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公开(公告)号:CN102470509B
公开(公告)日:2014-05-28
申请号:CN201080031670.X
申请日:2010-03-26
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供一种可使加工后的基板表面变平滑,并且是简单的基板的加工装置、使用了该加工装置的基板的加工方法以及使用了该加工方法的加工基板的制造方法。本发明的基板的加工装置是以磨粒(12a)相对于基板(1)的加工面的喷射角度成为脆性加工的角度的方式配置有磨粒(12a)的喷射构件(12)的基板(1)的加工装置(10),在磨粒(12a)的喷射方向上的喷射构件(12)与基板(1)的加工面之间,配置有用于将磨粒(12a)对基板(1)的加工面的进入角度从脆性加工的角度变更为延性加工的角度的喷射方向变更构件(18),喷射方向变更构件(18)是可移动的。
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公开(公告)号:CN1252808C
公开(公告)日:2006-04-19
申请号:CN03147062.9
申请日:2003-07-31
Applicant: 夏普株式会社
Inventor: 吉泽武德
CPC classification number: B65D21/0213 , B65D85/48
Abstract: 一种显示器基底容纳盘,包括一个底部,用于以一种基本上水平的方式在其上放置一个显示器基底,以及一个框架,用于当该显示器基底被放置在该底部上时,包围该显示器基底的至少一部分。该底部上形成有多个孔,多个支撑构件能够被插入所述孔中,用于当该显示器基底被放置在该底部上时,把所放置的显示器基底升起到该底部的上方。
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