使用法拉第笼的等离子体蚀刻方法

    公开(公告)号:CN112889134A

    公开(公告)日:2021-06-01

    申请号:CN201980053527.1

    申请日:2019-11-04

    Abstract: 本发明提供了一种使用法拉第笼的等离子体蚀刻方法,通过该等离子体蚀刻方法能够有效地产生具有火焰形状的图案部。使用法拉第笼的等离子体蚀刻方法包括以下步骤:通过在蚀刻基板的一个表面上执行第一等离子体蚀刻,以在通过金属掩模暴露的蚀刻基板的一个表面的部分区域上形成第一图案部;以及去除金属掩模,以使蚀刻基板的该一个表面相对于法拉第笼的底表面倾斜的同时将蚀刻基板的该一个表面放置于包括在其上表面上形成的网状部的法拉第笼中;以及进行第二等离子体蚀刻以将第一图案部形成为具有火焰形状的第二图案部。

    光学隔离装置
    52.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109844615B

    公开(公告)日:2021-01-15

    申请号:CN201780062418.7

    申请日:2017-10-13

    Abstract: 本申请涉及光学隔离装置。本申请提供了具有高正向透射率和优异隔离比的光学隔离装置。这样的光学隔离装置可以应用于各种应用,例如光通信或激光光学领域、安全或隐私保护领域、显示器的亮度增强、或者用于隐藏和遮蔽的用途。

    光学隔离元件
    56.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111213077A

    公开(公告)日:2020-05-29

    申请号:CN201880067011.8

    申请日:2018-10-22

    Abstract: 本申请涉及光学隔离元件。本申请的光学隔离元件具有优异的正向透射率,其可以不需要单独的外部力。这样的光学隔离元件可以应用于各种应用,例如光通信或激光光学领域、安全或隐私保护领域、显示器的亮度增强、或者军用隐藏和遮蔽。

    全息图复制方法和全息图复制设备

    公开(公告)号:CN109983407A

    公开(公告)日:2019-07-05

    申请号:CN201780072278.1

    申请日:2017-11-28

    Abstract: 本申请提供了用于透射全息光学元件的再现方法,其能够以连续且经济的过程大量再现透射全息光学元件,具体地,提供了通过使其表面上形成有作为衍射光学元件的母版的激光透射母辊旋转并转移粘附至主辊表面的敏感材料来进行的用于透射全息光学元件的生产方法,所述方法包括以下步骤:向母辊照射激光线光束;以及使穿过母辊的内部并穿透母辊表面上的母版的激光线光束照射至敏感材料。

    偏振转换元件和光学隔离装置

    公开(公告)号:CN109891301A

    公开(公告)日:2019-06-14

    申请号:CN201780062972.5

    申请日:2017-10-13

    Inventor: 韩尚澈

    Abstract: 本申请涉及偏振转换元件和光学隔离装置。本申请提供了能够将非偏振入射光转换成一种偏振光的偏振转换元件和包括所述偏振转换元件的具有优异光学隔离比的光学隔离装置。这样的光学隔离装置可以应用于各种应用,例如光通信或激光光学领域、安全或隐私保护领域、显示器的亮度增强、或者用于隐藏和遮蔽的用途。

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