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公开(公告)号：CN118131476A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202410565419.5
申请日：2024-05-09
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
Abstract: 本申请提供一种空间光场成像器件及其制备方法。该空间光场成像器件包括：基材；单层微纳结构，设置于基材的一侧，单层微纳结构包括具有目标相位分布图的成像结构；其中，目标相位分布图被配置为由目标光场经初始成像结构形成目标中间像后，目标中间像逆向传播至透过初始成像结构时于初始成像结构的表面形成的相位分布图与初始成像结构的相位分布图相与或相切形成。上述空间光场成像器件有利于实现“消色差”的空间光场成像，保证成像的清晰度，并且不仅可实现近距离三维空间成像效果，也可以实现远距离空间投影成像效果。
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公开(公告)号：CN115497402A
公开(公告)日：2022-12-20
申请号：CN202211138997.8
申请日：2022-05-20
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种立体光影彩色装饰纹理。包括自上而下依次设置的基层、第一胶层、第一复合层；第一复合层包括第一薄膜层和第一微结构层；第一微结构层上包括第一精密微结构主体层、第一镀膜层和第一油墨层，第一镀膜层为仿精密微结构主体层表面形状的共形结构，油墨填充于第一镀膜层的凹槽内；或第一复合层包括第一薄膜层、第一微结构层和第一镀膜层，第一微结构层上设置有精密微结构，其包括复数个微纳子结构，微纳子结构上设置有凹槽，凹槽内填充有油墨；第一薄膜层通过第一胶层固定设置于基层上。本发明装饰纹理使用微纳光刻技术转印微纳纹理于基材上，通过在基材上设置精密微结构，呈现立体，光影，彩色的效果；且能具备纹理的炫光效果。
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公开(公告)号：CN114639326B
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202210548852.9
申请日：2022-05-20
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G09F19/12
Abstract: 本发明公开一种呈现立体浮雕图像的精密微结构及其制备方法与应用。本发明提供的精密微结构包括：复数个微纳子结构，复数个所述微纳子结构的周期按预设规律排布，用于呈现立体浮雕效果；所述微纳子结构上设置有至少一个凹槽，所述凹槽包含至少两个相对的侧壁和一个底部，所述凹槽内设置有油墨，用于呈现颜色效果。这样，所述精密微结构可以呈现立体浮雕效果和呈现颜色效果。本发明提供了一种精密微结构的制备方法，通过转印固化、填充油墨和清洗的方法，使用的油墨量少。本发明还提供了另一种制备方法，通过网纹辊将油墨附着在模版上，在转印微纳子结构的同时，将油墨一并填充在凹槽中，该方法步骤更为简便，使用的油墨量更少，低碳环保。
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公开(公告)号：CN114609871A
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN202011421768.8
申请日：2020-12-08
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种采用组合光阑的光刻方法，该方法包括如下步骤：设计所需的图形，并进行图形处理以形成图形位图；将图形位图生成n套数据文件；根据实际需求，确定光阑大小；将光阑分成k个子光阑文件；光刻，将n套数据文件与k个子光阑文件一一对应进行光刻，n＝k，其中，每次光刻前均完成一套数据文件与一个子光阑文件的对应。采用多套数据文件，对应多套子光阑文件嵌套光刻的方式对同一个光阑内进行光刻，使在一个光刻形成的子光阑文件内形成一个具有有不同角度或者周期的光栅组合，从而减少了边缘的锯齿，降低了数据量，提高了分辨率；并且通过这种方法，可以任意划分光阑，调整亮暗比例，可以产生更多的视觉效果。
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公开(公告)号：CN112684677B
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN202110270751.5
申请日：2021-03-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构及其制备方法。所述制备方法包括：提供三维模型图；将所述三维模型图在高度方向上进行划分，获得至少一个高度区间；将三维模型图在平面上进行投影得到映射关系，映射关系包括三维模型图上每个点对应在平面上的坐标，三维模型图上每个点的高度对应高度区间里的高度值，根据所述映射关系，将映射关系与曝光剂量进行对应，基于所述曝光剂量进行光刻。这样，可以得到任意三维微纳形貌结构。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119636294A
公开(公告)日：2025-03-18
申请号：CN202311192101.9
申请日：2023-09-15
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏大维格(盐城)光电科技有限公司
Abstract: 本申请提供一种变色浮雕纹理立体增强结构及其制备方法，所述变色浮雕纹理立体增强结构包括：第一纹理层、基材层以及第二纹理层；所述第一纹理层以及所述第二纹理层分布在所述基材层两侧；所述第一纹理层和第二纹理层结构为根据菲涅尔规律排布的倾斜面结构，所述第一纹理层结构与第二纹理层结构为互补结构；所述第一纹理层和所述第二纹理层的倾斜面结构中的凹陷部分均设有填墨层；所述油墨的颗粒尺寸小于所述凹陷部分的宽度，所述油墨的颗粒尺寸范围为10nm～15μm。通过在倾斜面结构中进行油墨填充，根据结构的排布能形成深浅不同色彩效果。
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公开(公告)号：CN115527467A
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN202211148156.5
申请日：2022-05-20
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G09F19/12
Abstract: 本发明公开一种烫印膜、转移膜、复合纸及转移纸。烫印膜、转移膜、复合纸及转移纸均包含精密微结构层，精密微结构层的表面上设置有精密微结构；烫印膜包括基膜层、精密微结构层、介质层以及热熔胶层；转移膜包括基膜层、精密微结构层以及介质层；复合纸基膜层、精密微结构层、介质层、热熔胶层以及底纸层；转移纸包括精密微结构层、介质层、热熔胶层以及底纸层。本发明设置有精密微结构，精密微结构呈现彩色、立体浮雕、动态光学效果；凹槽的宽度小于30μm，在凹槽中填充微纳级的油墨，更为精细，呈现的图像更为细腻。油墨只是填充在凹槽内，减少了油墨的使用；并且不需要后续再进行印刷，减少了工艺步骤，降低了成本。
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公开(公告)号：CN114639326A
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN202210548852.9
申请日：2022-05-20
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G09F19/12
Abstract: 本发明公开一种呈现立体浮雕图像的精密微结构及其制备方法与应用。本发明提供的精密微结构包括：复数个微纳子结构，复数个所述微纳子结构的周期按预设规律排布，用于呈现立体浮雕效果；所述微纳子结构上设置有至少一个凹槽，所述凹槽包含至少两个相对的侧壁和一个底部，所述凹槽内设置有油墨，用于呈现颜色效果。这样，所述精密微结构可以呈现立体浮雕效果和呈现颜色效果。本发明提供了一种精密微结构的制备方法，通过转印固化、填充油墨和清洗的方法，使用的油墨量少。本发明还提供了另一种制备方法，通过网纹辊将油墨附着在模版上，在转印微纳子结构的同时，将油墨一并填充在凹槽中，该方法步骤更为简便，使用的油墨量更少，低碳环保。
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公开(公告)号：CN113515021A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202110667771.6
申请日：2021-03-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构。所述三维微纳形貌结构包括:基体；形成于所述基体上的至少一个三维微纳形貌单元，其中每个三维微纳形貌单元包括至少一个视觉高点，所述每个三维微纳形貌单元包括复数个从视觉高点开始斜坡形貌斜率按预设规律变化的环带。所述三维微纳形貌结构具有非常逼真的立体视觉。
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公开(公告)号：CN113002212A
公开(公告)日：2021-06-22
申请号：CN201911323487.6
申请日：2019-12-20
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: B42D25/328 , B42D25/40 , B42D25/45 , B44C5/04 , G02B5/32
Abstract: 本发明公开了一种具有全息防伪效果的复合材料及其制作方法，所述复合材料包括全息层、介质镀层、保护层；所述全息层包括有支撑层，和形成于所述支撑层表面的全息防伪微纳结构；所述透明介质镀层形成于所述全息层上并覆盖所述全息防伪微纳结构；所述保护层形成于透明介质镀层上，所述保护层由UV光固化涂料涂层和/或热固性涂料涂层固化而成。本发明克服现有技术存在的不足，解决现有技术中存在的问题，提供了一种物理强度更高的具有全息防伪效果的复合材料及其制作方法，此复合材料耐磨和耐弯折性能强，防伪技术含量等级较高，光学效果显著，易于快速辨别真伪，长期使用中产品品质稳定，同时此具有全息防伪效果的复合材料不易于仿制、不易被篡改信息。
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