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公开(公告)号：CN102102211A
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN201010591444.9
申请日：2010-12-16
Applicant: 株式会社东芝 , 芝浦机械电子株式会社 , 氯工程株式会社
CPC classification number: C25B1/22 , C25B9/08 , G03F1/80 , G03F7/423 , H01L21/02057 , H01L21/31133 , H01L21/6708
Abstract: 在一个实施方案中，公开了一种蚀刻方法。该方法可以包括通过电解硫酸溶液产生氧化性物质、和通过控制氧化性物质的生成量来产生具有规定的氧化剂浓度的蚀刻溶液。该方法可包括将所生产的蚀刻溶液供应到工件表面。
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公开(公告)号：CN101307460A
公开(公告)日：2008-11-19
申请号：CN200810009754.8
申请日：2008-02-13
Applicant: 芝浦机械电子株式会社 , 氯工程株式会社 , 株式会社东芝
IPC: C25B1/30 , C25B1/22 , B08B3/08 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/6708
Abstract: 本发明公开了一种清洗方法，其包括：通过电解硫酸制备氧化溶液，并用所述氧化溶液清洗工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。本发明还公开了一种制造电子器件的方法，其包括：制备工件；通过电解硫酸制备氧化溶液，并用所述氧化溶液清洗所述工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。
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公开(公告)号：CN102102211B
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN201010591444.9
申请日：2010-12-16
Applicant: 株式会社东芝 , 芝浦机械电子株式会社 , 氯工程株式会社
CPC classification number: C25B1/22 , C25B9/08 , G03F1/80 , G03F7/423 , H01L21/02057 , H01L21/31133 , H01L21/6708
Abstract: 在一个实施方案中，公开了一种蚀刻方法。该方法可以包括通过电解硫酸溶液产生氧化性物质、和通过控制氧化性物质的生成量来产生具有规定的氧化剂浓度的蚀刻溶液。该方法可包括将所生产的蚀刻溶液供应到工件表面。
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公开(公告)号：CN102031203B
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201010287629.0
申请日：2010-09-20
Applicant: 株式会社东芝 , 芝浦机械电子株式会社 , 氯工程株式会社
CPC classification number: H01L21/31133 , G03F7/423 , H01L21/67051
Abstract: 根据实施方案，一种清洗液包括氧化物质和氢氟酸，并且显示出酸性。公开了一种清洗方法。该方法包括制备一种包括氧化物质的氧化溶液，通过选自电解硫酸溶液、电解加入硫酸溶液中的氢氟酸以及混合硫酸溶液和过氧化氢水溶液中的一种来制备。该方法包括向待清洗物体的表面提供氧化溶液和氢氟酸。
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公开(公告)号：CN102031203A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN201010287629.0
申请日：2010-09-20
Applicant: 株式会社东芝 , 芝浦机械电子株式会社 , 氯工程株式会社
CPC classification number: H01L21/31133 , G03F7/423 , H01L21/67051
Abstract: 根据实施方案，一种清洗液包括氧化物质和氢氟酸，并且显示出酸性。公开了一种清洗方法。该方法包括制备一种包括氧化物质的氧化溶液，通过选自电解硫酸溶液、电解加入硫酸溶液中的氢氟酸以及混合硫酸溶液和过氧化氢水溶液中的一种来制备。该方法包括向待清洗物体的表面提供氧化溶液和氢氟酸。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102157370A
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN201110066173.X
申请日：2008-02-13
Applicant: 芝浦机械电子株式会社 , 氯工程株式会社 , 株式会社东芝
IPC: H01L21/306 , C25B1/30 , C25B1/22
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/6708
Abstract: 本发明公开了一种清洗方法，其包括：通过电解硫酸制备氧化溶液，并用所述氧化溶液清洗工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。本发明还公开了一种制造电子器件的方法，其包括：制备工件；通过电解硫酸制备氧化溶液，并用所述氧化溶液清洗所述工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。
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公开(公告)号：CN101307460B
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN200810009754.8
申请日：2008-02-13
Applicant: 芝浦机械电子株式会社 , 氯工程株式会社 , 株式会社东芝
IPC: C25B1/30 , C25B1/22 , B08B3/08 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/6708
Abstract: 本发明公开了一种清洗方法，其包括：通过电解硫酸制备氧化溶液，并用所述氧化溶液清洗工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。本发明还公开了一种制造电子器件的方法，其包括：制备工件；通过电解硫酸制备氧化溶液，并用所述氧化溶液清洗所述工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。
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公开(公告)号：CN102030306A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN201010287644.5
申请日：2010-09-20
Applicant: 株式会社东芝 , 氯工程株式会社 , 芝浦机械电子株式会社
IPC: B81C1/00
Abstract: 根据一个实施方案，公开了一种清洗方法。该方法通过电解稀硫酸溶液可以制备包括氧化物质的氧化溶液。另外，该方法可以向待清洗物体表面单独地、按顺序地或基本上同时地供给高浓缩无机酸溶液和氧化溶液。
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公开(公告)号：CN101542020B
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200880000338.X
申请日：2008-01-11
Applicant: 芝浦机械电子株式会社 , 株式会社东芝 , 氯工程株式会社
IPC: C25B1/28 , H01L21/304
CPC classification number: C25B1/285 , H01L21/67051
Abstract: 本发明的硫酸的电解装置具备：被隔膜(4)分隔形成设有阴极(5a)的阴极室(5)和设有阳极(6a)的阳极室(6)的电解槽(1)；贮存硫酸的硫酸罐；连接硫酸罐和阴极室的流入口的给液管(14)；连接阴极室的流出口和阳极室的流入口的连接管(17)；设置在给液管上且将硫酸罐的硫酸通过给液管供给到阴极室中的第1供给泵(13)；以及与阳极室的流出口连接且将在阳极室中通过电解而生成的含有氧化性的化学种的溶液供给到贮液槽中的排出管(18)。
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公开(公告)号：CN101542020A
公开(公告)日：2009-09-23
申请号：CN200880000338.X
申请日：2008-01-11
Applicant: 芝浦机械电子株式会社 , 株式会社东芝 , 氯工程株式会社
IPC: C25B1/28 , H01L21/304
CPC classification number: C25B1/285 , H01L21/67051
Abstract: 本发明的硫酸的电解装置具备：被隔膜(4)分隔形成设有阴极(5a)的阴极室(5)和设有阳极(6a)的阳极室(6)的电解槽(1)；贮存硫酸的硫酸罐；连接硫酸罐和阴极室的流入口的给液管(14)；连接阴极室的流出口和阳极室的流入口的连接管(17)；设置在给液管上且将硫酸罐的硫酸通过给液管供给到阴极室中的第1供给泵(13)；以及与阳极室的流出口连接且将在阳极室中通过电解而生成的含有氧化性的化学种的溶液供给到贮液槽中的排出管(18)。
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