.4≤S≤100··(A),S=F/δ··(B)。
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