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发明授权
电解电容器低阻抗阳极铝箔腐蚀方法及其化学处理处理液失效

公开(公告)号：CN101211696B

公开(公告)日：2011-06-22

申请号：CN200610201482.2

申请日：2006-12-30

申请人： 新疆众和股份有限公司

发明人： 王兰东

IPC分类号： H01G9/055 , H01G13/00 , C25D3/02 , C25D3/44 , C25F3/04 , C25F1/00

摘要： 一种电解电容器低阻抗阳极铝箔腐蚀方法及其化学处理处理液，该方法按下述步骤进行：第一步骤一次电蚀、第二步骤化学处理、第三步骤二次电蚀；该化学处理处理液的配方为：盐酸4.0N至5.0N；硫酸0.15N至0.4N，磷酸0.05N至0.15N，硝酸：0.01N至0.05N，氯化铝1.0N至2.0N。本发明是在洁净铝箔表面形成均匀分布、间距较大的蚀孔且耐平削腐蚀的钝化膜，然后进行扩孔处理，由此获得的腐蚀箔阻抗明显降低，尤其是对50～100V的电极箔效果显著。用此方法在一定程度上控制了蚀孔的大小、分布和间距，改善了腐蚀形貌，增大了蚀孔间距和分布均匀性，从而降低了阳极箔阻抗。本发明适用于25V～100V低压铝电极箔的腐蚀可以大幅度降低阳极箔的阻抗，可制备低阻抗电解电容器阳极铝箔。