一种基于时域弹跳射线法的等离子体电磁散射建模方法

    公开(公告)号:CN109581340A

    公开(公告)日:2019-04-05

    申请号:CN201811184487.8

    申请日:2018-10-11

    Inventor: 谢志杰 王彪 高伟

    Abstract: 一种基于时域弹跳射线法的等离子体电磁散射建模方法,利用射线来模拟电磁波在多层等离子体中的反射与折射,并通过对射线的场强追踪和远场求解实现等离子体包覆目标的电磁散射建模,是一种行之有效的稀薄大气层超高速目标电磁散射建模方案,可实现等离子体包覆目标宽带散射特性的快速建模,极大扩展了适用范围。

    基于时域弹跳射线法快速近场计算的ISAR成像仿真方法

    公开(公告)号:CN106556833B

    公开(公告)日:2019-01-08

    申请号:CN201611042312.4

    申请日:2016-11-24

    Abstract: 本发明涉及一种基于时域弹跳射线法快速近场计算的ISAR成像仿真方法,包含:S1、给定目标的三角面片模型和瞬态入射场,该瞬态入射场为任意一种时域波形;S2、采用时域弹跳射线法的近场计算方法,计算时域平面波照射到目标三角面片模型时的瞬态近场散射回波;S3、对目标的瞬态近场散射回波,根据入射信号在频域进行归一化处理;S4、根据ISAR成像分辨率所需角度宽度及采样密度重复执行S2~S3,得到所取角度采样下的回波数据,进行方位向聚焦处理,得到目标ISAR图像。本发明可模拟真实的窄脉冲宽带雷达近距离成像探测,计算速度快,计算精度高,适用范围广,可为目标近场散射成像诊断提供预估数据,节省成本。

    一种吸波材料三维成型制造系统与方法

    公开(公告)号:CN105252779B

    公开(公告)日:2017-05-24

    申请号:CN201510831584.1

    申请日:2015-11-25

    Abstract: 本发明公开了一种吸波材料三维成型制造系统与方法,该方法包含步骤1,树脂基片形吸波材料制备;步骤2,使树脂基片形吸波材料内结构有序成型;步骤3,吸波微粉内结构有序制造;步骤4,热熔塑料基吸波材料三维成型制造;步骤5,热熔塑料基吸波材料磁场控制。本发明还提供了一种吸波材料三维成型制造系统,包含树脂基片形吸波微粒成型制造模块,有序分布吸波微团制备模块,脉冲式加压温控打印模块,三维成型三坐标机构模块。本发明提供的吸波材料三维成型制造系统与方法,结合吸波材料的电磁设计和制造,实现复杂结构吸波材料的制备和内部结构可控制造,提高吸波材料的可设计性,提高吸波材料吸波性能。

    一种THz波段雷达目标电磁散射建模方法

    公开(公告)号:CN106570251A

    公开(公告)日:2017-04-19

    申请号:CN201610948519.1

    申请日:2016-10-26

    Abstract: 本发明涉及THz波段雷达目标电磁散射建模方法,首先建立不同起伏高度的高斯粗糙表面模型;其次对三面角反射器进行四边形网格剖分;然后采用数据结构组织剖分四边形网格的顶点拓扑关系,与生成的粗糙表面叠加即可生成THz波段电磁计算所需的几何输入;最后采用高频方法(物理光学法、弹跳射线法)计算电磁散射特性。本发明在假设表面粗糙目标为高斯分布的前提下,采用高频电磁计算方法建模。考虑到THz波段,雷达目标处于光学区,高频电磁计算方法适用于THz雷达目标特性的求解。

    一种目标强散射源RCS提取算法

    公开(公告)号:CN106324579A

    公开(公告)日:2017-01-11

    申请号:CN201610929956.9

    申请日:2016-10-31

    CPC classification number: G01S7/418 G01S13/89

    Abstract: 本发明公开了一种目标强散射源RCS提取算法,该方法包含如下步骤:S1,对目标的一维距离像进行建模;S2,根据对目标所存在的各类散射机理及其所在径向位置的分析,建立目标中各类散射机理与一维距离像中各峰值之间的映射关系,并对各散射机理对应的一维距离像进行提取;S3,根据目标中强散射源所对应的一维距离像提取结果,采用离散傅里叶变换处理方法获取所述强散射源所对应的RCS。本发明通过对一幅雷达图像的反演可以同时获取目标中多个强散射源所对应的RCS,极大扩展了适用范围。

    一种应用于标签天线设计的复阻抗匹配方法

    公开(公告)号:CN103473427A

    公开(公告)日:2013-12-25

    申请号:CN201310437424.X

    申请日:2013-09-24

    CPC classification number: Y02E40/76 Y02E60/76 Y04S10/545 Y04S40/22

    Abstract: 本发明公开了一种应用于标签天线设计的复阻抗匹配方法,属于天线设计技术领域,该匹配方法包括下列步骤:1)利用标签天线端接负载的复阻抗的值,将标签天线阻抗进行归一化变换,此时负载复阻抗映射到Smith圆图的中心;2)测取标签天线阻抗在变换后的Smith圆图上各个点到中心的距离,即为反射系数的模|Γ|;3)根据步骤二中得到的|Γ|计算标签天线与负载的功率传输系数σ;4)根据步骤三中得到的σ判断匹配设计是否满足要求,如不满足继续调整标签天线参数直至实现匹配。该方法可以直观地从Smith圆图读出标签天线复阻抗与负载的反射系数的模,从而快速计算功率传输系数,解决了在常规Smith圆图上天线复阻抗匹配实现操作较为繁琐的问题,为标签天线复阻抗匹配设计提供有力的手段。

    一种可调谐的透光型吸波结构与制造方法

    公开(公告)号:CN114243309B

    公开(公告)日:2025-03-18

    申请号:CN202111542732.X

    申请日:2021-12-16

    Abstract: 本发明提供一种可调谐的透光型吸波结构,所述可调谐的透光型吸波结构是由多个周期的可调谐的透光型吸波单元通过阵列排列构成,所述单个周期的吸波单元包括:底座,其顶面一端垂直设置有横向支柱;纵向偏转块,其与横向支柱垂直设置;所述纵向偏转块包括:纵向转轴组件,其与横向支柱的中心垂直连接,且与底座平行设置;纵向支柱,其与纵向转轴组件嵌套连接;两片导电薄膜,其分别贴敷在横向支柱和纵向支柱上;旋转纵向转轴组件带动纵向支柱转动,实现吸波结构的吸波波长可调谐。本发明所提供的可调谐的透光型吸波结构及制造方法具有吸波范围广、吸波结构材料轻质以及适应性强等优势。

    一种电磁波多入射角度下的复合材料电磁参数计算方法

    公开(公告)号:CN110472356B

    公开(公告)日:2023-07-07

    申请号:CN201910772812.0

    申请日:2019-08-21

    Abstract: 一种电磁波多入射角度下的复合材料电磁参数计算方法,修正掺杂浓度并在均匀化模型中引入有待定系数的等效复介电常数,建立修正的电磁波多入射角度下的复合材料均匀化模型,由最小二乘法拟合随机掺杂复合材料的屏蔽效能得到引入的待定系数,将拟合得到的待定系数代入修正的电磁波多入射角度下的复合材料均匀化模型,计算得到复合材料的介电常数与电导率。本发明可为各类电磁仿真如电磁防护设计、雷达散射截面计算等提供基础电参数输入,为航空航天器复合材料电磁防护设计仿真电参数输入提供一种有效的技术方案。

    一种含抑制缝隙散射涂层的缩比目标构造方法

    公开(公告)号:CN109614652B

    公开(公告)日:2023-05-23

    申请号:CN201811347672.4

    申请日:2018-11-13

    Abstract: 本发明公开了一种含抑制缝隙散射涂层的缩比目标构造方法,包含以下过程:在考虑缩比材料反射特性的基础上,对目标弱散射源与材料之间的结构效应进行仿真分析,然后通过采取调整缝隙宽度优化出散射特性更为接近的缩比目标模型;构造方法进一步包括:步骤S1、原型隐身材料数据和含缝模型参数的输入;步骤S2、对原型隐身材料斜反射率进行计算;步骤S3、构造缩比材料;步骤S4、设定缝隙宽度;步骤S5、RCS仿真对比;步骤S6、输出缩比目标模型。本发明具有针对含涂层与弱散射的电磁模型,能够保证缩比模型的反射和散射特性的一致性。本发明构造的缩比模型对弱散射源进行缝隙宽度补偿,更方便于缩比模型的制造。

    一种吸波蒙皮制备方法
    80.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111981907B

    公开(公告)日:2022-12-23

    申请号:CN202010940976.2

    申请日:2020-09-09

    Abstract: 本发明公开了一种吸波蒙皮制备方法,包括:利用三维成型工艺根据骨架单元结构模型制备骨架单元结构;在所述骨架单元结构底部设置屏蔽单元结构;将吸波材料填充至所述骨架单元结构内部,并形成吸波单元结构;将所述骨架单元结构、所述吸波单元结构和所述屏蔽单元结构通过热压成型,形成吸波蒙皮。本发明所制备的吸波蒙皮不仅具备高吸波性能和高屏蔽性能,同时具有较好的力学性能;本发明既实现了吸波蒙皮模型构造与制备过程高效的结合,又解决了吸波蒙皮传统多层铺设工艺的繁琐问题。

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