公开(公告)号：CN102102211B

公开(公告)日：2013-01-23

申请号：CN201010591444.9

申请日：2010-12-16

Applicant: 株式会社东芝 ,  芝浦机械电子株式会社 ,  氯工程株式会社

Inventor： 田家真纪子 ,  速水直哉 ,  佐藤伸良 ,  米仓由里 ,  平林英明 ,  黑川祯明 ,  小林信雄 ,  加藤昌明 ,  土门宏纪

IPC: C25B1/30 ,  C25B1/28 ,  C25B1/13 ,  C25B15/02 ,  C25B15/08

CPC classification number: C25B1/22 ,  C25B9/08 ,  G03F1/80 ,  G03F7/423 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/6708

Abstract: 在一个实施方案中，公开了一种蚀刻方法。该方法可以包括通过电解硫酸溶液产生氧化性物质、和通过控制氧化性物质的生成量来产生具有规定的氧化剂浓度的蚀刻溶液。该方法可包括将所生产的蚀刻溶液供应到工件表面。

公开(公告)号：CN102102211A

公开(公告)日：2011-06-22

申请号：CN201010591444.9

申请日：2010-12-16

Applicant: 株式会社东芝 ,  芝浦机械电子株式会社 ,  氯工程株式会社

Inventor： 田家真纪子 ,  速水直哉 ,  佐藤伸良 ,  米仓由里 ,  平林英明 ,  黑川祯明 ,  小林信雄 ,  加藤昌明 ,  土门宏纪

IPC: C25B1/30 ,  C25B1/28 ,  C25B1/13 ,  C25B15/02 ,  C25B15/08

CPC classification number: C25B1/22 ,  C25B9/08 ,  G03F1/80 ,  G03F7/423 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/6708

Abstract: 在一个实施方案中，公开了一种蚀刻方法。该方法可以包括通过电解硫酸溶液产生氧化性物质、和通过控制氧化性物质的生成量来产生具有规定的氧化剂浓度的蚀刻溶液。该方法可包括将所生产的蚀刻溶液供应到工件表面。