一种铝旋转靶材的冷喷涂制备工艺及其产品

    公开(公告)号:CN109554673A

    公开(公告)日:2019-04-02

    申请号:CN201811300391.3

    申请日:2018-11-02

    Abstract: 本发明公开了一种铝旋转靶材的冷喷涂制备工艺,以铝粉末为喷涂粉末原料,采用氦气循环冷喷涂系统进行冷喷涂;冷喷涂工艺具体为:将冷喷涂腔室抽真空至0~500Pa,将铝粉末送入冷喷涂系统,利用压缩氦气作为工作气体,带动铝粉末碰撞放置于冷喷涂腔室中基体,在基体表面沉积形成致密涂层;未沉积的铝粉末随同氦气进入过滤系统,过滤后的氦气进入气体增压系统增压后重新返回冷喷涂系统,收集未沉积的铝粉末经筛选后重复使用;冷喷涂过程中,控制冷喷涂腔室内压力维持在5000~20000Pa。本发明提供的铝旋转靶材的冷喷涂制备工艺,工艺简单,铝涂层与基体的结合强度高,无需过渡层。

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