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公开(公告)号:CN102026738A
公开(公告)日:2011-04-20
申请号:CN200980117674.7
申请日:2009-02-04
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: B05D1/26 , C08J7/04 , G02B1/10 , G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/3033
Abstract: 已知有在包含具有磺酸基的有机色素的有机薄膜上涂布包含多价金属盐或氨基化合物盐的溶液来获得耐水性有机薄膜的方法。包含氨基化合物盐的溶液的毒性低于包含多价金属盐的溶液,处理性优异。然而使用氨基化合物盐获得的有机薄膜的耐水性远低于使用多价金属盐所获得的有机薄膜的耐水性,不满足偏光膜用途所需要的水平。通过使包含具有阴离子性基团的有机色素的偏光膜的表面与包含阳离子性聚合物的液体接触,可获得耐水性显著优于以往的偏光膜。
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公开(公告)号:CN101861534A
公开(公告)日:2010-10-13
申请号:CN200880116634.6
申请日:2008-10-14
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , C09K19/60 , G02F1/1335
CPC classification number: C09K19/601 , C09K19/3483 , C09K19/60 , C09K19/606 , G02B5/3016 , G02F1/133528 , Y10T428/1041 , Y10T428/31504
Abstract: 一种偏振片生成用涂布液,其含有在波长400nm以上的可见光区域内具有光吸收特性的溶致液晶化合物(A)、在波长400nm以上的可见光区域内不具有光吸收特性或者光吸收特性小的溶致液晶化合物(B)、和溶解前述溶致液晶化合物(A)及溶致液晶化合物(B)的溶剂。
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公开(公告)号:CN101583692A
公开(公告)日:2009-11-18
申请号:CN200880002420.6
申请日:2008-10-30
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: C09K19/60 , G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: C09K19/601 , C09B31/08 , G02B5/3016 , G02F1/133528 , Y10S428/91 , Y10T428/1041
Abstract: 将以往的含偶氮化合物的液晶性涂布液流延、干燥所得的偏光膜,其在干燥过程中,在膜中析出微细结晶,因此偏光膜的雾度(光散射)变大,透明性变差。正在寻求解决雾度问题的新型含偶氮化合物的液晶性涂布液。一种液晶性涂布液,其特征在于,含有通式(1)所表示的偶氮化合物和溶解所述偶氮化合物的溶剂。式中,Q1表示任选具有取代基的芳基,Q2表示任选具有取代基的亚芳基,R表示氢原子、碳原子数为1~3的烷基、乙酰基、苯甲酰基或苯基(这些基团也任选具有取代基),M表示抗衡离子。
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公开(公告)号:CN101529286A
公开(公告)日:2009-09-09
申请号:CN200780039824.8
申请日:2007-08-29
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/13363
CPC classification number: G02B5/3083 , B29D11/00788 , C09K19/608 , G02F1/133634 , G02F2413/12
Abstract: 本发明的目的在于提供折射率可被3维性地控制、薄型、放置于高温高湿下时光学特性难以降低且取向性良好的双折射薄膜的制造方法。本发明的双折射薄膜的制造方法包括:工序(1)含有至少1种多环式化合物和溶剂且显示向列液晶相的溶液,所述多环式化合物含有-SO3M基及/或-COOM基,M表示平衡离子;工序(2)准备至少一表面被亲水化处理后的基材;及工序(3)在所述工序(2)所准备基材的被亲水化处理后的表面,涂布所述工序(1)所配制的溶液并使其干燥;其中,使所述工序(2)所准备的基材的被亲水化处理后的表面成为在23℃时水的接触角为45°以下。
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