公开(公告)号：CN220665418U

公开(公告)日：2024-03-26

申请号：CN202321636862.4

申请日：2023-06-26

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 冈本英介 ,  池永知加雄

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  H10K71/16

Abstract: 一种掩模，其可以具备：基材，其包括沿第一方向延伸的第一侧缘和第二侧缘、且包括第一面和第二面；和多个贯通孔组，其贯通所述基材。在俯视时，掩模可以具备：第一部分，其包括至少1个第一贯通孔组；和第二部分，其包括至少1个在第一方向上与第一贯通孔组相邻的第二贯通孔组。第一贯通孔组的第一排列方向与第二贯通孔组的第二排列方向所成的第一角度θ1可以为0.00042°以上。第一排列方向是属于第一贯通孔组且沿着第一侧缘排列的贯通孔的排列方向。第二排列方向是属于第二贯通孔组且沿着第一侧缘排列的贯通孔的排列方向。

公开(公告)号：CN208485938U

公开(公告)日：2019-02-12

申请号：CN201821059026.3

申请日：2018-07-05

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 牛草昌人 ,  中村友祐 ,  冈本英介 ,  村田佳则

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24

Abstract: 本实用新型涉及蒸镀掩模和蒸镀掩模装置。蒸镀掩模(20)具备：第一掩模(30)，其形成有开口部(35)；和第二掩模(40)，其与第一掩模(30)重叠，形成有复数个具有比开口部(35)的面方向尺寸小的面方向尺寸的贯通孔(45)，该蒸镀掩模(20)具有使第二掩模(40)和第一掩模(30)相互接合的复数个接合部(16)，复数个接合部(16)沿着第二掩模(40)的外缘(43)排列，在第二掩模(40)的外缘(43)的与相邻的两个接合部(16)之间对应的位置，形成有切口(46)。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN217895725U

公开(公告)日：2022-11-25

申请号：CN202221496225.7

申请日：2022-06-15

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 冈本英介

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  H01L51/00 ,  H01L51/56 ,  B23P15/00

Abstract: 本实用新型提供掩模装置的制造装置和掩模装置。掩模装置可以具备：框架，其包含隔着开口在第1方向上对置的第1边和第2边、以及隔着开口在与第1方向交叉的第2方向上对置的第3边和第4边；和掩模，其包含固定于第1边和第2边的端部。制造装置可以具备：按压机构，其在朝向开口的方向上按压第1边和第2边；位移测量机构，其对第1边和第2边在第1方向上的变形量进行测量；以及固定装置，其将掩模固定于第1边和第2边。按压机构可以包含：按压第1边的5个以上的按压装置，它们沿着第2方向隔开500mm以下的间隔排列；和按压第2边的5个以上的按压装置，它们沿着第2方向隔开500mm以下的间隔排列。

公开(公告)号：CN215328329U

公开(公告)日：2021-12-28

申请号：CN202120527762.2

申请日：2021-03-12

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 冈本英介 ,  池永知加雄 ,  马场良洋 ,  青木大吾

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/04 ,  C23C14/50

Abstract: 本公开涉及标准掩模装置、掩模支承体、掩模装置及其中间体。有机器件的制造装置的蒸镀室的评价方法具备：蒸镀工序，在蒸镀室中，经由标准掩模装置的标准掩模的贯通孔使材料蒸镀于包含标准标记的标准基板，在标准基板上形成蒸镀层；搬出工序，将形成有蒸镀层的标准基板从制造装置搬出；以及观察工序，观察从制造装置搬出的标准基板中的标准标记与蒸镀层的位置关系。

公开(公告)号：CN209816256U

公开(公告)日：2019-12-20

申请号：CN201821792400.0

申请日：2018-11-01

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 冈本英介

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24

Abstract: 蒸镀掩模装置具有：蒸镀掩模，其包含从位于基板侧的第1面至位于第1面的相反侧的第2面的多个掩模贯通孔；以及框架，其设置有与蒸镀掩模的一部分重叠的开口部并且对蒸镀掩模进行支承。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN209194034U

公开(公告)日：2019-08-02

申请号：CN201821754611.5

申请日：2018-10-26

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 宫谷勋 ,  青木大吾 ,  牛草昌人 ,  村田佳则 ,  冈本英介

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24

Abstract: 本实用新型提供蒸镀掩模，抑制发生贯通孔的位置偏移。蒸镀掩模具有：有效部，在该有效部上设置有多个贯通孔；以及外框部，其包围有效部。有效部包含：外周区域，其与外框部接触；以及中央区域，其被外周区域包围，具有比外周区域大的厚度。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN207608620U

公开(公告)日：2018-07-13

申请号：CN201721635673.X

申请日：2017-11-29

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 中村友祐 ,  冈本英介 ,  牛草昌人

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/04

Abstract: 本实用新型提供蒸镀掩模装置，其能够抑制在蒸镀掩模上产生皱褶或变形。蒸镀掩模装置(10)具备：蒸镀掩模(20)，其具有配置有多个第1贯通孔(25)的有效区域(22)；和安装于蒸镀掩模(20)的框架(15)，该蒸镀掩模装置具有将蒸镀掩模(20)和框架(15)互相接合的多个接合部(60)，多个接合部(60)沿着蒸镀掩模(20)的外缘(26)排列，在蒸镀掩模(20)的外缘(26)上的与相邻的两个接合部(60)之间对应的位置处形成有切口(42)。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利