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公开(公告)号：CN102798917A
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN201110136683.X
申请日：2011-05-25
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 一种彩色图像的制作方法及使用该方法制作的彩色滤光片。该彩色图像和彩色滤光片的色彩由法布里-珀罗谐振腔的共振特性表征。通过纳米压印工艺，制作出具有不同厚度的法布里-珀罗谐振腔，这些不同厚度的法布里-珀罗谐振腔分别对应红色、绿色和蓝色。这些红色、绿色、蓝色法布里-珀罗谐振腔根据分色原理分布，并且其组合在宏观上满足具有表现整体图像的效果。
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公开(公告)号：CN102346269A
公开(公告)日：2012-02-08
申请号：CN201110352070.X
申请日：2011-11-09
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 一种反射式彩色滤光片，包括三种颜色的像素阵列，每种颜色的像素为光栅结构，该光栅结构包括基底、介质光栅以及金属层，所述金属层全覆盖于介质光栅上，该金属层的厚度小于所述介质光栅槽宽的一半，所述介质光栅的厚度与所述光栅结构滤光颜色的补色光相对应。该反射式滤光片基于减色原理进行滤光，不仅具有较高的光能利用率，同时具有低的角度敏感性和利于制作等特点。
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公开(公告)号：CN101546003B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200910031264.2
申请日：2009-04-30
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/20 , G02F1/1335
Abstract: 本发明公开了一种光栅结构彩色滤光片，主要由基板、黑色矩阵、彩色滤光层、保护膜和ITO导电膜组成，其特征在于：在所述基板上覆盖有介质膜层，该介质膜材料的折射率大于1.65，所述彩色滤光层为亚微米埋入式光栅结构，光栅由金属层和低折射率介质层构成，所述金属层位于近基板侧，所述低折射率介质层位于远离基板侧，介质材料的折射率小于1.65；通过不同的光栅结构参数获得不同颜色的光栅单元。本发明基于亚微米埋入式金属光栅结构，其TE、TM偏振光下的透射光谱特性相同，光能利用率高，输出光的纯度高，能进行超大幅面的制造。
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公开(公告)号：CN105445834B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：CN201510701449.5
申请日：2015-10-26
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 一种大尺寸衍射光栅的制作方法及曝光装置，采用小尺寸光栅拼接而成，曝光装置包括两级缩微模块和消零级位相光栅，第一级缩微模块为4F成像系统，第二级缩微模块为双远心缩微投影干涉成像系统，该第二级缩微模块具有比第一级缩微模块更大的缩微倍数，且该第一缩微模块的成像面构成该第二级缩微模块的输入面，该第二缩微模块的输出面构成曝光成像时的记录面，其中第一级缩微模块包括第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组，所述消零级位相光栅位于该第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组之间，当曝光光斑中的条纹位置需要调整时，将该消零级位相光栅沿着垂直于栅线方向进行平移，实现光斑中条纹位置改变。
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公开(公告)号：CN106803872A
公开(公告)日：2017-06-06
申请号：CN201710120595.8
申请日：2017-03-02
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: H04N5/2254 , H04M1/0264 , H04M1/72555 , H04N9/04
Abstract: 一种相机镜头，包括三组成像组件和图像处理器，每一组成像组件包括镜头和传感器，镜头用于在传感器的表面成像形成单色图；图像处理器分别与各成像组件的传感器连接，图像处理器用于接收三幅单色图，并将三幅单色图合成一副彩色图。本发明的相机镜头能形成三幅单色图，并能合成不存在色差的彩色图。本发明还涉及一种手机。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104981356B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201280075075.5
申请日：2012-08-03
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: G02B3/0056 , B42D25/324 , B42D25/342 , B42D25/351 , B42D25/373 , G02B5/18 , G02B5/28 , G02B5/284 , G02B27/12
Abstract: 一种彩色动态放大安全薄膜，包括微透镜阵列层（20）、基材层（21）和微图文层（22）。微图文层由背景区和图文区构成，图文区分布在背景区中。微图文层由上自下依次为半透半反金属层（223）、介质层（230）和金属薄膜层（231）。金属薄膜层为平面结构，图文区的介质层厚度大于背景区的介质层厚度。半透半反金属层厚度一致，在介质层上表面仿形设置，并嵌设在所述基材层的下表面（220）。半透半反金属层、介质层和金属薄膜层构成微腔干涉结构。该彩色动态放大安全薄膜可灵活实现微图文的彩色化输出，可利用压印方式作为大规模快速生产的有效手段，为光学安全薄膜器件提供一种重要的彩色化光学视读方案。
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公开(公告)号：CN103513316B
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201310456357.6
申请日：2013-09-29
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/22
Abstract: 一种选择吸收滤光结构，包括：基底，位于基底上的介质微纳单元，位于介质微纳单元上的金属层，金属层全覆盖在介质微纳单元上，即介质微纳单元的脊部、槽部以及侧壁上都覆盖有金属层，所述金属层的介电常数的虚部需大于介电常数的实部的绝对值。该滤光结构具有较高的吸收效率，且对入射光的角度和偏振态不敏感。同时制备工艺简单，易于实现。该结构可应用在太阳能电池中捕获更多的能量，也能为无油墨印刷中实现黑色提供解决方案，改变必须使用颜料才能实现黑色印刷的传统观念。
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公开(公告)号：CN106061218A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201610412201.1
申请日：2016-06-14
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: H05K9/00
CPC classification number: H05K9/00 , H05K9/0086
Abstract: 本发明公开了一种电磁屏蔽膜的制作方法，其包括以下步骤：1)在导电基板上涂布光刻胶，然后通过光刻工艺在导电基板上形成图形结构；2)通过选择性电沉积工艺在图形结构中生长金属层，形成金属图形结构；3)通过压印工艺将金属图形结构镶嵌至柔性基底材料内，形成电磁屏蔽膜。本发明还公开了一种电磁屏蔽窗的制作方法。本发明具有高透明度、耐温性好的优点，可以满足光学窗对高屏蔽性能、高成像质量、耐温性高的电磁屏蔽膜的要求、柔性电子对电磁屏蔽薄膜弯折性能的需求以及复杂结构表面贴合对屏蔽膜超薄性的要求。
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公开(公告)号：CN105814402A
公开(公告)日：2016-07-27
申请号：CN201380081848.5
申请日：2013-11-27
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
CPC classification number: G02B21/0032 , G02B21/082 , G02B21/367 , G02B26/0833 , G02B27/58
Abstract: 一种连续可调结构光照明的超分辨显微成像方法与系统，包括计算机（34）、光源（12）、可变标度的傅立叶变换光路、位相分光器件（9）、双远心投影光学系统（19）、大数值孔径物镜（30）、样品平台（32）和面阵相机，特征为：傅立叶变换光路包括第一傅立叶变换透镜或透镜组（8）与第二傅立叶变换透镜或透镜组（10），位相分光器件（9）置于两者之间，与第二傅立叶变换透镜或透镜组（10）之间的距离连续可调，具有绕傅立叶变换光路的光轴旋转的运动自由度。该连续可调结构光照明的超分辨显微成像方法与系统可灵活实现连续可变空频的干涉条纹，用于共焦显微光学系统的结构光场照明，实现空间超分辨率成像；在纳秒频闪分幅照明模式下，不仅可实现超分辨率显微成像，提升纳米检测可靠性和检测速度，还可进行样品的动态检测分析，实现瞬态纳米结构的检测。
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公开(公告)号：CN103562755A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201180071287.1
申请日：2011-05-31
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B5/26
CPC classification number: G02B5/26
Abstract: 一种反射式彩色滤光片，包括介质光栅层（220）、金属层（230）和第一介质层（240）。金属层设置于介质光栅层的脊部、至少一个侧部和部分沟槽部之上。反射外部光线的第一介质层设置于介质光栅层和金属层上。由于部分介质光栅层通过金属层在沟槽部上的缺口露出，降低了共振输出的角度敏感性，减少了光线入射角度对共振条件的影响。从而在较宽的角度范围内都能实现反射滤光。
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