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公开(公告)号：CN1384385A
公开(公告)日：2002-12-11
申请号：CN02121535.9
申请日：2002-03-05
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G02B17/086 , G02B17/004 , G02B17/023 , G02B17/0663 , G02B17/0848 , H04N1/03 , H04N1/0305 , H04N1/0318 , H04N1/1017 , H04N1/192 , H04N2201/02493 , H04N2201/03112 , H04N2201/03116 , H04N2201/03129 , H04N2201/03137 , H04N2201/03145
Abstract: 一种图象读取成象光学系统,用于将图象信息成象在行传感器上并且读取该图象信息,它具有一个成象光学元件,该成象光学元件含有多个在基准轴光线的入射方向和出射方向上彼此不同并且具有曲率的离轴反射表面。
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公开(公告)号：CN104024108B
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201280065715.4
申请日：2012-10-30
Applicant: 波音公司
Inventor： K·J·戴维斯
IPC: B64G1/50
CPC classification number: G02B5/281 , B64G1/50 , G02B1/002 , G02B1/11 , G02B5/204 , G02B5/288 , G02B17/004 , G02F1/17 , G02F2202/30 , H01Q1/288 , H01Q15/002
Abstract: 公开了提供具有可调谐发射率的表面的装置和方法。实例装置包括包含附接到电反射接地平面(106)的介电材料层(108)的阻抗层(104)和布置在阻抗层(104)内的多个谐振器(110)，其中装置的发射率基于谐振器(110)的特性。
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公开(公告)号：CN102959464B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201280001649.4
申请日：2012-04-02
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: G02F1/29 , G02B27/22 , G02F1/13 , G02F1/1335
CPC classification number: G02F1/133553 , G02B5/0278 , G02B17/004 , G02B26/0816 , G02B27/2214 , G02F1/133371 , G02F1/29 , G02F2001/291
Abstract: 使射入的光偏转的光偏转器(10)具备光偏转元件(101)，该光偏转元件使内部的折射率分布被调制，从而使射入的光偏转，射入到光偏转元件(101)的光，多次通过光偏转元件(101)之后，从光偏转元件(101)射出。
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公开(公告)号：CN102495462B
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201110340446.5
申请日：2007-07-26
Applicant: 空间设计股份有限公司
Inventor： J·M·克雷
CPC classification number: G01J1/56 , F03G6/06 , G02B5/045 , G02B17/004 , G02B26/0816 , Y02E10/46
Abstract: 提供了一种用于传递光波所提供的辐射压的方法和装置。在本发明的一方面，提供了用于传递由光波提供的辐射压的方法。该方法使得必须定位具有近全反射表面的反射棱镜(606、607)，其包括初始透明表面(614A、614B)和各自相对于该初始透明表面有角度地定位的一对反射表面(612)。随后，朝着该反射棱镜引导光波，以使得该光波与透明表面大致呈法线并穿过该透明表面。该光波进一步从第一反射表面并随后从第二反射表面反射并通过该透明表面离开棱镜。这样，由反射光波所传递的辐射压作用于该棱镜。
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公开(公告)号：CN103019040B
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201210455308.6
申请日：2007-03-16
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
CPC classification number: G02B17/004 , G02B17/08 , G02B27/0043 , G03F7/70216 , G03F7/70275 , G03F7/70791
Abstract: 一种扫描型曝光装置，使用配置于扫描方向前方侧的第1投影光学系统PL2及配置于扫描方向后方侧的第2投影光学系统PL1，一边改变第1投影光学系统及第2投影光学系统与第1物体M及第2物体P在扫描方向上的位置关系，一边将第1物体的图案转印曝光至第2物体上，且第1投影光学系统及第2投影光学系统分别将第1物体上的视场内的放大像形成于第2物体上的像场内，当将第1投影光学系统及第2投影光学系统的视场的中心彼此在扫描方向上的间隔设为Dm，将第1投影光学系统及第2投影光学系统的像场的中心彼此在上述扫描方向上的间隔设为Dp，且将第1投影光学系统及第2投影光学系统各自的投影倍率设为β时，满足Dp＜Dm×｜β｜（其中，｜β｜＞1）。
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公开(公告)号：CN104659138A
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：CN201410410335.0
申请日：2014-08-20
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L31/054
CPC classification number: G02B5/10 , F21V5/04 , F21V7/0091 , F21V7/06 , F21V7/09 , F21V7/22 , F21V29/503 , F21V29/70 , F21Y2115/10 , G01J1/02 , G02B17/004 , G02B17/0808 , G02B17/0812 , G02B17/0816 , G02B17/0856 , G02B17/086 , G02B17/0864 , G02B17/0868 , G02B17/0872 , G02B17/0876 , G02B17/0888 , G02B19/0028 , G02B19/0042 , G02B19/0047 , G02B19/0061 , G02B19/0071 , H01L31/052 , H01L31/0547 , H01L33/58 , H02S20/30 , H02S40/22 , Y02E10/52 , Y10T428/24273 , Y10T428/24322 , Y10T428/24479 , Y10T428/24612
Abstract: 本发明的目的在于提供光利用效率较高的光学元件。实施方式的光学元件，由相对于光透明的材料构成，该光学元件的特征在于，具备表面、与表面对置的背面、以及连接面，表面在与连接面对置的区域具有凹陷面，凹陷面将与连接面最近的点作为最接近点，在最接近点以外具有第一特殊点。
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公开(公告)号：CN102388327B
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201080012882.3
申请日：2010-02-15
Applicant: 光通量公司
Inventor： P·L·布尔盖
CPC classification number: G02B6/4206 , G02B6/0006 , G02B17/004 , G02B17/008 , G02B17/0605
Abstract: 一种光耦合装置，通过聚集更多的被发射的辐射以及减小发射角度使得球状或半球状光源得到更加完全的利用。所述光耦合装置包括第一二次曲线形反射器，其具有位于第一二次曲线形反射器顶端的孔径；第二二次曲线形反射器，其与所述第一二次曲线形反射器5同轴并开口朝向第一二次曲线形反射器；光源，其放置于第二二次曲线形反射器顶端；以及负元件，其位于孔径处用于减少发射自光耦合装置的光的数值孔径。所述光耦合装置可包括位于第一和第二二次曲线形反射器之间的折射介质。本发明在10传输或耦合光能量进入附加光系统时提供提高了的效率，并且可与固态光及传统光源一同使用。
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公开(公告)号：CN102608762B
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201210086738.5
申请日：2008-11-28
Applicant: 索尼株式会社
Inventor： 武川洋
CPC classification number: G02B6/0016 , G02B5/18 , G02B5/1814 , G02B5/1861 , G02B5/32 , G02B6/00 , G02B17/004 , G02B27/0025 , G02B27/0081 , G02B27/0172 , G02B2027/0112 , G02B2027/0118 , G02B2027/0174
Abstract: 一种图像显示装置，包括图像形成装置、准直光学系统和光学装置，其中所述光学装置包括导光板、由体全息衍射光栅构成的第一衍射光栅元件和第二衍射光栅元件，并且从图像形成装置中心发射并穿过准直光学系统中心的中心光以某一角度从第二衍射光栅元件的近侧输入至导光板。因此，可以提供构造简单并能够避免发生色彩不规则的图像显示装置。
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公开(公告)号：CN103019040A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210455308.6
申请日：2007-03-16
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
CPC classification number: G02B17/004 , G02B17/08 , G02B27/0043 , G03F7/70216 , G03F7/70275 , G03F7/70791
Abstract: 一种扫描型曝光装置，使用配置于扫描方向前方侧的第1投影光学系统PL2及配置于扫描方向后方侧的第2投影光学系统PL1，一边改变第1投影光学系统及第2投影光学系统与第1物体M及第2物体P在扫描方向上的位置关系，一边将第1物体的图案转印曝光至第2物体上，且第1投影光学系统及第2投影光学系统分别将第1物体上的视场内的放大像形成于第2物体上的像场内，当将第1投影光学系统及第2投影光学系统的视场的中心彼此在扫描方向上的间隔设为Dm，将第1投影光学系统及第2投影光学系统的像场的中心彼此在上述扫描方向上的间隔设为Dp，且将第1投影光学系统及第2投影光学系统各自的投影倍率设为β时，满足Dp＜Dm×｜β｜（其中，｜β｜＞1）。
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公开(公告)号：CN1495528B
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN03132763.X
申请日：2003-08-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： L·P·巴克科 , J·乔克斯 , F·J·P·舒厄曼斯 , H·M·维斯塞
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/68
CPC classification number: B82Y10/00 , G02B17/004 , G02B17/006 , G02B27/0043 , G03F7/70166 , G03F7/70175 , G03F7/70891 , G03F7/70916
Abstract: 本发明披露一种光刻投射装置，包括可产生辐射投射光束的辐射系统，投射光束来自辐射源射出的辐射；用于支撑构图部件的支撑结构，当由投射光束辐射时提供带图案的投射光束；用于固定基底的基底台；以及投射系统，设置和安排为将构图部件的照射部分成像在基底的靶部上。辐射系统进一步包括离开光轴一段距离的孔径，从光源方向看位于孔径之后的反射器，以及位于孔径之后的低辐射强度区域内的结构。
