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公开(公告)号：CN1821883A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200610037797.8
申请日：2006-01-12
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明公开了一种对光滑表面进行光刻蚀的方法，采用大功率激光器作为光源，将激光束准直成平行光，经过光阑及透镜后，由分束元件产生分束光束，再会聚到材料表面，形成均匀干涉条纹光场，在光滑表面材料上进行超过材料损伤阈值的光蚀实现图像制作，其特征在于：所述光源采用紫外光输出的大功率二极管泵浦的固态激光器的三倍频或四倍频，所述光阑为可调矩形光阑，在同一位置进行单次脉冲加工，控制激光器的功率，使得在干涉条纹的光强相长处材料发生气化，在材料表面形成条纹结构。并以此制作方法实现微米级条纹高速激光光蚀系统，从而使得激光微米级光栅图像的加工进入真正意义上的工业化应用阶段，是一种微米级结构的先进制造技术。
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公开(公告)号：CN1786823A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200510095777.1
申请日：2005-11-17
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种消色差光变图像的制作方法，构建定向散斑生成器，以不同取向的狭缝光阑作为目标物光场，采用迭代傅里叶变换算法计算得到的具有定向衍射特性的二元位相结构，作为光变图像的微结构；根据所需生成的光变图像，用上述定向散斑生成器进行数字化表达，获得光变图像的散斑位相结构；通过空间光调制器，用激光成像系统进行激光直写，获得所需的消色差光变图像。本发明不需要利用干涉等方法来获取散斑，可以利用激光成像系统直写出散斑结构的光变图像，分辨率高，实现了消色差的精密光变图像设计与制作；同时，其适合于热压复制工艺，为制造消色差微光变图像提供了一种新方法。
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公开(公告)号：CN100468205C
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200510095777.1
申请日：2005-11-17
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种消色差光变图像的制作方法，构建定向散斑生成器，以不同取向的狭缝光阑作为目标物光场，采用迭代傅里叶变换算法计算得到的具有定向衍射特性的二元位相结构，作为光变图像的微结构；根据所需生成的光变图像，用上述定向散斑生成器进行数字化表达，获得光变图像的散斑位相结构；通过空间光调制器，用激光成像系统进行激光直写，获得所需的消色差光变图像。本发明不需要利用干涉等方法来获取散斑，可以利用激光成像系统直写出散斑结构的光变图像，分辨率高，实现了消色差的精密光变图像设计与制作；同时，其适合于热压复制工艺，为制造消色差微光变图像提供了一种新方法。
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公开(公告)号：CN1837992A
公开(公告)日：2006-09-27
申请号：CN200610038418.7
申请日：2006-02-16
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G03H1/04
Abstract: 本发明公开了一种点阵素面彩虹光变图像的制作方法及其装置，包括下列步骤：(1)制备一种具有正交光点输出的光学元件；(2)构建一个4F光学系统，将步骤(1)获得的光学元件放置在其变换平面上，作为分束元件，使得入射光被分成四束光，经透镜组成像后，在记录材料表面形成干涉条纹单元，所述激光光源采用短相干长度的激光器；(3)改变光学系统与记录材料的相对位置，在记录材料上分别记录步骤(2)获得的干涉条纹单元，逐点光刻出点阵素面光栅。本发明大大降低了制作大幅面点阵素面彩虹光变图像的技术要求；同时可以获得不同衍射效果的点阵素面彩虹图像的效果，还可与数字化光变图像相互镶嵌。
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公开(公告)号：CN1786749A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200510095776.7
申请日：2005-11-17
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种微光变图像的激光直写方法及装置，包括：(1)构建低空频光栅数字模板，以光栅取向角度等间隔分布，对每一单元光栅用数据结构表达，记录在计算机数据库中；(2)根据所需刻制的微光变图像，从低空频光栅数字模板中选取对应的光栅结构，利用激光束将空间光调制器上显示的光栅图样投影在记录介质上，形成缩小单元像；(3)改变光路和记录介质的相对位置，变换对应空频和取向的光栅图样，重复步骤(2)，依次刻录各个光栅单元，获得所需微光变图像。本发明采用直接成像的方法，整个光变图像的制作过程不需要机械旋转的方式来获得条纹取向，只要通过计算机在模板上读取不同取向的单元，输入SLM上即可实现光栅线条的旋转，因此，精度高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1786748A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200510095775.2
申请日：2005-11-17
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种衍射光变图像的高速激光直写方法，入射平行光经光阑、透镜成像到分束元件上，分束光分别经透镜组会聚，产生干涉条纹光场，依次光刻不同取向的干涉条纹形成不同取向的微光栅图像，其特征在于：由采用半导体泵浦的固态紫外激光器生成所述激光束，利用TTL信号控制，实现激光束的脉冲输出，两组分束光束具有零光程差；光学系统和光刻胶干板分别在相互垂直的两个一维方向上运动，采用连续运动、连续脉冲曝光方式进行光刻。本发明并以此实现了高速激光直写光刻系统，使大面积具有微米级条纹结构的衍射光变图像的原版制作缩短到数小时到17小时之间，真正进入工业化应用阶段，是激光全息技术领域数字化先进制造技术的重要突破。
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公开(公告)号：CN101162278A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200710135196.5
申请日：2007-11-13
Applicant: 苏州维旺科技有限公司 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G02B6/00 , G02F1/13357 , G02F1/1333
Abstract: 本发明公开了一种背光模组中的导光组件结构，包括导光基材以及导光基材表面制备形成的导光网点结构，其特征在于：包括至少两层导光基材重叠组合构成，每层所述导光基材为厚度50um～150um的导光膜；各层所述基材上的导光网点结构分布位置相互互补；其制作方法：(1)根据LED光源的厚度与导光薄膜材料厚度，确定多层组合的层数；(2)根据LED光源亮度数据及发光面积，确定初始的导光网点分布；(3)根据步骤(2)数据及布点方式进行相应调整；(4)制作相应导光模仁小样；(5)制作各层导光膜，并进行组装。本发明充分利用了LED光源能量，并有效地提高了发光均匀度，多层重叠结构获得更好的触感。
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公开(公告)号：CN1252548C
公开(公告)日：2006-04-19
申请号：CN02113112.0
申请日：2002-05-31
Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 一种利用光变图像的光学存储方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)将存储信息利用设定的编码方式生成图形、文字或者数据序列；(2)根据光变图像的特性，将步骤(1)中生成的图文序列排列成光变图文，其中，所述光变图像由光栅单元阵列构成，每个光栅单元是由精细的图形、文字或者数据位构成，光栅单元的尺度不大于160微米；(3)将步骤(2)中获得的光变图文利用光变图像照排系统存储到记录材料上。本发明的技术方案实现了任意数字化图文的高信息密度的光变存贮光刻，具有很好的复制能力，能广泛用于各种复制条件下的工业化生产、如印刷、包装、光盘生产、烫金材料、防伪和衍射器件等行业，同时有信息存储密度高、信噪比好、防伪性好的优点。
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公开(公告)号：CN101100156A
公开(公告)日：2008-01-09
申请号：CN200710025250.0
申请日：2007-07-20
Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 公安部交通管理科学研究所
Abstract: 本发明公开了一种用于卡证的防伪结构，在待防伪的卡证本体上，设置有由光栅结构构成的标识图案，其特征在于：所述标识图案至少包括两种图形区域，该两种图形区域中的光栅结构的取向正交排列，构成双视觉通道；所述光栅结构的光栅周期为300～500纳米，槽形深度为50～150纳米，在光栅结构上填充有透明高折射率介质层，所述介质层的厚度为20～30纳米，介质的折射率大于1.6。本发明的图案视觉特征显著，在公共场所易于识别，可方便快速鉴别证件真伪；同时，采用严格耦合波理论进行计算结构数据，应用电子束或激光干涉光刻技术来制作上述微结构，手段先进，工艺难度高，具有极高的安全性。
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公开(公告)号：CN1219204C
公开(公告)日：2005-09-14
申请号：CN02138137.2
申请日：2002-08-16
Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种红外上转换材料的检测方法及其检测装置，其特征在于：将红外激光器发出的红外光束聚焦到红外上转换材料的表面，使反射光入射到可见光探测器上，由探测器将光信号转换成电信号，经A/D转换后输出数字信号。本发明可以对红外上转换材料及其编码等直接处理，因而使红外上转换材料防伪检测更为方便及有效：同时还可以检测多个不同波段的激发可见光，且不同波段的发光比例可以定量检测，因而具有很好的防伪性能。
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