磨削方法
    31.
    发明公开
    磨削方法 审中-实审

    公开(公告)号:CN116572085A

    公开(公告)日:2023-08-11

    申请号:CN202310093992.6

    申请日:2023-02-06

    Abstract: 本发明提供一种在短的磨削时间内形成在多片圆形刀具的每一个所具有的刀尖上无微细崩碎的圆柱形刀具的磨削方法。一种磨削方法,其包括:第1磨削工序,使同轴上排列有多片圆形刀具的圆柱形刀具沿周向旋转,且一边使旋转的杯形砂轮的圆环状平面部与旋转的圆柱形刀具的外周部接触,一边使杯形砂轮沿着圆柱形刀具的旋转轴方向移动,从而对圆柱形刀具的外周部进行磨削,第1磨削工序在根据从旋转轴方向观察杯形砂轮时的、圆柱形刀具的外周部中的棱线与杯形砂轮的圆环状平面部的内周缘部的距离求出的重叠量为0以上且杯形砂轮的内径半径的3/4以下的范围内进行。

    涂布膜的制造方法
    32.
    发明授权

    公开(公告)号:CN115397568B

    公开(公告)日:2023-08-01

    申请号:CN202180027275.2

    申请日:2021-04-12

    Abstract: 本发明提供一种涂布膜的制造方法,其包括:工序A,连续传送长条支撑体,并在连续传送的支撑体上涂布水系涂布液;工序B,在连续传送的支撑体上,对在工序A中所获得的涂布液膜进行干燥,在工序B的涂布液膜的恒速干燥阶段中,在涂布液膜的固体成分浓度为70质量%~95质量%的期间,相对于由支撑体及涂布液膜构成的层叠体,对涂布液膜开始非接触的卷曲限制。

    层叠膜
    34.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107708992B

    公开(公告)日:2019-07-09

    申请号:CN201680035496.3

    申请日:2016-06-15

    Abstract: 本发明的课题在于提供一种具有量子点层等光学功能层的层叠膜,其能够防止由氧等引起的光学功能层的劣化。通过具有层叠体及树脂层来解决上述课题,所述层叠体将阻气层层叠于光学功能层的至少一个表面而成,所述树脂层的氧渗透率为10cc/(m2·天·大气压)以下,覆盖层叠体的端面,且由将固体成分总量设为100质量份时,含有5质量份以上的具有选自(甲基)丙烯酰基、乙烯基、缩水甘油基、氧杂环丁烷基、脂环式环氧基中的至少一种的聚合性官能团的化合物的组合物形成。

    层叠膜
    35.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107708992A

    公开(公告)日:2018-02-16

    申请号:CN201680035496.3

    申请日:2016-06-15

    Abstract: 本发明的课题在于提供一种具有量子点层等光学功能层的层叠膜,其能够防止由氧等引起的光学功能层的劣化。通过具有层叠体及树脂层来解决上述课题,所述层叠体将阻气层层叠于光学功能层的至少一个表面而成,所述树脂层的氧渗透率为10cc/(m2·天·大气压)以下,覆盖层叠体的端面,且由将固体成分总量设为100质量份时,含有5质量份以上的具有选自(甲基)丙烯酰基、乙烯基、缩水甘油基、氧杂环丁烷基、脂环式环氧基中的至少一种的聚合性官能团的化合物的组合物形成。

    聚合物膜
    36.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106363899A

    公开(公告)日:2017-02-01

    申请号:CN201610559843.4

    申请日:2016-07-15

    Inventor: 内海京久

    Abstract: 本发明提供抑制膜卷的卷偏和大体积化的聚合物膜。长条的膜(10)在各侧部具备滚花度方向(Z2)交替连续的波浪状的截面形状。凸部(15)和凹部(16)分别沿膜10的长度方向延伸。在设凸部(15)的宽度为100时,凹部的宽度在80以上且120以下的范围内。在沿宽度方向(Z2)的截面中,凸部(15)的顶点(15a)处的曲率半径R1、凹部(16)的底点(16a)处的曲率半径R2和膜(10)的厚度T满足R1>R2+T。(11)。滚花(11)形成为凸部(15)和凹部(16)沿宽

    卷带方法
    37.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1581303A

    公开(公告)日:2005-02-16

    申请号:CN200410058857.5

    申请日:2004-08-02

    Inventor: 内海京久

    CPC classification number: G11B15/66 G11B15/60

    Abstract: 一种卷带方法,其特征在于,包括:使轴(2)旋转,将磁带(MT)卷绕到它的圆周面上,以便使具有基底薄膜的磁带(MT)卷绕而成的带卷(5)的一个带卷端面(5b)成为凹状的卷绕工序;在基底薄膜的玻化温度之下的所定温度范围内,将带卷(5)加热的加热处理工序。从而提供采用简单易行的工序,可以制造行走稳定性高的磁带、不容易出现卷绕不齐的卷带方法。

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