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公开(公告)号：CN106842606B
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201710222207.7
申请日：2017-04-06
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于随机激光散斑的纳米级结构光衍射器件。该结构光衍射器件的衍射结构单元只有几百纳米，甚至几十纳米，具有分辨率高，对比度高和视场角大等优势。在此基础上，本发明还提出了一种纳米级衍射器件的制作方法，即位相光场干涉光刻法。利用该方法可以制备出高品质的深度感知结构光衍射器件。相比于传统的光学元件加工技术，本发明提出的位相光场干涉光刻法具有分辨率高和位相匹配精度高等优势，与紫外投影曝光和电子束直写等光刻技术相比，本发明提出的光刻技术具有速度快、成本低等优势。
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公开(公告)号：CN106448825B
公开(公告)日：2019-01-18
申请号：CN201610917067.0
申请日：2016-10-21
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: H01B5/14
Abstract: 本发明公开了一种图形化精细导电薄膜，其包括基底和图形化精细电极，图形化精细电极放置于基底上或嵌入到基底中，图形化精细电极的电极的宽度在50nm‑10μm之间，高度在10nm‑10μm之间，表面粗糙度在0.1nm到100nm之间。本发明同时还公开了一种图形化精细导电薄膜的制作方法。本发明实现具有精细、高透过率、低方阻、高绕曲性能的图案化电极；不存在刻蚀工艺，绿色环保，电极分辨率能达到100nm，操作简单，适合大面积、低成本生产，可以用于触控屏，太阳能电池，LCD显示，OLED显示，QLED显示等应用领域。
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公开(公告)号：CN105487239B
公开(公告)日：2018-03-02
申请号：CN201510778086.5
申请日：2015-11-13
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/22 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供了一种指向性彩色滤光片和裸眼3D显示装置，包括彩色滤光片和指向性功能结构层；彩色滤光片包括多个滤光单元，每一滤光单元包括至少三个不同颜色的滤光子单元；指向性功能结构层包括多个结构单元，每一结构单元与一滤光单元对应设置；每一结构单元包括至少三个结构子单元；每一结构子单元与一滤光子单元对应设置；每一结构子单元包括多个纳米衍射光栅；同一结构子单元内的纳米衍射光栅的周期和取向角不同，从而不会出现同一纳米衍射光栅出射两种颜色的光，导致光线串扰的问题，且该指向性彩色滤光片在技术上较容易实现，使得本发明提供的基于指向性背光技术的无视觉疲劳的多视角的裸眼3D显示装置较易得到实际应用。
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公开(公告)号：CN105372824B
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：CN201510969723.7
申请日：2015-12-22
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/22
Abstract: 本发明公开了一种裸眼3D显示装置，包括指向投影屏幕、激光器光源及红、绿、蓝三个单色激光光源。利用三个单色激光光源以特定角度和位置入射在具有纳米光栅像素的指向投影屏幕上，形成相同出射光场，激光器光源提供多视角图像像素，多视角图像像素与指向投影屏幕上的纳米光栅像素阵列匹配，通过直接对激光投射光的空间调制，实现了彩色3D显示，且各视点间无串扰，此种裸眼3D显示装置，具有观看无视觉疲劳、成本低的优点。
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公开(公告)号：CN105489784B
公开(公告)日：2017-10-31
申请号：CN201510906030.3
申请日：2015-12-09
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种柔性导电电极的制备方法及该方法制备的电极及其应用，制备方法包括以下步骤：(1)光掩膜版制备：将导电线栅光刻到光掩膜上；(2)电沉积模具制备：然后将线栅型光掩膜版进行紫外曝光，形成图形化线栅沟槽；(3)电沉积工艺：将金属基板放置于电铸沉积槽中，生成电沉积层；(4)生成柔性导电电极：将金属基板上涂布一层固化胶，柔性衬底覆盖于固化胶上，经过紫外固化后脱模，获得柔性导电电极。本发明制备的柔性导电电极的表面平整度只取决于所用金属基板材料的表面平整度，具有较高平整表面，制备的OLED装置不会因透明电极的表面起伏较大，引起背电极与基底相接触，造成短路而损毁，大大提升了使用寿命。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105445834B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：CN201510701449.5
申请日：2015-10-26
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 一种大尺寸衍射光栅的制作方法及曝光装置，采用小尺寸光栅拼接而成，曝光装置包括两级缩微模块和消零级位相光栅，第一级缩微模块为4F成像系统，第二级缩微模块为双远心缩微投影干涉成像系统，该第二级缩微模块具有比第一级缩微模块更大的缩微倍数，且该第一缩微模块的成像面构成该第二级缩微模块的输入面，该第二缩微模块的输出面构成曝光成像时的记录面，其中第一级缩微模块包括第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组，所述消零级位相光栅位于该第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组之间，当曝光光斑中的条纹位置需要调整时，将该消零级位相光栅沿着垂直于栅线方向进行平移，实现光斑中条纹位置改变。
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公开(公告)号：CN106803872A
公开(公告)日：2017-06-06
申请号：CN201710120595.8
申请日：2017-03-02
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: H04N5/2254 , H04M1/0264 , H04M1/72555 , H04N9/04
Abstract: 一种相机镜头，包括三组成像组件和图像处理器，每一组成像组件包括镜头和传感器，镜头用于在传感器的表面成像形成单色图；图像处理器分别与各成像组件的传感器连接，图像处理器用于接收三幅单色图，并将三幅单色图合成一副彩色图。本发明的相机镜头能形成三幅单色图，并能合成不存在色差的彩色图。本发明还涉及一种手机。
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公开(公告)号：CN106681106A
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：CN201710206374.2
申请日：2017-03-31
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70383 , G03F7/70408 , G03F7/7045
Abstract: 一种混合光刻系统，包括光源、光束整形器、光场调制器、反射镜、成像光学系统和位相器件，光束整形器用于整形光源发出的光束；光场调制器用于将整形后的光束生成图形光；成像光学系统和反射镜用于将光场传递至待曝光的光刻件表面实现直写光刻；位相器件用于在光刻件的表面形成干涉曝光场实现干涉光刻。本发明的混合光刻系统具有直写光刻和干涉光刻两种功能，可进行混合光刻，提高了纳米光刻效率，推动微纳结构相关的器件和材料应用具有重要意义。本发明还涉及一种的混合光刻方法。
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公开(公告)号：CN104981356B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201280075075.5
申请日：2012-08-03
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: G02B3/0056 , B42D25/324 , B42D25/342 , B42D25/351 , B42D25/373 , G02B5/18 , G02B5/28 , G02B5/284 , G02B27/12
Abstract: 一种彩色动态放大安全薄膜，包括微透镜阵列层（20）、基材层（21）和微图文层（22）。微图文层由背景区和图文区构成，图文区分布在背景区中。微图文层由上自下依次为半透半反金属层（223）、介质层（230）和金属薄膜层（231）。金属薄膜层为平面结构，图文区的介质层厚度大于背景区的介质层厚度。半透半反金属层厚度一致，在介质层上表面仿形设置，并嵌设在所述基材层的下表面（220）。半透半反金属层、介质层和金属薄膜层构成微腔干涉结构。该彩色动态放大安全薄膜可灵活实现微图文的彩色化输出，可利用压印方式作为大规模快速生产的有效手段，为光学安全薄膜器件提供一种重要的彩色化光学视读方案。
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公开(公告)号：CN103921582B
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：CN201410062088.X
申请日：2014-02-24
Applicant: 苏州大学
Abstract: 一种变色烫金膜及其制造方法，包括基膜、离型层、半透半反金属层、信息介质层、全反型金属层以及热熔胶层，所述信息介质层为可塑变的有机介质涂层，其至少一个表面或者内部设有多种高度不同的台阶，每一种台阶的高度对应一种颜色的法布里-珀罗腔。这些法布里-珀罗腔使得同一片烫印膜上，可以形成多种变色区域、变色图形和文字，也可实现不同偏振下的颜色效果，随着观察角的改变，该新型变色烫印膜的颜色也发生变化。该烫金膜采用卷对卷的方式制造，用热蒸发镀膜部分代替真空溅射镀膜，利用高效的纳米涂布方式制作有机介质涂层，利用压印手段获得台阶和微纳米结构，工艺简单高效，适合大幅面生产。
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