感光性转印材料、树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法

    公开(公告)号:CN112204467B

    公开(公告)日:2024-04-30

    申请号:CN201980034172.1

    申请日:2019-05-10

    Abstract: 一种感光性转印材料以及使用了上述感光性转印材料的树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法,上述感光性转印材料具有临时支承体及感光性树脂层,上述感光性树脂层包含满足下述a1及a2中的至少一个的聚合物成分以及光产酸剂,上述聚合物成分的玻璃化转变温度为90℃以下。a1:包含聚合物的聚合物成分,该聚合物具有包含被酸分解性基团保护的酸基的结构单元及包含pKaH为3以上的基团的结构单元;a2:聚合物成分,其包含:具有包含被酸分解性基团保护的酸基的结构单元的聚合物以及具有包含pKaH为3以上的基团的结构单元的聚合物。

    导电图案的制造方法及电子器件的制造方法

    公开(公告)号:CN116918464A

    公开(公告)日:2023-10-20

    申请号:CN202180094300.9

    申请日:2021-12-21

    Abstract: 本发明的导电图案的制造方法包括形成工序1、形成工序2、曝光工序、去除工序1及去除工序2。形成工序1中,在支承体上的一部分或整个面上形成包含金属纳米材料及树脂的导电层。形成工序2中,在上述导电层上形成感光性树脂层。曝光工序中,对上述感光性树脂层进行曝光。去除工序1中,从经曝光的上述感光性树脂层去除不必要的部分而形成树脂图案。去除工序2中,去除未形成有上述树脂图案的部分中的上述导电层而获得导电图案。本发明的电子器件的制造方法具备通过上述导电图案的制造方法获得的导电图案。

    感光性组合物、转印膜及具有导体图案的层叠体的制造方法

    公开(公告)号:CN115826352A

    公开(公告)日:2023-03-21

    申请号:CN202211092298.4

    申请日:2022-09-07

    Abstract: 本发明提供一种能够形成耐酸性优异的抗蚀图案的感光性组合物。一种感光性组合物,其包含碱溶性树脂、具有烯属不饱和基团的聚合性化合物及光聚合引发剂,上述聚合性化合物包含满足下述要件(X1)的聚合性化合物A。要件(X1):涂布包含上述聚合性化合物A100质量份、1‑[9‑乙基‑6‑(2‑甲基苯甲酰基)‑9H‑咔唑‑3‑基]乙酮‑1‑(O‑乙酰肟)1.0质量份及甲基乙基酮9质量份的组合物而形成2.0μm的膜之后,在氮气气氛下以曝光量500mJ/cm2照射i射线,并在150℃下加热30分钟而得到的膜的水接触角为74度以上。

    感光性转印材料、树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法

    公开(公告)号:CN112166377A

    公开(公告)日:2021-01-01

    申请号:CN201980034383.5

    申请日:2019-05-10

    Abstract: 本发明提供一种感光性转印材料以及使用上述感光性转印材料而成的树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法,该感光性转印材料具有临时支承体及感光性树脂层,上述感光性树脂层包含聚合物A、光产酸剂及聚合物F,该聚合物A包含具有被酸分解性基团保护的酸基的结构单元,该聚合物F包含具有氟原子的结构单元,上述聚合物F中的氟原子的含量相对于上述聚合物F的总质量为20质量%以上且50质量%以下,上述聚合物F满足f1或f2中的任一个。f1:上述聚合物F的I/O值为0.45以上。f2:上述聚合物F的I/O值小于0.45且上述聚合物F包含具有酸基或碱性基团的结构单元。

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