指向性彩色滤光片和裸眼3D显示装置

    公开(公告)号:CN105487239B

    公开(公告)日:2018-03-02

    申请号:CN201510778086.5

    申请日:2015-11-13

    Abstract: 本发明提供了一种指向性彩色滤光片和裸眼3D显示装置,包括彩色滤光片和指向性功能结构层;彩色滤光片包括多个滤光单元,每一滤光单元包括至少三个不同颜色的滤光子单元;指向性功能结构层包括多个结构单元,每一结构单元与一滤光单元对应设置;每一结构单元包括至少三个结构子单元;每一结构子单元与一滤光子单元对应设置;每一结构子单元包括多个纳米衍射光栅;同一结构子单元内的纳米衍射光栅的周期和取向角不同,从而不会出现同一纳米衍射光栅出射两种颜色的光,导致光线串扰的问题,且该指向性彩色滤光片在技术上较容易实现,使得本发明提供的基于指向性背光技术的无视觉疲劳的多视角的裸眼3D显示装置较易得到实际应用。

    一种可见光宽波段吸收结构及制备方法

    公开(公告)号:CN107515436A

    公开(公告)日:2017-12-26

    申请号:CN201710908653.3

    申请日:2017-09-29

    Applicant: 苏州大学

    CPC classification number: G02B5/003

    Abstract: 本发明公开了一种可见光宽波段吸收结构及其制备方法,其特征在于,其包括:金属基材层,所述金属基材层包括第一表面以及与第一表面相对设置的第二表面;纳米结构,所述纳米结构设于所述金属基材层的第一表面,且阵列设置,形成纳米阵列单元;其中,所述纳米结构由金属材料构成。可见光宽波段吸收结构的纳米阵列单元设置在金属基材层上,结构简单,易于制备,并且另一优选方案,所述金属基材层与所述纳米结构为一体结构,可实现400 nm-600nm波段平均吸收效率大于92%,且在420 nm 和560 nm处,接近100%。

    柔性导电电极的制备方法及该方法制备的电极及其应用

    公开(公告)号:CN105489784B

    公开(公告)日:2017-10-31

    申请号:CN201510906030.3

    申请日:2015-12-09

    Abstract: 本发明公开了一种柔性导电电极的制备方法及该方法制备的电极及其应用,制备方法包括以下步骤:(1)光掩膜版制备:将导电线栅光刻到光掩膜上;(2)电沉积模具制备:然后将线栅型光掩膜版进行紫外曝光,形成图形化线栅沟槽;(3)电沉积工艺:将金属基板放置于电铸沉积槽中,生成电沉积层;(4)生成柔性导电电极:将金属基板上涂布一层固化胶,柔性衬底覆盖于固化胶上,经过紫外固化后脱模,获得柔性导电电极。本发明制备的柔性导电电极的表面平整度只取决于所用金属基板材料的表面平整度,具有较高平整表面,制备的OLED装置不会因透明电极的表面起伏较大,引起背电极与基底相接触,造成短路而损毁,大大提升了使用寿命。

    一种大尺寸衍射光栅的制作方法及曝光装置

    公开(公告)号:CN105445834B

    公开(公告)日:2017-09-01

    申请号:CN201510701449.5

    申请日:2015-10-26

    Abstract: 一种大尺寸衍射光栅的制作方法及曝光装置,采用小尺寸光栅拼接而成,曝光装置包括两级缩微模块和消零级位相光栅,第一级缩微模块为4F成像系统,第二级缩微模块为双远心缩微投影干涉成像系统,该第二级缩微模块具有比第一级缩微模块更大的缩微倍数,且该第一缩微模块的成像面构成该第二级缩微模块的输入面,该第二缩微模块的输出面构成曝光成像时的记录面,其中第一级缩微模块包括第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组,所述消零级位相光栅位于该第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组之间,当曝光光斑中的条纹位置需要调整时,将该消零级位相光栅沿着垂直于栅线方向进行平移,实现光斑中条纹位置改变。

    混合光刻系统及混合光刻方法

    公开(公告)号:CN106681106A

    公开(公告)日:2017-05-17

    申请号:CN201710206374.2

    申请日:2017-03-31

    CPC classification number: G03F7/70383 G03F7/70408 G03F7/7045

    Abstract: 一种混合光刻系统,包括光源、光束整形器、光场调制器、反射镜、成像光学系统和位相器件,光束整形器用于整形光源发出的光束;光场调制器用于将整形后的光束生成图形光;成像光学系统和反射镜用于将光场传递至待曝光的光刻件表面实现直写光刻;位相器件用于在光刻件的表面形成干涉曝光场实现干涉光刻。本发明的混合光刻系统具有直写光刻和干涉光刻两种功能,可进行混合光刻,提高了纳米光刻效率,推动微纳结构相关的器件和材料应用具有重要意义。本发明还涉及一种的混合光刻方法。

    一种头戴式三维显示装置
    40.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106371218A

    公开(公告)日:2017-02-01

    申请号:CN201610970307.3

    申请日:2016-10-28

    Abstract: 本发明公开了一种头戴式三维显示装置,包括图像生成装置,和对应眼睛的可视镜片,所述可视镜片上设有至少一层设置有具有会聚成像功能的纳米结构功能薄膜,从而使得可视镜片成为具有光场变换功能的指向性功能镜片,所述指向性功能镜片上的纳米结构与图像生成装置输出的图像匹配,在人眼前方投射出会聚波面,形成虚拟景象;或该会聚波面与现实景象形成的波面叠加,得到真实世界信息和虚拟世界信息的融合。本发明在眼球前方的空间中会聚视角图像,形成虚拟景象,其和现实景物在人眼中成像的原理一致,因此长时间观看的视觉疲劳度比传统的三维显示技术大大降低。

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