公开(公告)号：CN1622290A

公开(公告)日：2005-06-01

申请号：CN200410095653.9

申请日：2004-11-26

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 平林英明 ,  樱井直明 ,  斋藤晶子 ,  佐藤浩史 ,  山田富穗

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00

CPC classification number: B24B37/24

Abstract: 本发明涉及用于化学机械研磨的研磨布，该研磨布具有由酸值为10～100mg KOH/g、羟值为50～150mgKOH/g的(甲基)丙烯酸共聚物构成的成形体。

公开(公告)号：CN1237582C

公开(公告)日：2006-01-18

申请号：CN01818564.9

申请日：2001-10-03

Applicant: 株式会社东芝 ,  日本油脂株式会社

Inventor： 平林英明 ,  斋藤晶子 ,  樱井直明 ,  押部义宏 ,  石户谷昌洋

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00

CPC classification number: H01L21/3212 ,  B24B37/042 ,  B24B37/24 ,  B24B49/16 ,  B24D3/28 ,  B24D3/344 ,  B24D11/001

Abstract: 本发明披露了一种具有擦光层的抛光布，所述擦光层包含在含水介质中可水解的聚合物材料并且在没有进行必须的整修处理下能够显示出相对长时间的稳定的抛光性能。

公开(公告)号：CN1699017A

公开(公告)日：2005-11-23

申请号：CN200510078598.7

申请日：2001-10-03

Applicant: 株式会社东芝 ,  日本油脂株式会社

Inventor： 平林英明 ,  斋藤晶子 ,  樱井直明 ,  押部义宏 ,  石户谷昌洋

IPC: B24B37/04 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明披露了一种具有擦光层的抛光布，所述擦光层包含在含水介质中可水解的聚合物材料并且在没有进行必须的整修处理下能够显示出相对长时间的稳定的抛光性能。

公开(公告)号：CN100467224C

公开(公告)日：2009-03-11

申请号：CN200510078598.7

申请日：2001-10-03

Applicant: 株式会社东芝 ,  日油株式会社

Inventor： 平林英明 ,  斋藤晶子 ,  樱井直明 ,  押部义宏 ,  石户谷昌洋

IPC: B24B37/04 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明披露了一种具有擦光层的抛光布，所述擦光层包含在含水介质中可水解的聚合物材料并且在没有进行必须的整修处理下能够显示出相对长时间的稳定的抛光性能。

公开(公告)号：CN1473358A

公开(公告)日：2004-02-04

申请号：CN01818564.9

申请日：2001-10-03

Applicant: 株式会社东芝 ,  日本油脂株式会社

Inventor： 平林英明 ,  斋藤晶子 ,  樱井直明 ,  押部义宏 ,  石户谷昌洋

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00

CPC classification number: H01L21/3212 ,  B24B37/042 ,  B24B37/24 ,  B24B49/16 ,  B24D3/28 ,  B24D3/344 ,  B24D11/001

Abstract: 本发明披露了一种具有擦光层的抛光布，所述擦光层包含在含水介质中可水解的聚合物材料并且在没有进行必须的整修处理下能够显示出相对长时间的稳定的抛光性能。

公开(公告)号：CN101271978B

公开(公告)日：2010-10-13

申请号：CN200810088204.X

申请日：2008-03-21

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 速水直哉 ,  柴田幸弘 ,  斋藤晶子 ,  门马旬 ,  太田英男

IPC: H01M8/02 ,  H01M8/10

CPC classification number: H01M8/1025 ,  C08G65/405 ,  C08G65/4056 ,  C08G65/4087 ,  C08J5/2256 ,  C08J2371/12 ,  H01M4/8605 ,  H01M8/0289 ,  H01M8/1011 ,  H01M2300/0082 ,  Y02E60/523 ,  Y02P70/56

Abstract: 本发明提供一种能够抑制液体燃料的透过、提高对液体燃料的耐久性、且容易合成的高分子电解质材料以及高分子电解质材料的制造方法、高分子电解质部件、燃料电池及燃料电池的制造方法。根据本发明的一个方式，能够提供一种高分子电解质材料，其特征在于含有苯环、醚、羰基作为主链、且苯环的一部分被磺化。

公开(公告)号：CN101271978A

公开(公告)日：2008-09-24

申请号：CN200810088204.X

申请日：2008-03-21

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 速水直哉 ,  柴田幸弘 ,  斋藤晶子 ,  门马旬 ,  太田英男

IPC: H01M8/02 ,  H01M8/10

CPC classification number: H01M8/1025 ,  C08G65/405 ,  C08G65/4056 ,  C08G65/4087 ,  C08J5/2256 ,  C08J2371/12 ,  H01M4/8605 ,  H01M8/0289 ,  H01M8/1011 ,  H01M2300/0082 ,  Y02E60/523 ,  Y02P70/56

Abstract: 本发明提供一种能够抑制液体燃料的透过、提高对液体燃料的耐久性、且容易合成的高分子电解质材料以及高分子电解质材料的制造方法、高分子电解质部件、燃料电池及燃料电池的制造方法。根据本发明的一个方式，能够提供一种高分子电解质材料，其特征在于含有苯环、醚、羰基作为主链、且苯环的一部分被磺化。

公开(公告)号：CN100413033C

公开(公告)日：2008-08-20

申请号：CN200410095653.9

申请日：2004-11-26

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 平林英明 ,  樱井直明 ,  斋藤晶子 ,  佐藤浩史 ,  山田富穗

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C08F220/06 ,  C08F220/26 ,  C08L33/00 ,  B24D3/20

Abstract: 本发明涉及用于化学机械研磨的研磨布，该研磨布具有由酸值为10～100mgKOH/g、羟值为50～150mgKOH/g的(甲基)丙烯酸共聚物构成的成形体。