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公开(公告)号：CN113544576A
公开(公告)日：2021-10-22
申请号：CN202080019623.7
申请日：2020-04-01
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: G02B27/42 , F21V8/00 , G02F1/1335
Abstract: 公开了衍射导光板和包括其的显示装置。衍射导光板包括：导光单元，所述导光单元被配置成引导光；第一衍射光学元件，所述第一衍射光学元件包括以预定间距重复形成的线性光栅使得从光源输出的光在导光单元上被接收并引导，并且第一衍射光学元件被配置成使接收的光衍射；以及第二衍射光学元件，所述第二衍射光学元件设置在导光单元的一个表面上的与其中设置有第一衍射光学元件的区域不同的区域中，并且包括设置在其中沿第一方向以预定间距重复排列的虚拟的第一线性图案和沿不同于第一方向的第二方向以预定间距重复排列的虚拟的第二线性图案彼此交叉的区域中的二维图案，其中二维图案的水平截面具有椭圆形形状，并且椭圆形形状的长轴与垂直于包括在所述第一衍射光学元件中的线性光栅的延伸方向的方向之间形成的角度小于20°。
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公开(公告)号：CN111512215A
公开(公告)日：2020-08-07
申请号：CN201980006673.9
申请日：2019-01-14
Applicant: 株式会社LG化学
Abstract: 根据本发明的一个方面的一个示例性实施方案提供了衍射导光板，其包括：配置成引导光的导光单元；输入衍射光学器件，所述输入衍射光学器件配置成接收来自光源的光并衍射接收的光以在所述导光单元上引导接收的光；中间衍射光学器件，所述中间衍射光学器件配置成接收来自所述输入衍射光学器件的衍射光并使接收的光通过衍射进行一维延伸；以及输出衍射光学器件，所述输出衍射光学器件配置成接收来自所述中间衍射光学器件的延伸的光并使接收的光通过衍射从所述导光单元输出，其中所述中间衍射光学器件和所述输出衍射光学器件单独布置在所述导光单元上的沿水平方向划分的区域中，以及所述中间衍射光学器件包括布置成在所述导光单元上沿垂直方向彼此间隔开的主中间衍射光学器件和辅助中间衍射光学器件。
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公开(公告)号：CN111033117A
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201880052164.5
申请日：2018-08-16
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: F21V8/00
Abstract: 本发明涉及制造用于衍射光栅导光板的模具基板的方法，该方法包括以下步骤：准备在其上表面上设置有薄层电阻为0.5Ω/□或更大的网格部分的法拉第笼；将样品基板设置在法拉第笼的底表面上并在其上进行平面等离子体蚀刻以确定法拉第笼中的高蚀刻区域；准备具有倾斜表面的支撑体并将倾斜表面的下部区域布置在法拉第笼的高蚀刻区域中的支撑体布置步骤；将模具用基板设置在支撑体的倾斜表面上；以及通过使用等离子体蚀刻同时在模具用基板的一侧上形成第一倾斜图案部分并在模具用基板的另一侧上形成第二倾斜图案部分的图案化步骤，其中图案化步骤中的蚀刻速率自倾斜表面的上部区域至下部区域逐渐减小然后反转增大，并且包括第一倾斜图案部分的具有深度梯度的倾斜凹槽图案，以及第二倾斜图案部分包括深度偏差为0nm至50nm的倾斜凹槽图案。
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公开(公告)号：CN111052319B
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN201880054020.3
申请日：2018-10-19
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: H01L21/3065 , H01L21/3213 , H01J37/32
Abstract: 本说明书提供了使用法拉第笼的等离子体蚀刻方法。所述等离子体蚀刻方法包括：将在其上表面上具有网部分的法拉第笼设置在等离子体蚀刻装置中的步骤；将石英基板设置在法拉第笼内部的步骤，所述石英基板在其一个表面上具有金属掩模，所述金属掩模中具有开口；以及其中使用等离子体蚀刻对石英基板进行蚀刻的图案化步骤。其中，法拉第笼的底表面包含具有比金属掩模更低的电离倾向的金属。
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公开(公告)号：CN112997109B
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN202080006083.9
申请日：2020-02-24
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: G02B27/42 , G02F1/1335
Abstract: 根据本发明的一个方面的实施方案提供了衍射导光板，包括：引导光的导光单元；接收从光源输出的光并且将接收的光衍射以在导光单元上引导的输入衍射光学元件；以及设置在导光单元的预定区域中并且具有彼此不同的线性光栅图案的两种输出衍射光学元件，其中两种输出衍射光学元件配置成使得每一输出衍射光学元件接收来自输入衍射光学元件的光并且允许接收的光通过衍射导向至另一输出衍射光学元件，并且两种输出衍射光学元件配置成使得每一输出衍射光学元件接收来自另一输出衍射光学元件的光并且允许接收的光通过衍射从导光单元输出，具有彼此不同的线性光栅图案的所述两种输出衍射光学元件在中心区域中在至少一个维度交替排列，该中心区域在所述预定区域内具有至少预定宽度并且从与输入衍射光学元件相邻的侧至与其相对的侧沿长度方向划分。
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公开(公告)号：CN111542771B
公开(公告)日：2022-05-10
申请号：CN201980007146.X
申请日：2019-08-21
Applicant: 株式会社LG化学
Abstract: 根据本发明的一个方面的一个示例性实施方案提供了衍射导光板，其包括：配置成引导光的导光单元；输入衍射光学元件，所述输入衍射光学元件配置成使从光源输出并输入到所述输入衍射光学元件的光衍射，以在所述导光单元上引导输入的光；以及两个衍射光学元件，所述两个衍射光学元件配置成接收来自所述输入衍射光学元件的衍射光并通过衍射将所接收的光一维延伸，其中所述两个衍射光学元件中的一者接收来自所述两个衍射光学元件中的另一者的经延伸的光并通过衍射将所接收的光从所述导光单元输出，并且在所述导光单元上不存在所述两个衍射光学元件彼此交叠的区域。
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公开(公告)号：CN111587390B
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN201980007802.6
申请日：2019-06-21
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: G02B5/30
Abstract: 根据本发明的示例性实施方案的得到用于适当切割偏光板的条件的方法可以包括：(a)准备偏光板，所述偏光板包括粘合剂层并且具有通过基于任何切割条件切割而形成的切割表面；(b)设置偏光板使得偏光板的一端邻接导向单元；(c)使偏光板在导向单元上移动；(d)在移动偏光板的同时测量施加在偏光板与导向单元之间的摩擦力；以及(e)基于摩擦力的测量值和预先设定成关于摩擦力数据的信息的粘合剂泄漏测定标准来得到用于适当切割偏光板的条件。
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公开(公告)号：CN112889134A
公开(公告)日：2021-06-01
申请号：CN201980053527.1
申请日：2019-11-04
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: H01L21/3065 , H01L21/311 , H01L21/3213
Abstract: 本发明提供了一种使用法拉第笼的等离子体蚀刻方法，通过该等离子体蚀刻方法能够有效地产生具有火焰形状的图案部。使用法拉第笼的等离子体蚀刻方法包括以下步骤：通过在蚀刻基板的一个表面上执行第一等离子体蚀刻，以在通过金属掩模暴露的蚀刻基板的一个表面的部分区域上形成第一图案部；以及去除金属掩模，以使蚀刻基板的该一个表面相对于法拉第笼的底表面倾斜的同时将蚀刻基板的该一个表面放置于包括在其上表面上形成的网状部的法拉第笼中；以及进行第二等离子体蚀刻以将第一图案部形成为具有火焰形状的第二图案部。
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