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公开(公告)号：CN108780746A
公开(公告)日：2018-11-09
申请号：CN201780016142.9
申请日：2017-02-28
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/304
Abstract: 提供更高性能的基板清洗装置、基板清洗方法、基板处理装置以及基板干燥装置。提供基板清洗装置，该基板清洗装置具有：基板保持旋转机构，该基板保持旋转机构保持基板并使该基板旋转；第一清洗机构，该第一清洗机构使清洗器具与所述基板接触而对所述基板进行清洗，或者通过双流体喷流对所述基板进行清洗，或者使用臭氧水对所述基板进行清洗；以及第二清洗机构，该第二清洗机构使用超声波清洗液对所述基板进行清洗。
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公开(公告)号：CN107004593A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201580061139.X
申请日：2015-11-10
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种基板清洗装置，在进行双流体清洗时，可抑制液滴从护盖弹回，防止液滴再次附着于基板的表面。基板清洗装置(18)具备：保持基板(W)的基板保持机构(1)；使保持于基板保持机构(1)的基板(W)旋转的基板旋转机构(2)；使双流体喷流朝向基板(W)的表面喷出的双流体喷嘴(46)；配置于基板的周围的护盖；及使护盖旋转的护盖旋转机构。护盖旋转机构使护盖在与基板在相同的旋转方向上旋转。
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公开(公告)号：CN105575851A
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201510724374.2
申请日：2015-10-29
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
IPC: H01L21/67
CPC classification number: B08B3/10 , H01L21/67046 , H01L21/67017
Abstract: 本发明提供辊部件、笔部件以及基板处理装置。在表面上形成有突块的辊清洗部件中，提高各突块的清洗力。用于擦洗基板S的被清洗面的辊清洗部件(50)在表面具有多个突块(54)。各突块(54)具有与辊清洗部件(50)的旋转方向c不平行地延伸的缝(542)，由于该缝(542)而在辊清洗部件(50)的周向c上具有多个上游边缘(541e1、541e2)，该上游边缘(541e1、541e2)是在因辊清洗部件(50)进行旋转而使突块(54)的清洗面(541)与基板S的被清洗面接触时最先与被清洗面接触的边缘。
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公开(公告)号：CN103418558A
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：CN201310193584.4
申请日：2013-05-22
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
IPC: B08B1/02 , B08B11/02 , H01L21/304
CPC classification number: H01L21/02041 , B08B1/04 , H01L21/02065 , H01L21/02074 , H01L21/02096 , H01L21/0265 , Y10S134/902
Abstract: 在一边使基板与辊式清洗构件分别旋转一边使其相互接触以对基板进行清洗的清洗机构中，高效率地对基板进行清洗，清洗性能得到综合性提高，而且使考虑逆向汚染的必要性显著降低。本发明的方法是一边使在基板（W）的直径的大致全长上直线状延伸的辊式清洗构件（16）与基板（W）分别向一个方向旋转，一边在存在清洗液的情况下使辊式清洗构件（16）与基板（W）的表面沿着清洗区域（30）相互接触，并对该表面进行擦洗的基板清洗方法，在这种方法中，对基板（W）表面如下所述提供清洗液，以使伴随基板（W）旋转1圈，对清洗区域（30）上的辊式清洗构件（16）与基板（W）的相对转速相对较高的逆向清洗区域（34）提供清洗液之后，对清洗区域（30）上的辊式清洗构件（16）与基板（W）的相对转速相对较低的顺方向清洗区域（32）提供清洗液。
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公开(公告)号：CN303863302S
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201630075885.1
申请日：2016-03-16
Applicant: 株式会社荏原制作所
Designer： 石桥知淳
Abstract: 1.本外观设计产品的名称为基板清洗用辊。2.本外观设计产品用于对附着在实施研磨处理后的基板（半导体晶片等）的表面上的研磨屑等进行清洗，例如，将一对本外观设计产品沿上下相对配置在清洗装置上，在其间隙中配置基板，能够通过一边使本外观设计产品旋转一边使基板在水平面上旋转来进行清洗处理。3.本外观设计产品是针对同一产品的两项相似外观设计，其中指定设计1为基本设计。4.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。5.指定设计1立体图1为最能表明设计要点的视图。6.设计1及设计2各自的后视图与各自的主视图对称，各自的仰视图与各自的俯视图相同，因此省略设计1、设计2各自的后视图及仰视图。
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公开(公告)号：CN303924488S
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201630143493.4
申请日：2016-04-25
Applicant: 株式会社荏原制作所
Designer： 石桥知淳
Abstract: 1.本外观设计产品的名称为基板清洗用海绵。2.本外观设计产品用于清洗晶片等基板的表面，例如在使用状态参考图中所示，在清洗晶片等基板的笔型清洗机等中，安装在一边旋转一边左右摆动的臂部的前端来使用，将本外观设计产品的底面作为清洗面按压在旋转晶片等基板的表面上，来清洗晶片等基板的表面。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4.指定立体图2为最能表明设计要点的视图。5.由于后视图与主视图相同，左视图与右视图相同，故省略后视图和左视图。
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公开(公告)号：CN303863303S
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201630075897.4
申请日：2016-03-16
Applicant: 株式会社荏原制作所
Designer： 石桥知淳
Abstract: 1.本外观设计产品的名称为基板清洗用辊。2.本外观设计产品用于对附着在实施研磨处理后的基板（半导体晶片等）的表面上的研磨屑等进行清洗，例如，将一对本外观设计产品沿上下相对配置在清洗装置上，在其间隙中配置基板，能够通过一边使本外观设计产品旋转一边使基板在水平面上旋转来进行清洗处理。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4.指定立体图1为最能表明设计要点的视图。5.由于后视图与主视图对称，仰视图与俯视图相同，所以省略后视图及仰视图。
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