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公开(公告)号：CN119897813A
公开(公告)日：2025-04-29
申请号：CN202510313265.5
申请日：2025-03-17
Applicant: 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院
Abstract: 本发明公开了一种金刚石激光加工用复合磨料抛光盘的制备方法，其特征在于，包括：将金刚石微粉、氧化铝及碳化硅混合，并加入结合剂；将混合原料进行球磨搅拌；将球磨搅拌后的混合原料进行烘干处理及模压成型；将成型毛坯进行烧结及后处理。本发明的有益效果为：显著提升金刚石材料的去除速率，同时降低表面粗糙度，提高加工质量；兼具高切削力与耐磨性，有效延长使用寿命，减少更换频率，提高加工稳定性；具备优异的机械强度和稳定性，提高使用可靠性；确保磨料均匀分布，避免局部过度磨损，提高加工一致性，减少因不均匀抛光导致的加工缺陷；在保证产品质量的同时降低制造成本，使本发明在大规模生产中具备显著的经济优势，提高市场竞争力。
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公开(公告)号：CN119027614B
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN202411129644.0
申请日：2024-08-16
Applicant: 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院
IPC: G06T17/20 , G01N1/34 , G01N33/00 , G06N3/006 , G06V10/774
Abstract: 本发明涉及钻井液检测技术领域，公开了一种用于钻井液特征污染物检测的自动分析系统及方法，该方法包括：获取钻井液样品中各类化学分子的三维结构数据并转换为分子描述符；将分子描述符划分为训练集、验证集与测试集；将训练集中的分子描述符输入随机森林模型中，训练随机森林模型学习分子描述符与污染物浓度之间的关系；确定分子描述符对污染物浓度的贡献值，对分子描述符进行扰动，得到扰动分子描述符并逐一重新输入至随机森林模型，获取扰动污染物浓度；预先设定显著性阈值，判断是否去除当前的分子描述符。本发明通过结合分子结构解析、随机森林模型提供了一种高效、准确、可解释的钻井液污染物检测方案。
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公开(公告)号：CN119083885A
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202411227856.2
申请日：2024-09-03
Applicant: 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院
Abstract: 本发明涉及潜孔锤技术领域，公开了一种仿生气动潜孔锤，包括：外缸、内缸、活塞、上接头、钻头；所述外缸一端与所述上接头连接，所述外缸另一端与所述钻头连接，所述外缸内同轴设置有内缸，所述活塞设置于所述内缸内，所述钻头设置于所述活塞底部；其中，所述钻头包括钻头本体、钻杆和钻齿，所述钻头本体与所述钻杆连接，所述钻齿设置于所述钻头本体表面，所述钻齿设置有四组，每组钻齿以气动潜孔锤的旋转轴线为圆心分布在不同半径的同心圆轨迹上。本发明可以有效提高钻齿强度、延长钻头工作寿命、提高排岩屑效率、优化破岩效果、降低能耗，提升钻进速度，降低钻进成本。
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公开(公告)号：CN119058216A
公开(公告)日：2024-12-03
申请号：CN202411227192.X
申请日：2024-09-03
Applicant: 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院
Abstract: 本发明涉及机械自动化技术领域，公开了一种用于生产多层聚晶金刚石复合片的设备及其压制调控方法，其中设备包含加热部、压力部、冷却部和控制系统。加热部负责提供温度场以生产多层聚晶金刚石复合片；压力部在加热过程中施加压力；冷却部用于合成后对产物进行冷却；控制系统连接各部分，并包含压制调控程序，该程序根据原料数据和目标参数设定工作参数，并根据环境调整冷却部分参数。本发明通过优化压制调控程序，实现了对生产过程的精确控制，从而提高了多层聚晶金刚石复合片的质量和生产效率。
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公开(公告)号：CN119027614A
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202411129644.0
申请日：2024-08-16
Applicant: 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院
IPC: G06T17/20 , G01N1/34 , G01N33/00 , G06N3/006 , G06V10/774
Abstract: 本发明涉及钻井液检测技术领域，公开了一种用于钻井液特征污染物检测的自动分析系统及方法，该方法包括：获取钻井液样品中各类化学分子的三维结构数据并转换为分子描述符；将分子描述符划分为训练集、验证集与测试集；将训练集中的分子描述符输入随机森林模型中，训练随机森林模型学习分子描述符与污染物浓度之间的关系；确定分子描述符对污染物浓度的贡献值，对分子描述符进行扰动，得到扰动分子描述符并逐一重新输入至随机森林模型，获取扰动污染物浓度；预先设定显著性阈值，判断是否去除当前的分子描述符。本发明通过结合分子结构解析、随机森林模型提供了一种高效、准确、可解释的钻井液污染物检测方案。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118910712A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202410818026.0
申请日：2024-06-24
Applicant: 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院
IPC: C25F1/00
Abstract: 本发明公开一种金刚石微器件内部石墨化层去除方法，包括以下步骤：步骤一：准备纳米电解液，步骤二：将金刚石微器件浸泡于纳米电解液中，搭载纳米电解技术实现对石墨化层的高效去除；步骤三：向电解液中加入对金刚石表面具有选择性腐蚀作用的添加剂；步骤四：设置电解液温度，电流密度和电解时间进行电解；步骤五：冷却金刚石微器件，清洗表面，确保去除电解产物和任何残留的石墨化层。可显著提高金刚石微器件内部石墨化层的去除效率。利用纳米电解颗粒的高活性和大比表面积，实现了对石墨化层的高效、选择性去除，缩短了处理时间，提高了生产效率。
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公开(公告)号：CN118900545A
公开(公告)日：2024-11-05
申请号：CN202411153121.X
申请日：2024-08-21
Applicant: 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院
IPC: H05K7/20
Abstract: 本发明公开一种射流微通道散热器，包括：射流孔、横向分布的亲疏水复合微通道、纵向分布的微通道出口、微通道亲水表面和微通道疏水微织构。本发明通过在射流微通道底部制备出亲疏水交替分布的微纳织构，以解决微通道在流动沸腾过程中的气化核心密度低、微通道出口流动稳定性差、流动沸腾压降损失大等问题，将微通道和阵列射流冲击结合起来，不但可以阻碍气泡聚集长大，使得通道内的流动均匀，又能够减小轴向温度梯度，使壁面温度分布更均匀，不但可以降低沸腾换热的临界热通量，还可显著提高沸腾换热系统。
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公开(公告)号：CN118883156A
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202411114746.5
申请日：2024-08-14
Applicant: 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院
Abstract: 本发明涉及钻井液检测技术领域，公开了一种用于钻井液特征污染物检测的自动采样系统及方法，该系统包括：采样模块对钻井液进行深度定距和多点采样，检测特征污染物并构建含量变化趋势图。判断模块比对同水平位置不同点的特征污染物含量，判断分布是否均匀，并构建趋势图。调整模块根据竖直方向趋势判断是否需二次竖直采样，并确定范围和数量；同时根据水平方向趋势判断是否需二次水平采样，并确定相应参数。分析模块存储特征污染物数据，识别扩散路径。本发明实现了钻井液采样精准，采样检测结果精准。
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公开(公告)号：CN118653776A
公开(公告)日：2024-09-17
申请号：CN202411023987.9
申请日：2024-07-29
Applicant: 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院
Abstract: 本发明涉及气动潜孔锤技术领域；且公开了一种气动潜孔锤用防堵结构，包括主体结构，所述主体结构包括有锤体、连接柱；振动结构，所述振动结构包括有连接筒与驱动轮，且连接筒下端的外表面与所述锤体上端的外表面固定连接，并且驱动轮的内表面与所述连接柱的外表面固定连接：固定结构，所述固定结构包括有连接环，且连接环上端的表面与所述锤体下端的外表面固定连接。本发明通过第一齿轮带动第二齿轮与自身相反方向旋转，接着四组啮合柱分别与驱动轮的外表面啮合，使得驱动轮带动设备整体往复旋转，使得设备整体产生震动，可以将连接柱与多组排尘槽内部的灰尘与岩石碎屑抖落，从而避免设备被堵塞而被卡死，保证设备的工作效率。
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公开(公告)号：CN118620526A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202310226044.5
申请日：2023-03-10
Applicant: 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院 , 珀丽诗(河南)文化科技有限公司
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明涉及半导体材料抛光液技术领域，具体为一种宽禁带半导体加工用微纳米气泡抛光液。所述的原位形成微纳米气泡的抛光液，是利用高速研磨球在配置好抛光液中相互撞击产生微小气核制备出含大量的微纳米气泡新型的抛光液。包括以下步骤：(1)选择合适的氧化剂、磨料、酸碱调节剂和分散剂配置抛光液，(2)将配置好的抛光液与相应的研磨球放入球磨机中进行球磨。与传统CMP抛光液相比，该方法通过高速研磨球间的撞击力，一方面可降低磨料的粒径并增强其分散性，另一方面可原位产生微纳米气泡增强抛光液的氧化性，提高半导体晶圆表面材料的去除率和表面质量，实现材料高效、超精密、低损伤的抛光。
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