蒸镀掩模形成用转印膜、蒸镀掩模的制造方法及蒸镀掩模

    公开(公告)号:CN115928007A

    公开(公告)日:2023-04-07

    申请号:CN202210902402.5

    申请日:2022-07-28

    Inventor: 有富隆志

    Abstract: 本发明提供一种具有优异的输送性的蒸镀掩模形成用转印膜及其应用。(1)一种蒸镀掩模形成用转印膜,其包括:临时支承体,具有具备1.0以下的静摩擦系数的第1面及上述第1面的相反侧的第2面;及转印层,面向上述临时支承体的上述第2面;(2)一种蒸镀掩模形成用转印膜,其包括:临时支承体,具有具备0.80以下的动摩擦系数的第1面及上述第1面的相反侧的第2面;及转印层,面向上述临时支承体的上述第2面;以及(3)它们的应用。

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