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公开(公告)号：CN103502850A
公开(公告)日：2014-01-08
申请号：CN201280020165.4
申请日：2012-04-05
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30
CPC classification number: G02B5/3016 , G02B5/305
Abstract: 利用以往的制造方法、即在进行了摩擦处理的薄膜基材的表面涂布包含溶致液晶化合物的溶液而获得的偏光膜的外观均匀性差。[解决手段]本发明的具有薄膜基材和偏光膜的光学层叠体的制造方法包含接下来的工序：在薄膜基材（11）的一侧的主面层叠再剥离薄膜（13）而获得层叠薄膜基材（14）的工序A；对层叠薄膜基材（14）的薄膜基材（11）的另一个主面进行摩擦处理的工序B；在薄膜基材（11）的摩擦处理面上涂布包含溶致液晶化合物和溶剂的溶液的工序C；自层叠薄膜基材（14）剥离再剥离薄膜（13）的工序D。
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