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公开(公告)号：CN111065942B
公开(公告)日：2022-01-07
申请号：CN201880054388.X
申请日：2018-10-23
Applicant: 株式会社LG化学
Abstract: 本发明的示例性实施方案提供了衍射导光板，包括：第一衍射基底；和设置在第一衍射基底上的第二衍射基底，其中第一衍射基底包括在一个表面上的第一衍射光栅层和在另一表面上的第二衍射光栅层，第二衍射基底包括在一个表面上的第三衍射光栅层和在另一表面上的应力补偿层，第一衍射光栅层分离波长为550nm或更大且700nm或更小的光，第二衍射光栅层分离波长为400nm或更大且550nm或更小的光，第三衍射光栅层分离波长为450nm或更大且650nm或更小的光，以及应力补偿层在与第三衍射光栅层的应力方向相同的方向上具有应力。
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公开(公告)号：CN109075293B
公开(公告)日：2021-06-22
申请号：CN201780020885.3
申请日：2017-11-28
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: H01M50/449 , H01M50/411 , H01M50/431 , H01M10/052
Abstract: 本发明公开了一种电化学装置用隔膜。所述隔膜包含无纺布基材，其中所述无纺布基材的至少一个表面包括通过将所述无纺布基材从所述无纺布基材的表面碳化至预定深度而形成的电极反应层，且所述电极反应层设置在所述隔膜的两个表面中的至少一个表面的最外侧。
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公开(公告)号：CN111033117A
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201880052164.5
申请日：2018-08-16
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: F21V8/00
Abstract: 本发明涉及制造用于衍射光栅导光板的模具基板的方法，该方法包括以下步骤：准备在其上表面上设置有薄层电阻为0.5Ω/□或更大的网格部分的法拉第笼；将样品基板设置在法拉第笼的底表面上并在其上进行平面等离子体蚀刻以确定法拉第笼中的高蚀刻区域；准备具有倾斜表面的支撑体并将倾斜表面的下部区域布置在法拉第笼的高蚀刻区域中的支撑体布置步骤；将模具用基板设置在支撑体的倾斜表面上；以及通过使用等离子体蚀刻同时在模具用基板的一侧上形成第一倾斜图案部分并在模具用基板的另一侧上形成第二倾斜图案部分的图案化步骤，其中图案化步骤中的蚀刻速率自倾斜表面的上部区域至下部区域逐渐减小然后反转增大，并且包括第一倾斜图案部分的具有深度梯度的倾斜凹槽图案，以及第二倾斜图案部分包括深度偏差为0nm至50nm的倾斜凹槽图案。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107110996B
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201680006119.7
申请日：2016-08-18
Applicant: 株式会社LG化学
Abstract: 本发明涉及低折射层和包括其的抗反射膜。低折射层可以同时表现出优异的光学特性例如低反射率和高透光率以及优异的机械特性例如高耐磨性和耐刮擦性，并且不会不利地影响形成低折射层的聚合物树脂的颜色。特别地，由于优异的耐碱性，低折射层即使在碱处理之后也可以保持优异的物理特性。因此，当向显示装置引入低折射层时，预期可以简化生产过程，并且可以进一步显著提高生产速率和生产力。
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公开(公告)号：CN104487494B
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201380039260.3
申请日：2013-05-31
Applicant: 株式会社LG化学
CPC classification number: G02B1/14 , B05D3/067 , C08F290/061 , C08F2222/1026 , C08F2222/1086 , C08G83/007 , C08J7/042 , C08J7/047 , C08J2363/02 , C08J2367/02 , C08J2400/21 , C08J2435/02 , C08J2475/14 , C09D4/00 , G02B1/105 , Y10T428/24628
Abstract: 本发明涉及一种硬涂膜及其制备方法，并且更具体而言，涉及一种呈现高硬度和其他优异特性的硬涂膜及其制备方法。本发明的硬涂膜及其制备方法可有利于制备具有低的卷曲发生率和高硬度的硬涂膜，并且制备的硬涂膜呈现优异的高硬度、耐磨性、高透明度、耐久性、耐光性和透光率，并因此可有效地用于各种行业中。
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公开(公告)号：CN104736612A
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201380055244.3
申请日：2013-07-29
Applicant: 株式会社LG化学
CPC classification number: C09D151/08 , C08F290/02 , C08F290/067 , C08K3/36 , C08L33/04 , C08L51/08 , C09D5/00 , C09D7/61 , C09D133/04 , Y10T428/24917 , Y10T428/28 , Y10T428/31935 , Y10T442/10 , C08F222/1006
Abstract: 本发明涉及一种硬涂膜，且具体而言涉及一种即使不包括基板也表现出高硬度和优异性能想硬涂膜。本发明的硬涂膜表现出的性能例如优异的硬度、耐刮性、高透明性、耐久性、耐光性和透光率，因此可用在多个领域中。
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公开(公告)号：CN111033117B
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN201880052164.5
申请日：2018-08-16
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: F21V8/00
Abstract: 本发明涉及制造用于衍射光栅导光板的模具基板的方法，该方法包括以下步骤：准备在其上表面上设置有薄层电阻为0.5Ω/□或更大的网格部分的法拉第笼；将样品基板设置在法拉第笼的底表面上并在其上进行平面等离子体蚀刻以确定法拉第笼中的高蚀刻区域；准备具有倾斜表面的支撑体并将倾斜表面的下部区域布置在法拉第笼的高蚀刻区域中的支撑体布置步骤；将模具用基板设置在支撑体的倾斜表面上；以及通过使用等离子体蚀刻同时在模具用基板的一侧上形成第一倾斜图案部分并在模具用基板的另一侧上形成第二倾斜图案部分的图案化步骤，其中图案化步骤中的蚀刻速率自倾斜表面的上部区域至下部区域逐渐减小然后反转增大，并且包括第一倾斜图案部分的具有深度梯度的倾斜凹槽图案，以及第二倾斜图案部分包括深度偏差为0nm至50nm的倾斜凹槽图案。
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