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公开(公告)号：CN102656200B
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201080056508.3
申请日：2010-12-13
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: C08F20/60 , C09D4/00 , C09D7/63 , C08F220/60 , C08F222/1006 , C08F226/02 , C08F226/04
Abstract: 本发明的目的在于提供可获得防静电性等基本性能良好的涂膜的树脂改性剂。本发明的树脂改性剂是由R31-O-（AO）n-SO3-、R32-OSO3-或R33-SO3-所示的离子和具有聚合性不饱和基团的铵离子构成的树脂改性剂。
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公开(公告)号：CN102203987B
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN200980142791.9
申请日：2009-10-07
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: H01M4/1391 , C01G45/1228 , C01G51/42 , C01P2004/61 , C01P2006/12 , C01P2006/14 , C01P2006/16 , H01M4/02 , H01M4/0471 , H01M4/485 , H01M2004/021
Abstract: 本发明提供高速放电特性优异的锂复合氧化物烧结体、以及使用了该锂复合氧化物烧结体的电池用正极组合物、电池用正极及锂离子电池。所述锂复合氧化物烧结体由锂复合氧化物的微小粒子相互烧结而构成，达到最大微分细孔容积值的峰值细孔径为0.80～5.00μm，总细孔容积为0.10～2.00mL/g，平均粒径在所述峰值细孔径的值以上且为20μm以下，在细孔径小于所述峰值细孔径的一侧存在微分细孔容积值为所述最大微分细孔容积值的10％以上的次峰，并且所述次峰的细孔径超过0.50μm且为2.00μm以下，BET比表面积为1.0～10.0m2/g，X射线衍射测定的X射线衍射峰中的最强峰的半峰宽为0.12～0.30deg。
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公开(公告)号：CN1613607B
公开(公告)日：2012-02-01
申请号：CN200410078477.8
申请日：2004-09-09
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: B24B37/048 , B24B37/00 , C09G1/02
Abstract: 本发明提供一种磁盘用研磨液试剂盒，其包含：含有氧化铝的浆料(A)、含有氧化剂的氧化剂液(B)、和含有酸的酸剂液(C)。另一种磁盘用研磨液试剂盒，其包含：含有氧化铝的浆料(A)、和含有氧化剂和无机酸的添加剂液(D)。又一种磁盘用研磨液试剂盒，其包含：含有氧化铝的浆料(A)、和含有酸的酸剂液(C)，并且与含有氧化剂的氧化剂液(B)一起使用。本发明的磁盘用研磨液试剂盒可以适宜地用于制造高品质的硬盘等磁盘基板。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100469527C
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN200410056293.1
申请日：2004-08-06
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: G11B5/7315 , G11B5/8404 , Y10T428/24355
Abstract: 本发明涉及包括(a)使用含有平均粒径为0.05～0.5μm的氧化铝磨粒和氧化剂的研磨液(研磨液组合物A)研磨加工基板的工序，和(b)使用含有平均粒径为0.005～0.1μm的二氧化硅粒子的研磨液(研磨液组合物B)研磨加工基板的工序的磁盘用基板的制造方法、由上述磁盘用基板的制造方法得到的磁盘用基板，以及具有长波长表面波纹为0.05nm以上0.3nm以下，且AFM表面粗糙度为0.03nm以上0.2nm以下的表面特性的磁盘用基板。该磁盘用基板适用于制造高记录密度的硬盘。特别地，可以产业化制造50G比特/平方英寸以上的高记录密度的硬盘。
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公开(公告)号：CN101173160A
公开(公告)日：2008-05-07
申请号：CN200710169501.2
申请日：2003-07-31
Applicant: 花王株式会社
Abstract: 一种研磨液组合物，含有研磨材、水、和有机酸或其盐，其剪切速度1500s－1时的在25℃的特定粘度为1.0－2.0MPa·s；一种端面下垂降低剂，由具有用下式表示(粘度降低量＝基准研磨液组合物的粘度－含有端面下垂降低剂的研磨液组合物的粘度)的粘度降低量为0.01MPa·s以上的粘度降低作用的布朗斯台德酸或其盐构成，其中，基准研磨液组合物由研磨材20重量份、柠檬酸1重量份及水79重量份构成，含有端面下垂降低剂的研磨液组合物由研磨材20重量份、柠檬酸1重量份、水78.9重量份及端面下垂降低剂0.1重量份构成，粘度是指在剪切速度1500s－1、25℃下的粘度。前述研磨液组合物或端面下垂降低剂组合物可很好地用于精密部件用基板等的研磨。
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公开(公告)号：CN100378145C
公开(公告)日：2008-04-02
申请号：CN02145898.7
申请日：2002-06-20
Applicant: 花王株式会社
IPC: C08J5/14
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 含有研磨材料和水的研磨液组合物，是沉降度指数80以上，100以下的研磨液组合物，具有使用该研磨液组合物来研磨基板的工序的基板的制造方法，使用上述研磨液组合物来防止研磨片堵塞的方法，使用研磨片研磨含有镍的被研磨物时，使用上述的研磨液组合物研磨来防止研磨片堵塞的方法。使用研磨片研磨含有镍的被研磨物时，使用含有分子中具有2个以上亲水基团，分子量在300以上的亲水性高分子或可在pH8.0溶解氢氧化镍的化合物和水的组合物研磨来防止研磨片堵塞的方法。
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公开(公告)号：CN1579706A
公开(公告)日：2005-02-16
申请号：CN200410056293.1
申请日：2004-08-06
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: G11B5/7315 , G11B5/8404 , Y10T428/24355
Abstract: 本发明涉及包括(a)使用含有平均粒径为0.05～0.5μm的氧化铝磨粒和氧化剂的研磨液(研磨液组合物A)研磨加工基板的工序，和(b)使用含有平均粒径为0.005～0.1μm的二氧化硅粒子的研磨液(研磨液组合物B)研磨加工基板的工序的磁盘用基板的制造方法、由上述磁盘用基板的制造方法得到的磁盘用基板，以及具有长波长表面波纹为0.05nm以上0.3nm以下，且AFM表面粗糙度为0.03nm以上0.2nm以下的表面特性的磁盘用基板。该磁盘用基板适用于制造高记录密度的硬盘。特别地，可以产业化制造50G比特/平方英寸以上的高记录密度的硬盘。
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公开(公告)号：CN1200755A
公开(公告)日：1998-12-02
申请号：CN95197977.9
申请日：1995-12-06
Applicant: 花王株式会社
IPC: C09J133/06 , C09J125/02 , C09J131/02 , C09J133/02 , C09J133/18 , C09J133/24 , C09J7/02
CPC classification number: C09J133/06 , C08F20/28 , C09J2201/606 , Y10T428/2891
Abstract: 提供一种胶粘用水性乳液,其生产方法为按单体混合物的总重量计,将至少含50重量%的其烷基部分的碳原子数为9～13的(甲基)丙烯酸长链烷基酯的单体混合物,在表面活性剂水溶液中乳化成平均粒径为2.0μm以下的微颗粒,然后在水溶性的聚合引发剂的存在下,将单体混合物进行聚合。用该乳液制得耐湿性、耐水性、耐候性、对聚烯烃类塑料等的非极性被粘物的粘接性好,而且粘附性能的平衡好的胶粘剂。
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