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公开(公告)号：CN107078046A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580058746.0
申请日：2015-10-20
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种可清洗基板的最边缘部的基板清洗辊以及使用其的基板清洗装置。基板清洗装置(10)具备：主轴(11)，保持基板(S)；下部基板清洗辊(13)，具有圆柱形状，以长度方向与基板(S)的表面平行的方式接触基板(S)，并绕长度方向的旋转轴旋转，用于擦洗清洗基板(S)的表面；上下驱动机构，将下部基板清洗辊(13)按压于基板(S)的下侧表面使得长度方向与基板(S)的表面成水平；以及旋转驱动机构，使被上下驱动机构按压于基板(S)的下侧表面的下部基板清洗辊(13)绕旋转轴旋转。下部基板清洗辊(13)在长度方向的至少一端侧具备边缘结(135)，该边缘结(135)具有倾斜面(1351)，在下部基板清洗辊(13)接触基板(S)时，倾斜面(1351)与基板(S)的周缘的斜面部B的最边缘部(侧部R)抵接触碰。
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公开(公告)号：CN111540669B
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202010082181.2
申请日：2020-02-07
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种基板清洗方法、基板清洗装置及存储介质，所述基板清洗方法进行n(n为2以上的整数)次在清洗部件与旋转的基板接触的状态下使所述清洗部件在所述基板上的第一位置与位于所述基板的边缘附近的第二位置之间移动的步骤，控制使所述清洗部件移动的驱动部的控制部控制所述驱动部，以便在第1～(n‑1)次中的至少1次中，在所述清洗部件到达所述第二位置之后，以规定时间执行在所述清洗部件与所述基板上的第二位置接触的状态下进行所述基板的清洗的边缘清洗工序，并且控制所述驱动部，以便在第n次中，在所述清洗部件到达所述基板的所述第二位置的时刻，使所述清洗部件从所述基板离开。
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公开(公告)号：CN113276024B
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202110546709.1
申请日：2015-10-29
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
Abstract: 本发明提供辊部件、笔部件以及基板处理装置。在表面上形成有突块的辊清洗部件中，提高各突块的清洗力。用于擦洗基板S的被清洗面的辊清洗部件(50)在表面具有多个突块(54)。各突块(54)具有与辊清洗部件(50)的旋转方向c不平行地延伸的缝(542)，由于该缝(542)而在辊清洗部件(50)的周向c上具有多个上游边缘(541e1、541e2)，该上游边缘(541e1、541e2)是在因辊清洗部件(50)进行旋转而使突块(54)的清洗面(541)与基板S的被清洗面接触时最先与被清洗面接触的边缘。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111589752B
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202010450792.8
申请日：2015-04-01
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
Abstract: 一边向旋转的半导体晶片等衬底的表面提供清洗液一边清洗衬底的清洗装置中，通过使清洗液在衬底的整个半径流动而使清洗度提高。清洗装置具有：保持衬底(W)并将衬底(W)的中心轴作为旋转轴而使衬底(W)旋转的多根主轴(51)；朝向衬底(W)的上表面排出清洗液(L)的单管喷嘴(41)，单管喷嘴(41)以清洗液(L)着落于衬底W的中心(O)的近前，着落的清洗液(L)在衬底(W)的上表面朝向衬底(W)的中心流动的方式排出清洗液(L)。从单管喷嘴(41)排出的清洗液(L)着落后在衬底(W)的上表面的液流通过衬底(W)的中心(O)。
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公开(公告)号：CN114846581A
公开(公告)日：2022-08-02
申请号：CN202080085194.3
申请日：2020-12-07
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
IPC: H01L21/304 , B08B3/04 , B08B1/04 , B08B7/04
Abstract: 本发明涉及性能及处理量双方皆得以改善的基板清洗装置、研磨装置、抛光处理装置、基板处理装置及用于其中某一者的机械学习器、以及基板清洗方法。基板清洗装置(16)具备：清洗工具(77)，其对保持于基板保持部(71、72、73、74)的基板(W)进行清洗；表面性状测量装置(60)，其获取清洗工具(77)的表面数据；和控制部(30)，其根据表面数据来决定清洗工具(77)的更换时机。每当擦洗规定片数的基板(W)，表面性状测量装置(60)就在清洗工具(77)的至少两个测量点(PA、PB)获取清洗工具(77)的表面数据，控制部(30)根据获取到的表面数据的差值，来决定清洗工具(77)的更换时机。
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公开(公告)号：CN113614885A
公开(公告)日：2021-11-05
申请号：CN202080003844.5
申请日：2020-04-06
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
IPC: H01L21/304
Abstract: 提供一种基板处理装置，具备：第一清洗部件，该第一清洗部件用设置有表皮层的接触面清洗基板；以及第二清洗部件，该第二清洗部件用未设置有表皮层的接触面清洗被所述第一清洗部件清洗后的所述基板。
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公开(公告)号：CN104275317B
公开(公告)日：2020-11-20
申请号：CN201410317584.5
申请日：2014-07-03
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
Abstract: 本发明提供一种快速地从基板上去除用于辊形清洗件进行的清洗的清洗液的基板清洗装置。其具有：对基板(W)进行保持并使其旋转的基板保持部(71～74、75)；将清洗液供给到基板(W)的第1区域(R1)的清洗液供给喷管(87)；在清洗液的存在下通过与基板(W)滑动接触而对基板(W)进行清洗的辊形清洗件(77)；以及将由纯水或者药液构成的流体供给到基板(W)的第2区域(R2)的流体供给喷管(88)。第2区域(R2)相对于辊形清洗件(77)位置第1区域(R1)的相反侧，流体的供给方向是从基板(W)的中心侧朝向外周侧的方向。
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公开(公告)号：CN109075049A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780001599.2
申请日：2017-02-13
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
IPC: H01L21/304
Abstract: 用于清洗基板(W)的清洗部件(10)具有：顶端面(13)，在清洗所述基板(W)时,所述顶端面与所述基板(W)接触，所述顶端面未由表皮层(11)覆盖；及周缘部，所述周缘部具有：设于基部侧且由表皮层(11)覆盖周缘表面的被覆部(16)；及设于顶端侧且未由表皮层(11)覆盖周缘表面的露出部(17)。
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