层叠膜、透明导电膜、光学构件及电子设备

    公开(公告)号:CN115362222B

    公开(公告)日:2024-03-15

    申请号:CN202080099124.3

    申请日:2020-11-02

    Abstract: 提供一种可形成透明性优异、耐弯折性优异、耐擦伤性也优异的层叠膜的活性能量线硬化性硬涂剂、层叠膜、透明导电膜、光学构件及电子设备。本发明的活性能量线硬化性硬涂剂相对于活性能量线硬化性成分(A)100质量份而包含1质量份~30质量份的平均一次粒径小于100nm的金属氧化物(B),在所述活性能量线硬化性成分(A)100质量%中包含合计为50质量%~100质量%的质量平均分子量与每一分子的(甲基)丙烯酰基数量不同的两种氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A1)及(A2),所述(A1)与(A2)的质量比为15/85~75/25。

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