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公开(公告)号：CN100501464C
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：CN200610003607.0
申请日：2006-01-04
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G02B5/30
Abstract: 提供一种在膜上褶皱的发生、和膜的断裂少，而且条纹少外观好的偏振光膜的制造方法。本发明的偏振光膜的制造方法，是将聚乙烯醇系膜按膨润处理、染色处理、硼酸处理、水洗处理及干燥处理的顺序处理，从而制造偏振光膜的方法，其特征在于，一边对膜给予张力一边采用多阶段进行干燥处理，进行张力控制，以便使干燥处理的各阶段中的膜的每单位宽的张力达到基本上恒定，并且使后阶段的张力为前阶段的张力以下而进行；进而，其特征在于，使后阶段的干燥温度为前阶段的干燥温度以上而进行。
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公开(公告)号：CN100437162C
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN200410100386.X
申请日：2004-12-09
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明提供染色不匀少、而且褶皱发生频率减少或可降低染色处理后的工序中的张力的偏光膜的制造方法、偏振片和光学叠层体。本发明的偏光膜的制造方法，是在按膨润处理、碘染色处理和硼酸处理的顺序处理聚乙烯醇系膜的工序之前和/或工序中进行单轴拉伸的偏光膜的制造方法，其特征在于，在硼酸处理工序之前在2段以上的染色浴中进行碘染色，而且，在2段以上的染色浴中进行单轴拉伸，(1)使最初的染色浴中的拉伸倍率高于第2段以后的染色浴中的合计拉伸倍率，或(2)使最后的染色浴中的拉伸倍率高于此前的染色浴中的合计拉伸倍率，而进行单轴拉伸。
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公开(公告)号：CN1627107A
公开(公告)日：2005-06-15
申请号：CN200410100387.4
申请日：2004-12-09
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 提供表面状态良好、染色不匀少的偏光膜的制造方法、使用该偏光膜的偏振片的制造方法以及光学叠层体的制造方法。本发明的偏光膜的制造方法，是在按膨润处理、染色处理和硼酸处理的顺序处理聚乙烯醇系膜的工序之前和/或工序中进行单轴拉伸的偏光膜的制造方法，其特征在于，在硼酸处理工序以前设置2段以上的染色浴依次进行染色，与此同时使最后的染色浴含有硼酸。
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