结型场效应晶体管
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100470741C

    公开(公告)日:2009-03-18

    申请号:CN200580002806.3

    申请日:2005-09-08

    CPC classification number: H01L29/808 H01L29/1608 H01L29/8083

    Abstract: 一种结型场效应晶体管(20),包括具有沟道区的n型半导体层(1)、在沟道区上形成的缓冲层(3),以及在缓冲层(3)上形成的p+区(4a,4b)。缓冲层(3)中的电子浓度低于半导体层(1)中的电子浓度。优选地是,使缓冲层(3)中的电子浓度不超过半导体层(1)中电子浓度的十分之一。由此,可以容易地控制阈值电压,并且可以容易地控制沟道的饱和电流密度。

    电源逆变器电路
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104205608B

    公开(公告)日:2017-05-17

    申请号:CN201380018555.2

    申请日:2013-03-22

    Abstract: 根据本发明的一个实施例的电源逆变器电路(1)是桥式电源逆变器电路,该桥式电源逆变器电路包括顺序串联连接在较高与较低电压侧的输入端子之间的第一和第二切换元件(11、12)以及顺序串联连接在较高与较低电压侧的输入端子之间的第三和第四切换元件(13、14),该桥式电源逆变器电路把在较高和较低电压侧上的输入端子之间馈送的直流电力转换成交流电力。第一和第三切换元件(11、13)的组与第二和第四切换元件(12、14)的组中的一组在比另一组的频率更高的频率下控制切换。

    碳化硅半导体器件
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102770949A

    公开(公告)日:2012-11-07

    申请号:CN201180010116.8

    申请日:2011-07-14

    Inventor: 藤川一洋

    Abstract: 提供了一种碳化硅半导体器件,其具有比常规碳化硅半导体器件更低的导通电阻和更高的击穿电压。根据本发明的JFET(10)包括:n型衬底(11)、p型层(2,12)、n型层(13)、源极区(15)、漏极区(17)和栅极区(16)。n型衬底(11)由碳化硅(SiC)制成,并且具有相对于{0001}面具有不小于32°的偏离角的主表面。p型层(2,12)形成在n型衬底(11)的主表面(11A)上,并且具有p型导电性。n型层(13)形成在p型层(2,12)上,并且具有n型导电性。源极区(15)和漏极区(17)形成在n型层(13)中,其间插入有间隔,并且具有n型导电性。栅极区(16)形成在源极区(15)和漏极区(17)之间的区域上的n型层(13)中,并且具有p型导电性。

Patent Agency Ranking