半导体级专用姆合金制备方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118207629A

    公开(公告)日:2024-06-18

    申请号:CN202410538090.3

    申请日:2024-04-30

    Abstract: 本发明提供半导体级专用姆合金制备方法,涉及半导体级姆合金硅制备的技术领域,通过使用使用高纯热场拉制电阻面内分布均匀晶棒,再将晶棒切割成预定厚度的样片,将样片进行倒角、研磨、腐蚀、ML贴附、ML研磨、ML电阻測定、外观检查,得到姆合金;以在高纯热场下拉制晶棒使得晶棒内的金属含量低,然后控制样片厚度,对样品进行后续处理,降低杂质含量,使得制成的姆合金纯度高,进而姆合金拉制的产品的体金属稳定,电阻分布均匀,不同批次的电阻率均匀,电阻打靶的准确率提高。

    自行修刀的单晶硅晶棒滚磨机及修刀方法

    公开(公告)号:CN117020956A

    公开(公告)日:2023-11-10

    申请号:CN202311065440.0

    申请日:2023-08-22

    Abstract: 本发明提供一种自行修刀的单晶硅晶棒滚磨机及修刀方法,涉及晶棒滚磨机技术领域,当砂轮或磨头表面粗糙或凹凸不平时,将晶棒取出,通过晶棒夹头将修刀件夹持在原来晶棒的位置上,启动自行修刀的单晶硅晶棒滚磨机,砂轮或磨头进行旋转与修刀件接触,进行修刀,一方面,自行修刀的单晶硅晶棒滚磨机既可通过砂轮、磨头对晶棒进行滚磨加工,也可通过修刀件对砂轮或磨头的表面缺陷进行自动修复,不用频繁更换砂轮或磨头,使得成本降低;另一方面,选择抗磨球墨铸铁作为修刀件的材质,使得修刀件硬度高、耐磨性能强;再一方面,所述修刀件的适用性强,可安装在不同的晶棒滚磨机上进行磨刀。

    改善单晶硅微缺陷的方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116892060A

    公开(公告)日:2023-10-17

    申请号:CN202310926929.6

    申请日:2023-07-26

    Abstract: 本发明提供一种改善单晶硅微缺陷的方法,涉及晶棒拉制方法技术领域,在晶棒拉制过程中,具有冷却系统的热场包括水冷热屏,所述水冷热屏内开设环形水冷空腔,所述环形水冷空腔与所述水冷热屏的形状相同,在所述水冷热屏内的环形水冷空腔通入预定温度的冷水,使得在拉速V相同的情况下,固液界面中心与边缘温度梯度G近似为1,使得单晶横截面不会存在两种不同点缺陷的富积区,进而使得COP缺陷的形成得到了抑制,有效的减少单晶中的粒子缺陷(COP)。

    辅助减少轴承箱震动的夹具及其安装方法

    公开(公告)号:CN116714119A

    公开(公告)日:2023-09-08

    申请号:CN202310923434.8

    申请日:2023-07-26

    Abstract: 一种辅助减少轴承箱震动的夹具及其安装方法,该夹具包括:弧形块、弹性组件和N个固定件;弧形块的正侧面上设置有贯穿的第一固定孔,用以将该弧形块固定在待进行减震的轴承箱上;弧形块的内侧面和外侧面为同向弯曲的弧面,弹性组件固定连接在弧形块的内侧面上,且弹性组件与内侧面之间存在间隙;外侧面上设置有N个第二固定孔,每一个第二固定孔均贯穿弧形块的外侧面和内侧面,每一个固定件的一端均穿过一个第二固定孔接触到弹性组件上。本方案能够减少轴承箱产生的震动,使得线切割机具有更高的精度,进而提高硅片加工的质量。

    单晶硅棒的电阻率调节方法

    公开(公告)号:CN118223110B

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202410346859.1

    申请日:2024-03-26

    Abstract: 本发明提供了一种单晶硅棒的电阻率调节方法,涉及半导体材料制备和材料掺杂技术领域,该方法包括以下步骤:步骤1:配制原料、化料、化料完毕后进行单晶硅拉制;步骤2:在放肩开始后及在等径开始前结束拉晶,并将拉制的肩状硅体取出;步骤3:针对肩状硅体进行电阻率测试;步骤4:判断肩状硅体的实测电阻率是否在目标打靶电阻率范围内;若是则继续进行单晶硅拉制;若超出目标打靶电阻率,则根据预先确定的补掺标准向硅熔体中补掺掺杂剂;并利用补掺掺杂剂后的硅熔体继续进行单晶硅拉制。本方案能够实现晶棒电阻率的准确控制,从而提高晶棒的合格率,同时节省制备目标电阻率晶棒的时间和经济成本。

    消除重掺硼单晶硅棒内部米字形条纹的方法及其产品

    公开(公告)号:CN119411215A

    公开(公告)日:2025-02-11

    申请号:CN202411518030.1

    申请日:2024-10-29

    Abstract: 本发明属于半导体技术领域,具体涉及一种消除重掺硼单晶硅棒内部米字形条纹的方法及其产品,在现有技术的拉晶工序的基础上增加了预热步骤,该步骤中首先将坩埚调整至第一预设位置,且将籽晶降至所述第二预设位置,并停留30 min至50 min,使籽晶能够充分预热,减少籽晶和熔硅的温差,避免在拉晶过程中由于籽晶与熔硅具有较大的温度差而产生位错,停留30 min至50 min后,将坩埚以第一预设速率提升至第三预设位置,同步将籽晶以第二预设速率提升至第四预设位置,将坩埚和籽晶提升的过程中,由籽晶远离坩埚的一端的上方向下通入温度为引晶温度的±15℃的氩气,控制流量为150 slm至160 slm,使籽晶内部温度更加均匀,制备得到的晶棒部分位置内部出现米字形条纹的缺陷。

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