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公开(公告)号：CN114589311B
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN202210257296.X
申请日：2022-03-16
Applicant: 季华实验室
IPC: B22F9/08
Abstract: 本申请属于粉末冶金技术领域，公开了一种铝合金熔液流量控制装置及其控制方法，铝合金熔液流量控制装置的导流管采用多段设置，在稳定段的上端连接内径较大的引导段，可降低铝合金熔液流动难度，而稳定段采用等内径结构，可形成稳定的铝合金熔液射流，在稳定段出口处设置喇叭口段，可以避免因金属射流卷吸作用导致周围低温惰性保护气体强烈冷却金属射流，有利于使出射后的金属射流保持过热度，改善雾化效果。
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公开(公告)号：CN115070049B
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202210653379.0
申请日：2022-06-10
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及金属雾化的技术领域，尤其是涉及一种用于金属雾化的中间包自动升降机构，其包括安装套，转动套、升降套以及驱动组件，其中安装套固定于雾化室内，安装套的轴线呈竖向设置，转动套转动设置于安装套的外周侧，升降套竖向滑移设置于安装套的内周侧，中间包设置于升降套上，升降套上设置有导向部，转动套内周侧倾斜设置有与导向部相适配的导向槽，导向部滑移设置于导向槽中，安装套上设置有用于限制升降套转动的限位部，驱动组件设置于雾化室上用于驱动转动套绕转动套自身的轴线转动，本申请具有整体结构新颖巧妙，且操作起来简便快捷，有利于保证雾化效率的效果。
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公开(公告)号：CN115194168A
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202210863820.8
申请日：2022-07-22
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及粉末冶金技术领域，具体而言，涉及一种铝合金熔液流量控制方法及雾化装置，该控制方法通过获取导流管的第一总流量和目标总流量；若所述第一总流量和所述目标总流量的偏差过大，则根据所述第一总流量计算所述导流管的第一等效损失系数；根据所述第一等效损失系数在等效损失系数模数库进行数据匹配，以获取有效第二等效损失系数；根据所述有效第二等效损失系数计算可使所述导流管的总流量等于所述目标总流量的所述中间包的目标气压；根据所述目标气压调节所述中间包的气压；从而保证雾化效率的稳定，此外，通过设置至少两个支路段的并联支路结构降低导流管完全堵塞的风险，保证生产效率的稳定。
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公开(公告)号：CN115070049A
公开(公告)日：2022-09-20
申请号：CN202210653379.0
申请日：2022-06-10
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及金属雾化的技术领域，尤其是涉及一种用于金属雾化的中间包自动升降机构，其包括安装套，转动套、升降套以及驱动组件，其中安装套固定于雾化室内，安装套的轴线呈竖向设置，转动套转动设置于安装套的外周侧，升降套竖向滑移设置于安装套的内周侧，中间包设置于升降套上，升降套上设置有导向部，转动套内周侧倾斜设置有与导向部相适配的导向槽，导向部滑移设置于导向槽中，安装套上设置有用于限制升降套转动的限位部，驱动组件设置于雾化室上用于驱动转动套绕转动套自身的轴线转动，本申请具有整体结构新颖巧妙，且操作起来简便快捷，有利于保证雾化效率的效果。
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公开(公告)号：CN114264510B
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202210197216.6
申请日：2022-03-02
Applicant: 季华实验室
IPC: G01N1/10
Abstract: 本申请涉及本申请涉及3D打印粉末制备装置的技术领域，尤其是涉及一种用于粉末制备过程中的取样装置及方法，其中，该取样装置包括设置于雾化罐体中的旋转盘，还包括取样槽，所述取样槽沿所述雾化罐体的径向活动设置于所述雾化罐体内，所述取样槽的一端位于所述旋转盘下方，所述雾化罐体的侧壁上开设有安装孔，所述取样槽的另一端通过所述安装孔架设于所述雾化罐体的侧壁，所述取样槽包括至少两个沿其自身延伸方向排列设置的集粉室，本申请通过设置的取样槽，实现在雾化过程中实时对粉末按粒径大小进行分级收集的目的，整体过程简便快捷，有利于保证取样过程的效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118357470B
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202410777270.7
申请日：2024-06-17
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请提供了一种合成射流辅助离心雾化设备，涉及增材制造技术领域。通过在雾化室中设置合成射流激励器，由合成射流激励器利用雾化室中的气体生成合成射流后并使合成射流喷出至离心转盘边缘处以加强液膜的破碎作用，由于合成射流激励器是利用雾化室中的气体生成合成射流，因此，该合成射流的温度不会较低，再利用该合成射流喷向离心转盘边缘处，对液膜施加扰动，从而加强液膜的破碎作用，所以，本申请提供的合成射流辅助离心雾化设备既能增强离心转盘边缘处液膜的破碎作用，有效提升转盘离心雾化效果，又无需要另外设置气流源以及加热装置，有利于降低生产成本。
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公开(公告)号：CN118357470A
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202410777270.7
申请日：2024-06-17
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请提供了一种合成射流辅助离心雾化设备，涉及增材制造技术领域。通过在雾化室中设置合成射流激励器，由合成射流激励器利用雾化室中的气体生成合成射流后并使合成射流喷出至离心转盘边缘处以加强液膜的破碎作用，由于合成射流激励器是利用雾化室中的气体生成合成射流，因此，该合成射流的温度不会较低，再利用该合成射流喷向离心转盘边缘处，对液膜施加扰动，从而加强液膜的破碎作用，所以，本申请提供的合成射流辅助离心雾化设备既能增强离心转盘边缘处液膜的破碎作用，有效提升转盘离心雾化效果，又无需要另外设置气流源以及加热装置，有利于降低生产成本。
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公开(公告)号：CN115647378B
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202211173118.5
申请日：2022-09-26
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请公开了一种工艺参数调整方法、电子设备、系统及存储介质，所述工艺参数调整方法包括以下步骤：获取离心雾化制粉设备的制粉过程图像；将所述制粉过程图像与预设标准图像进行比较，确定液柱尺寸差异值、盘面熔液厚度差异值和液滴撕裂尺寸差异值；根据所述液柱尺寸差异值、所述盘面熔液厚度差异值和所述液滴撕裂尺寸差异值，调整所述离心雾化制粉设备的工艺参数设定值，确定最佳工艺参数设定值。本申请解决了现有技术对离心雾化制粉进行工艺参数调整的效率较低的技术问题。
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公开(公告)号：CN117505864B
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202410025526.9
申请日：2024-01-08
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及增材制造技术领域，具体而言，涉及一种气雾化设备，通过设置环型导流管的内流道为环型流道，可以大幅度降低环型导流管堵塞的风险，且出口段的出口截面的总面积相较于现有的导流管出口截面（圆形）的总面积要大，可以大幅度提高气雾化设备在单位时间内雾化的金属熔体流量，也即提高了气雾化设备的生产效率，并且在环型导流管的中心通孔的下端同轴设置旋流喷盘，旋转射流一方面能够将环型导流管流出的环型液流进行扩散形成薄液膜，从而方便被雾化喷盘喷出的雾化气流高效雾化，另一方面同时向雾化气流进行补气，降低超音速雾化气流控制的回流区的波动范围，有效地避免金属熔体返喷环型导流管或雾化喷盘，从而有利于提高雾化过程的稳定性。
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