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公开(公告)号：CN115668004A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202180037597.5
申请日：2021-05-07
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: G02B1/118 , C08F220/28 , C08F290/06 , G02B1/18
Abstract: 本发明涉及聚合性组合物，含有：(A)具有烯化氧基和(甲基)丙烯酸基、烯化氧当量低于100、(甲基)丙烯酸当量低于200且具有2个以上相同的聚合性基团的化合物；(B)分子量为140以上350以下、不具有烯化氧基、具有(甲基)丙烯酸基、(甲基)丙烯酸当量为137以下且具有2个以上碳碳双键的化合物；(C)具有氟(聚)醚基且具有1个以上碳碳双键的化合物；和(D)聚合引发剂，相对于上述聚合性组合物的合计质量，上述(A)的含量为1.8质量％～98质量％，上述(B)的含量为1.8质量％～98质量％，上述(C)的含量为0.1质量％～10质量％，上述(D)的含量为0.1质量％～10质量％。
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公开(公告)号：CN110199211B
公开(公告)日：2021-08-03
申请号：CN201880007354.5
申请日：2018-01-11
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供防污性、紧贴性、耐擦性以及可靠性均优异且抑制了高湿下的指纹的浮现的防污性膜。本发明的防污性膜具备：基材；以及聚合物层，其配置于上述基材的表面上，在表面具有按可见光的波长以下的间距设置多个凸部的凹凸结构，在上述防污性膜中，上述聚合物层是聚合性组合物的固化物，上述聚合性组合物以有效成分换算含有20～90重量％的具有环氧乙烷基的多官能丙烯酸酯、5～25重量％的单官能酰胺单体、0.5～10重量％的氟系脱模剂，并且上述多官能丙烯酸酯中的上述环氧乙烷基和上述单官能酰胺单体总计含有40～65重量％。
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公开(公告)号：CN110234505B
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201880008922.3
申请日：2018-01-23
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供防污性、耐擦性以及紧贴性均优异的防污性膜。本发明的防污性膜具备：基材；以及聚合物层，其配置于上述基材的表面上，在表面具有按可见光的波长以下的间距设置多个凸部的凹凸结构，在上述防污性膜中，上述聚合物层是聚合性组合物的固化物，上述聚合性组合物以有效成分换算含有30～80重量％的多官能丙烯酸酯、10～30重量％的单官能酰胺单体、0.5～10重量％的氟系脱模剂、5～30重量％的具有由规定的化学式所表示的重复单元的乙烯基系聚合物。
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公开(公告)号：CN109690364B
公开(公告)日：2020-11-10
申请号：CN201780052020.5
申请日：2017-06-28
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供一种防污性、密接性、耐磨性及可靠性均优异的防污性膜。本发明的防污性膜具备：基材；以及聚合物层，其配置在所述基材的表面上，且在表面具有以可见光的波长以下的间距而设有多个凸部的凹凸结构，并且所述聚合物层为聚合性组成物的硬化物，所述聚合性组成物以有效成分换算，含有15重量％～40重量％的六官能以上的丙烯酸氨基甲酸酯、35重量％～60重量％的每个官能基包含3个～15个环氧乙烷基的四官能以上的多官能丙烯酸酯、15重量％～30重量％的不具有环氧乙烷基的单官能丙烯酸酯、0.5重量％～10重量％的具有全氟聚醚基且氟原子浓度为50重量％以下的氟系脱模剂、以及0.5重量％～5重量％的聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN109571836B
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201811142590.6
申请日：2018-09-28
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供即便模具的转印次数增加，也可以抑制聚合物层及模具的脱模性降低、且提高防污性及耐刮擦性的防污膜的制造方法。本发明的防污膜的制造方法是具有基材和聚合物层的防污膜的制造方法，该聚合物层配置于基材表面上，且于表面具有以可见光波长以下的间距设置多个凸部的凹凸结构，该防污膜的制造方法包含：将第一树脂涂布于模具表面上的工序、将第二树脂涂布于基材表面上的工序、于将第一树脂及第二树脂夹于其间的状态下将基材抵压于模具上而形成于表面具有凹凸结构的树脂层的工序、及使树脂层硬化而形成聚合物层的工序，第一树脂含有至少一种氟系脱模剂和丙烯酸2‑(2‑乙烯氧基乙氧基)乙酯，且以有效成分换算计而含有40～95重量％的丙烯酸2‑(2‑乙烯氧基乙氧基)乙酯。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108369293B
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201680073268.5
申请日：2016-12-08
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供能够兼顾基材与聚合物层之间的紧贴性、和耐磨性的光学部件。本发明的光学部件具备：基材；和聚合物层，其在表面具有与上述基材直接接触的凹凸结构，上述凹凸结构的多个凸部以可见光的波长以下的间距设置，上述聚合物层含有酰胺基，上述聚合物层中的上述酰胺基的浓度为2mmol/g以上且不足5mmol/g，测量温度范围‑50～250℃、升温速度5℃/min、以及频率10Hz的条件下的动态粘弹性测量的、上述聚合物层的储能模量E’成为最小的底部温度为110℃以上且210℃以下，并且上述聚合物层的上述储能模量E’的最小值为1×108Pa以上且1×109Pa以下。
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公开(公告)号：CN110591334A
公开(公告)日：2019-12-20
申请号：CN201910905511.0
申请日：2015-11-10
Applicant: 夏普株式会社
IPC: C08L75/04 , C08J5/18 , A01N25/34 , A01N33/04 , A01N37/34 , A01N47/28 , A01N47/40 , A01N59/00 , A01N31/02 , A01P1/00 , A01P3/00 , B32B3/30 , B32B27/40
Abstract: 一种具有具备杀菌作用的表面的合成高分子膜和杀菌方法，合成高分子膜(34A)、(34B)具备具有多个第1凸部(34Ap)、(34Bp)的表面，在从合成高分子膜(34A)、(34B)的法线方向观看时，多个第1凸部(34Ap)、(34Bp)的二维大小在大于20nm且小于500nm的范围内，表面具有杀菌效果，表面所含有的氮元素的浓度为0.7at％以上，表面在多个第1凸部(34Ap)、(34Bp)中的相邻的第1凸部(34Ap)、(34Bp)之间具有平坦部。
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公开(公告)号：CN110234505A
公开(公告)日：2019-09-13
申请号：CN201880008922.3
申请日：2018-01-23
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供防污性、耐擦性以及紧贴性均优异的防污性膜。本发明的防污性膜具备：基材；以及聚合物层，其配置于上述基材的表面上，在表面具有按可见光的波长以下的间距设置多个凸部的凹凸结构，在上述防污性膜中，上述聚合物层是聚合性组合物的固化物，上述聚合性组合物以有效成分换算含有30～80重量％的多官能丙烯酸酯、10～30重量％的单官能酰胺单体、0.5～10重量％的氟系脱模剂、5～30重量％的具有由规定的化学式所表示的重复单元的乙烯基系聚合物。
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公开(公告)号：CN108700679A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780010501.X
申请日：2017-02-15
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供能够兼顾高温/高湿的环境下的基材以及聚合物层之间的紧贴性和耐磨性的光学部件的制造方法。本发明的光学部件的制造方法包括：工序(1)，涂覆下层树脂以及上层树脂；工序(2)，在将已涂覆的上述下层树脂以及上述上层树脂从基材侧依次层叠的状态下，从上述上层树脂侧将模具按压于上述下层树脂以及上述上层树脂，形成在表面具有凹凸构造的树脂层；以及工序(3)，使上述树脂层固化，形成聚合物层，上述下层树脂中的酰胺基的浓度为1.5mmol/g以上且不足5mmol/g，测量温度范围‑50～250℃、升温速度5℃/min以及频率10Hz的条件下的动态粘弹性测量中的、上述聚合物层的储能模量E’成为最小的底部温度为110℃以上且210℃以下，并且上述聚合物层的上述储能模量E’的最小值为1×108Pa以上且1×109Pa以下。
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公开(公告)号：CN107849272A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201680041974.1
申请日：2016-07-11
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 一种具有具备杀菌作用的表面的合成高分子膜以及具备该合成高分子膜的膜。合成高分子膜(34A)、(34B)，其具备具有多个凸部(34Ap)、(34Bp)的表面，在从合成高分子膜(34A)、(34B)的法线方向观察时，多个凸部(34Ap)、(34Bp)的二维大小处于超过20nm且小于500nm的范围内，表面具有杀菌效果。合成高分子膜(34A)、(34B)包括聚氨酯树脂和硅油，硅油的HLB值为，14以上且18以下。
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