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公开(公告)号：CN102768981A
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：CN201210233324.0
申请日：2012-07-06
Applicant: 上海新傲科技股份有限公司
IPC: H01L21/762
Abstract: 本发明提供了一种带有绝缘埋层衬底的制备方法，包括如下步骤：提供具有相同材料的支撑衬底和器件衬底；采用单面抛光工艺抛光支撑衬底的表面；在支撑衬底的抛光后表面和/或器件衬底的一表面形成绝缘层；以绝缘层为中间层将支撑衬底和器件衬底键合在一起；研磨减薄器件衬底；采用单面抛光工艺抛光器件衬底的被研磨表面，所采用的工艺参数与抛光支撑衬底表面相同。本发明的优点在于，两次抛光工艺采用相同的工艺条件，故抛光后的器件衬底表面应当拥有与支撑衬底表面相同的表面形貌，这样器件衬底表面与支撑衬底表面的形貌配合，能够保证了器件层的厚度是均匀的。
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