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公开(公告)号：CN104797733A
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201380058995.0
申请日：2013-10-29
Applicant: 株式会社V技术
Inventor： 水村通伸
IPC: C23C14/04
CPC classification number: C23C14/042 , B23K26/066 , C23C14/048 , C23C16/042
Abstract: 本发明包含如下阶段：形成掩模用构件(7)，掩模用构件(7)是形成有贯通孔的薄板状的磁性金属构件和树脂制膜紧贴而成的结构；对上述掩模用构件的上述贯通孔内的上述膜照射激光而形成一定深度的标记；以及以上述标记为基准对预定的位置照射激光而形成贯通上述膜的上述开口图案。
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公开(公告)号：CN102160122B
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN200980137263.4
申请日：2009-09-25
Applicant: 法国圣-戈班玻璃公司
CPC classification number: H01B1/02 , C23C14/048 , H01L31/022425 , H01L31/18 , H05B33/26 , Y02E10/50
Abstract: 本发明涉及亚毫米级格栅的制造，包括：在主表面上由胶体纳米颗粒的溶液生产具有亚毫米级开口(10)的掩模(1)，其被称为网络掩模，该纳米颗粒具有给定的玻璃化转变温度Tg，在低于该Tg的温度下进行该掩模层的干燥；由该网络掩模(1)形成导电格栅，依次包括：沉积至少一种导电材料，其被称为栅极材料，该材料具有小于10-5ohm.cm的电阻率；除去该掩模层，露出该主格栅；任选用电极沉积来沉积被称为覆盖格栅(6)材料的导电材料，因而在主格栅下层的表面是绝缘的；分离厚度为至少500nm的所述主格栅或至少该覆盖格栅。本发明还涉及分离的格栅。
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公开(公告)号：CN103004291A
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201180035007.1
申请日：2011-07-12
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: H01L51/0013 , C23C14/048 , H01L27/3211 , H01L51/0054 , H01L51/0073 , H01L51/008 , H01L51/56 , H01L2251/558 , H05B33/10 , H05B33/22 , Y02E10/549 , Y02P70/521
Abstract: 本发明提供一种具有基板和光热转换层、且光热转换层的表面为粗糙面的转印用施主基板。由此，形成均匀的转印材料的膜，能够制造可形成高精度的细微图案的器件。另外，本发明还提供一种有机EL元件，所述有机EL元件的有机化合物层的至少一部分使用转印法形成，发光区域的发光亮度不均或膜厚不均少。由此，能够提供耐久性也优异的有机EL元件。
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公开(公告)号：CN102909980A
公开(公告)日：2013-02-06
申请号：CN201210422878.5
申请日：2009-12-17
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: B41M5/38207 , B41M5/385 , B41M5/40 , B41M2205/02 , B41M2205/38 , C23C14/048 , H01L27/3211 , H01L51/0013 , H01L51/5012 , H01L51/56
Abstract: 一种转印基板，包括用于热转印的支撑基板和转印层。转印层设置在支撑基板上，包括主体材料和发光掺杂物材料，主体材料和发光掺杂物材料都具有升华温度。升华温度之差被设置在预定范围内。
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公开(公告)号：CN102845134A
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN201180017742.X
申请日：2011-03-28
Applicant: 东丽株式会社
IPC: H05B33/10 , G09F9/00 , G09F9/30 , H01L21/336 , H01L27/32 , H01L29/786 , H01L51/05 , H01L51/42 , H01L51/50
CPC classification number: H01L51/0013 , C23C14/048 , H01L27/3211 , H01L51/56 , Y02E10/549 , Y02P70/521
Abstract: 本发明的目的在于提供一种即使在利用转印法的情况下也可制作高性能的有机EL元件的施主衬底，并提供一种以杂质少的高性能有机EL元件为代表的器件。
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公开(公告)号：CN101916824B
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：CN200910253756.6
申请日：2009-12-17
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: B41M5/38207 , B41M5/385 , B41M5/40 , B41M2205/02 , B41M2205/38 , C23C14/048 , H01L27/3211 , H01L51/0013 , H01L51/5012 , H01L51/56
Abstract: 本发明公开了转印基板和制造显示设备的方法。所述转印基板包括用于热转印的支撑基板和转印层。转印层设置在支撑基板上，包括主体材料和发光掺杂物材料，主体材料和发光掺杂物材料都具有升华温度。升华温度之差被设置在预定范围内。
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公开(公告)号：CN101262727B
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN200810082559.8
申请日：2008-03-03
Applicant: 三星移动显示器株式会社
CPC classification number: H01L51/5281 , B82Y20/00 , B82Y30/00 , C23C14/048 , H01L27/3244 , H01L51/5293 , H01L2251/5369
Abstract: 本发明提供了一种有机发光显示装置，该有机发光显示装置可以不采用滤色器来显示彩色图像，并且可以防止由于外部光的反射引起的对比度下降。该有机发光显示装置包括：基底；有机发光器件，设置在基底上并且发射白光；密封构件，设置在有机发光器件上；二向色层，包含印在基底的一个表面上的椭圆形金属颗粒，并且根据金属颗粒的高宽比允许预定波长带的光透过；1/4波长层，沉积在由基底和二向色层形成的表面中的一个上，并且与二向色层相比远离入射外部光的方向设置，其中，朝向基底显示图像。
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公开(公告)号：CN101477965B
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200810188768.0
申请日：2008-12-25
Applicant: 乐金显示有限公司
CPC classification number: H01L51/0013 , C23C14/048 , H01L27/3244 , H01L27/3246 , H01L51/56
Abstract: 一种有机发光显示器的制造方法，该制造方法包括以下步骤：在目标基板上形成第一电极，并且形成包括将所述第一电极露出的开口区的堤坝层；粘接所述目标基板和中间基板，该中间基板与所述目标基板的顶部相对地隔开并且具有在其上顺序设置的有机材料层、吸收层、反射层以及施主基板；通过将激光照射到所述中间基板上而将有机材料层转移到所述堤坝层内露出的所述第一电极上，由此形成有机发光层；以及将所述目标基板和所述中间基板彼此分离，并且在形成在所述目标基板上的所述有机发光层上形成第二电极，其中所述吸收层的反射率低于所述反射层的反射率。
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公开(公告)号：CN101691652A
公开(公告)日：2010-04-07
申请号：CN200810171398.X
申请日：2008-10-23
Applicant: 株式会社半导体能源研究所
CPC classification number: H05B33/10 , C23C14/042 , C23C14/048 , C23C14/28 , H01L27/3211 , H01L51/0013 , H01L51/56
Abstract: 一个目的是提供一种沉积方法，通过该方法可以以高生产率形成具有所需形状的薄膜。而且，提供了一种制造发光器件的方法，通过该方法可以以高生产率制造具有高清晰度的发光器件。具体而言，提供了制造甚至在使用大尺寸基底的情况下也具有高清晰度的发光器件的方法。通过使用沉积靶基底和面积比沉积靶基底小的遮光板，将沉积靶基底和遮光板彼此对准，并通过多个沉积步骤将蒸发材料沉积在沉积靶基底的至少一部分上。作为蒸发源，优选使用具有蒸发材料的光吸收层和支撑基底。
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公开(公告)号：CN101615658A
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：CN200910148635.5
申请日：2009-06-25
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: C23C14/048
Abstract: 本发明提供了在形成发光层时使用的供体基板，还提供了使用该供体基板制造显示器的方法，所述发光层是通过如下步骤形成的：形成含有发光材料的转印层；使所述转印层和被转印基板相互面对且将辐射线照射至所述转印层；并且使所述转印层升华或气化从而将所述转印层转印至所述被转印基板上。所述供体基板包括：基体；布置在所述基体上的光热转换层；以及布置在所述基体与所述光热转换层之间的热干涉层，所述热干涉层包括折射系数彼此不同的两个以上层。本发明能够通过调整所述热干涉层的折射系数(材料)和厚度，使宽波长范围内的吸收率提高。
