一种聚天冬氨酸衍生物及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN117362643A

    公开(公告)日:2024-01-09

    申请号:CN202311266243.5

    申请日:2023-09-26

    IPC分类号: C08G73/10 C02F5/12

    摘要: 本发明属于工业循环水处理技术领域,公开了一种聚天冬氨酸衍生物,其特征在于,其结构式如下式所示: 其中:x和y分别代表未修饰和已修饰的结构单元的聚合度,y/(x+y)×100%=50%~80%。本发明还公开了聚天冬氨酸衍生物(PASP/EDA/BA)的制备方法,即通过“两步法”反应将半个EDTA结构引入聚天冬氨酸分子的侧链中,达到增加分子中羧基数目的目的,该结构中的羧基官能团能够高效地与循环水中的金属离子(钙离子)螯合配位,提高了聚天冬氨酸的阻垢性能,同时通过控制乙二胺的使用量达到控制分子中羧基含量的目的,从而实现对聚天冬氨酸衍生物的精准改性,提高了聚天冬氨酸的阻垢性能。

    耐卤素缓蚀剂氯唑的合成方法
    32.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117304122A

    公开(公告)日:2023-12-29

    申请号:CN202311019470.8

    申请日:2023-08-14

    IPC分类号: C07D249/18 C02F5/12

    摘要: 本发明涉及水处理用缓蚀剂制造技术领域,具体的说是一种适于工业抗氧化性缓蚀要求,工艺简便、产物有效成分纯度高的耐卤素缓蚀剂氯唑的合成方法,其特征在于,包括以下内容:向三口烧瓶中加入甲基苯并三氮唑和无水三氯化铁,开启搅拌;将氯气导管插入液面下,缓慢通入氯气,通入速度以无过量氯气溢出为宜,控制反应温度为25℃;在反应出口将产生的氯化氢气体用液碱吸收,氯气通入结束后,分别用惰性气体及压缩空气进行体系气体置换,得到产品,与现有技术相比,能够合成出收率高达80%的氯唑,该方法简便易控,且在卤素含量高的水中缓蚀效果依然很好。

    一种阻垢剂的制备工艺
    35.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117164127A

    公开(公告)日:2023-12-05

    申请号:CN202311350409.1

    申请日:2023-10-18

    发明人: 罗新兵

    IPC分类号: C02F5/12 C02F5/10 C02F5/14

    摘要: 本发明涉及积垢清除技术领域,公开了提供的一种阻垢剂的制备工艺,如下:步骤一,在惰性条件下,分别将乙醇胺、甲苯、膦基乙烷、催化剂加入的第一反应釜中,进行加热反应,反应完成后进行沉降分离,底流作为中间产品一送入停留槽待用,溢流返回第一反应釜;步骤二,将中间产品一和疏水剂送入第二反应釜中,进行加热反应,反应完成后,送入冷却器降温至室温得到中间产品二;步骤三,将中间产品二和偶联剂送入第三反应釜中,进行加热反应,反应完成后得到中间产品三;步骤四,将中间产品三送入溶解槽,向中间产品三加溶解液溶解,得到最终产品。氧化铝生产过程中通过在溶液中加入阻垢剂,阻止方钠石在生产过程析出。

    一种荧光示踪聚酯阻垢剂及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN117126380A

    公开(公告)日:2023-11-28

    申请号:CN202310839495.6

    申请日:2023-07-10

    摘要: 本发明公开了一种荧光示踪聚酯阻垢剂及其制备方法和应用,属于水处理药剂技术领域。以柠檬酸、聚乙二醇和氨基酸原料,通过两步法缩合反应形成含有六元环状结构的聚酯阻垢剂,所述聚酯阻垢剂的平均分子量为1000~5000,本发明制备的聚酯阻垢剂可生物降解,绿色环保,与水中成垢阳离子具有螯合增溶作用以及垢质晶格畸变作用用于循环冷却水中阻止沉积物的形成,达到阻垢的目的,具有优异的磷酸钙和/或碳酸钙阻垢性能,聚酯阻垢剂具有六元共轭结构,使其具有优异的荧光性能,水溶液的荧光强度和浓度成正比例关系,可实现阻垢剂荧光在线监测和实时控制阻垢剂的投放量,以提高水处理设备的运行水平。

    一种聚天冬氨酸衍生物及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN117069938A

    公开(公告)日:2023-11-17

    申请号:CN202310807845.0

    申请日:2023-07-03

    IPC分类号: C08G73/10 C02F5/12

    摘要: 本发明涉及阻垢剂技术领域,公开了一种聚天冬氨酸衍生物及其制备方法和应用,其中,所述聚天冬氨酸衍生物具有如下式(Ⅰ)所示的结构。本发明是以易降解的聚天冬氨酸为基体,利用2‑氨基乙磺酸、赖氨酸对其进行接枝改性,最终合成了聚天冬氨酸衍生物,该聚天冬氨酸衍生物能直接作用于成垢物晶体生长初期,抑制垢晶体的正常生长,通过多个功能基团同时发挥作用,对钙垢、硅垢、铁的氧化物沉积等都有显著的阻垢效果,且生物降解性良好。本发明提供的所述聚天冬氨酸衍生物可作为阻垢剂使用,不仅绿色环保,而且阻垢效果优良、阻垢剂用量少,同时加药不受装置运行影响,可保证系统稳定运行,减少装置停车。