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公开(公告)号：CN103176365A
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN201110434868.9
申请日：2011-12-22
Applicant: 深圳富泰宏精密工业有限公司
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/038 , Y10S430/106 , Y10S430/114 , Y10S430/128
Abstract: 一种菲林，包括膜片及形成于该膜片上的感光层，所述感光层的主要成分为感光剂、光敏剂及热溶胶，所述感光层为水溶性感光层。本发明还提供一种所述菲林的制作方法及应用该菲林进行遮蔽处理的方法。
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公开(公告)号：CN101925469B
公开(公告)日：2013-05-29
申请号：CN200980103031.7
申请日：2009-01-22
Applicant: 宝洁公司
CPC classification number: G03C1/73 , B29C47/822 , B41M5/285 , Y10S430/106 , Y10S430/114 , Y10S430/145 , Y10S430/146
Abstract: 本发明涉及包含聚合物和至少一种多色物质的热塑性材料，其中所述多色物质是具有以下通式结构的官能化联乙炔：X-C≡C-C≡C-Y-(CO)n-QZ其中X为H或烷基，Y为二价亚烷基，Q为O、S或NR，R为H或烷基，并且Z为烷基，并且n为0或1。本发明还涉及加工热塑性材料以形成塑料制品的方法，其中所述方法包括在大于热塑性材料的熔融温度的温度下加工所述热塑性材料的步骤，其中所述热塑性材料包含聚合物和至少一种如上所定义的多色物质；并且所述方法还包括辐射塑料制品以着色所述塑料制品的至少一个区域的步骤。
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公开(公告)号：CN103102251A
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN201210519762.3
申请日：2007-11-01
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07C39/17 , C07C37/20 , C07C39/42 , C07C59/70 , C07C65/105 , C07C69/736 , C08G8/04 , C08G8/08 , C08G8/20 , G03F7/004 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C37/20 , C07C39/12 , C07C39/17 , C07C39/42 , C07C45/49 , C07C59/70 , C07C65/105 , C07C69/736 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , C07C2603/92 , C07D307/33 , C08G8/04 , C08G8/08 , C08G8/20 , G03F7/022 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/109 , C07C47/546
Abstract: 本发明提供了含有高灵敏度、高分辨力、高耐蚀刻性、低逸气量、以及得到的抗蚀图形的形状良好的抗蚀剂化合物的放射线敏感性组合物；以及使用该放射线敏感性组合物的抗蚀图形的形成方法；以及光学特性和耐蚀刻性良好的、而且实质上无升华物的用于形成新的光刻胶下层膜的组合物及由其形成的下层膜。该放射线敏感性组合物含有具有特定结构的环状化合物和溶剂，所述环状化合物为通过醛类化合物A1和酚类化合物A2的缩合反应而合成的分子量为700-5000的环状化合物A，其中所述醛类化合物A1为碳原子数为2-59且具有1-4个甲酰基的化合物，所述酚类化合物A2为碳原子数为6-15且具有1-3个酚羟基的化合物。还提供了用于该组合物的环状化合物。
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公开(公告)号：CN101236356B
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN200710006730.2
申请日：2007-02-02
Applicant: 三星电子株式会社 , 东进半导体化学株式会社
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0045 , Y10S430/106 , Y10S430/114 , Y10S430/118
Abstract: 能够形成高清晰度图案的无需额外的加热处理的光致抗蚀剂组合物，其包含包括至少一种式1单元的10-70重量份的碱-可溶苯酚类聚合物、0.5-10重量份的光-酸产生剂、包括至少一种式2单元的5-50重量份的溶解抑制剂和10-90重量份的溶剂，其中上述组分的量是基于总共100重量份的碱-可溶苯酚类聚合物、光-酸产生剂、溶解抑制剂和溶剂，和其中式1和式2具有以下结构：[式1]其中R为甲基，[式2]其中R1、R2和R3相同或不同，并为氢或叔丁基乙烯醚保护基。
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公开(公告)号：CN101313246B
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN200680043960.X
申请日：2006-11-21
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/122 , Y10S430/123
Abstract: 本发明提供一种辐射敏感树脂组合物，该组合物包含在分辨率性能、热稳定性和储存稳定性方面极好的辐射敏感产酸剂，该组合物抑制由驻波引起的线宽波动和图案外形劣化，并提供在纳米边缘粗糙度和LEF方面改善的抗蚀剂图案。所述辐射敏感树脂组合物的特征在于：(A)包含锍盐化合物和磺酰亚胺化合物的辐射敏感产酸剂，所述锍盐化合物例如2，4-二氟苯磺酸2，4，6-三甲苯基二苯基锍、4-三氟甲基苯磺酸2，4，6-三甲苯基二苯基锍等。优选的是所述组合物还包含(B)树脂，例如4-羟基苯乙烯/4-叔丁氧基苯乙烯共聚物、4-羟基苯乙烯/(甲基)丙烯酸叔丁酯等。
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公开(公告)号：CN101192006B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200710194002.9
申请日：2007-11-26
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0392 , Y10S430/106
Abstract: 本发明提供一种化学放大型正性抗蚀剂组合物，其包含：(A)树脂和(B)酸生成剂，所述的树脂可以通过酚醛清漆树脂、聚(羟基苯乙烯)和具有至少两个乙烯基醚结构的化合物反应得到。
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公开(公告)号：CN101470349B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN200810173347.0
申请日：2008-11-13
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , C07D327/02 , C07D327/04 , C07D497/08 , C08K5/36 , C08K5/42 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123
Abstract: 本发明提供抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、用作该抗蚀剂组合物用产酸剂的新型化合物、用作该化合物的前体的化合物以及该产酸剂。其中，涉及通式(I)表示的化合物；以及通式(b1-1)表示的化合物(式中，Q1是2价连接基团或单键；Y1是可具有取代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基；X表示可具有取代基的碳原子数为3～30的环式基，该环结构中具有-SO2-键。M+是碱金属离子。A+是有机阳离子。)x-Q1-Y1-SO3- M+ …(I)X-Q1-Y1-SO3- A+ …(b1-1)。
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公开(公告)号：CN1818784B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200610007164.2
申请日：2002-11-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 提供了一种正型树脂组合物，它含有：(A)一种树脂组分，它在主链内含有(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并在酯基侧链部分结合了含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团，因此在酸的作用下增加了它在碱中的溶解度；(B)一种能在曝光时产生酸的产酸剂组分；及(C)有机溶剂，其中：组分(A)含有甲基丙烯酸酯衍生的结构单元和丙烯酸酯衍生的结构单元二者。依据这种抗蚀剂组合物，可形成一种在蚀刻时几乎不出现表面的粗糙和线边缘粗糙，且还提供出色的分辨能力和聚焦范围深度广的抗蚀图形。
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公开(公告)号：CN102520583A
公开(公告)日：2012-06-27
申请号：CN201110317143.1
申请日：2003-03-28
Applicant: AZ电子材料日本株式会社
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/0233 , G03F7/0236 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 本发明公开了一种光刻胶组合物，其包含：a)至少一种选自线性酚醛清漆树脂和聚羟基苯乙烯的成膜树脂；b)至少一种光活性化合物或光酸产生剂；和c)包含至少一种选自缩醛和缩酮的溶剂的溶剂组合物。还公开了一种包含聚碳酸酯树脂和溶剂组合物的光刻胶组合物，所述溶剂组合物包含至少一种选自缩醛和缩酮的溶剂。还公开了一种用于将光刻胶组合物成像的方法，其包括如下步骤：a)用任何一种前述光刻胶组合物涂覆基材；b)烘烤基材以基本上去除溶剂；c)成像式照射光刻胶膜；和d)用合适的显影剂去除涂覆基材的成像式曝光或未曝光区域。
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公开(公告)号：CN102317863A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201080007945.6
申请日：2010-02-12
Applicant: 株式会社LG化学
CPC classification number: C07F9/5728 , C07D209/88 , C08F2/50 , G03F7/031 , Y10S430/106 , Y10S430/127
Abstract: 本发明涉及新结构的光活性化合物和含有该光活性化合物的光敏树脂组合物。本发明的光活性化合物由于具有硝基和膦酸酯结构能有效吸收UV光源而具有高敏感性。此外，所述光活性化合物通过与粘合剂树脂和膦酸酯结构的高相容性来改进光敏树脂组合物的可溶性而具有优异的残留膜率、高机械强度、耐热性、耐化学性和耐显影性。因此，所述光敏树脂组合物在硬化液晶显示器的柱状间隔物材料、外涂层材料和钝化材料方面有利，以及高温加工特性有利。
