显示装置用薄膜半导体装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN103109373B

    公开(公告)日:2016-04-13

    申请号:CN201180041844.5

    申请日:2011-04-06

    Abstract: 本发明的显示装置用薄膜半导体装置(10)包括:基板(1);形成于基板上的栅电极(2);形成于栅电极上的栅极绝缘膜(3);形成于栅极绝缘膜上,且在表面具有凸形状的沟道层(4);形成于沟道层的凸形状之上,且包括含有硅、氧及碳的有机材料的沟道保护层(5);界面层(6),形成于沟道层的凸形状的上面与沟道保护层之间的界面,含有碳作为主要成分,作为其主要成分的碳是来源于所述有机材料的碳;和源电极(8s)及漏电极(8d),沿着沟道保护层的端部的上部及侧部、与沟道保护层的侧部相连的界面层的侧部、与界面层的侧部相连的沟道层的凸形状的侧部、以及与沟道层的凸形状的侧部相连的沟道层的上部而形成。

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