光源单元以及投影仪
    22.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102200683B

    公开(公告)日:2012-12-12

    申请号:CN201110072396.7

    申请日:2011-03-24

    Inventor: 黑崎秀将

    Abstract: 提供一种光源单元以及投影仪,该光源单元能够防止由荧光体的亮度饱和或烧焦造成的破坏,并且提高激励光的利用效率,能够使荧光体均匀发光,所述投影仪通过具备该光源单元,能够进行长时间稳定的投影,投影仪包括光源单元、显示元件、投影侧光学系统、导光光学系统以及投影仪控制单元,光源单元包括:激励光照射装置,具有激励光源和微透镜阵列;荧光板,具有接收来自激励光源的射出光并射出绿色波段光的方形的绿色荧光体层;微透镜阵列配置在激励光源和荧光板之间,以矩阵状排列形状与荧光体层的形状相似的多个微凸透镜而成,且将来自激励光源的射出光变换为多个光线束并向荧光板照射。

    光源装置及投影机
    23.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101937161A

    公开(公告)日:2011-01-05

    申请号:CN201010208602.8

    申请日:2010-06-18

    CPC classification number: G03B21/204 F21V9/30 G03B21/28

    Abstract: 本发明提供容易制造、且能够得到颜色纯度高的各色光的光源装置及投影机,上述光源装置具备:荧光轮,在圆周方向配置有使激励光透射的透射部和反射部,在反射部沿圆周方向形成发出不同波段光的多个荧光体层;驱动装置,使该荧光轮旋转;光源,对荧光轮的荧光体层照射激励光;二向色镜,配置在该光源与荧光轮之间,透射激励光并反射来自荧光体的荧光;以及多个反射镜和/或二向色镜,能够使透射了荧光轮的透射部的激励光和由二向色镜反射的荧光聚光在同一光路上,而且向同一方向照射,本发明的投影机特征在于具备上述光源装置、显示元件、投影机控制单元等。

    投影装置、投影系统、投影方法

    公开(公告)号:CN107526237B

    公开(公告)日:2020-10-20

    申请号:CN201710236567.2

    申请日:2017-04-12

    Abstract: 一种投影装置、投影系统、投影方法。投影装置具备:投影部,其投影图像;面信息取得部,其取得投影部投影的多个被投影面的信息;视点信息取得部,其取得观赏者视点相对于投影部的位置信息;矩阵式制作部,其根据由面信息取得部取得的多个被投影面的信息和由视点信息取得部取得的视点的位置信息,制作针对由投影部投影的图像的每个被投影面的变形运算即修正视点变换矩阵群;掩模制作部,其制作表示与图像对应的由矩阵式制作部制作出的各修正视点变换矩阵的对应区域的修正掩模信息;投影控制部,其在由掩模制作部制作出的修正掩模信息的每个对应区域,通过由矩阵式制作部制作出的各修正视点变换矩阵对图像进行了变形运算后通过投影部来投影图像。

    投影装置
    25.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106918979B

    公开(公告)日:2019-12-06

    申请号:CN201611113723.8

    申请日:2016-12-07

    Inventor: 黑崎秀将

    Abstract: 一种投影装置,包括:光源,由激光发光元件构成;第1扩散板,来自所述光源的出射光入射到该第1扩散板;微镜阵列,在所述第1扩散板透射后的光入射到该微镜阵列;以及第2扩散板,使在所述微镜阵列透射后的光扩散。

    光源装置及投影装置
    26.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106918978B

    公开(公告)日:2019-12-06

    申请号:CN201610998521.X

    申请日:2016-11-14

    Inventor: 黑崎秀将

    Abstract: 一种光源装置和投影装置,提供降低光源光的亮度不均。该光源装置包括:固体发光元件,出射光源光;扩散板,使所述光源光扩散;以及导光装置,使从所述扩散板出射的出射光扩散;所述扩散板为,在与所述光源光的入射侧的面相反的出射侧的面的第一方向、和与所述第一方向大致正交的第二方向中的任意一个方向上,具有多个弧状的扩散单元,所述第一方向和所述第二方向的扩散角度不同。

    光源装置以及投影装置
    27.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106199783B

    公开(公告)日:2019-01-29

    申请号:CN201510514473.8

    申请日:2015-08-20

    Inventor: 黑崎秀将

    Abstract: 一种光源装置,包括:激光二极管,出射截面椭圆形状的光;以及异型透镜,该异型透镜包含:入射部,从上述激光二极管出射的光作为入射光入射到该入射部,该入射部具有长条凹状部,该长条凹状部将与上述入射光的光轴正交的上述截面椭圆形状的长轴方向作为第一轴方向,并朝向上述入射光的出射方向而形成为凹状,与上述第一轴正交的截面的凹边缘形成为圆弧状;以及出射部,向上述入射部入射的上述入射光从该出射部出射,该出射部形成为凸状。

    投影装置、投影系统、投影方法

    公开(公告)号:CN107526237A

    公开(公告)日:2017-12-29

    申请号:CN201710236567.2

    申请日:2017-04-12

    Abstract: 一种投影装置、投影系统、投影方法。投影装置具备:投影部,其投影图像;面信息取得部,其取得投影部投影的多个被投影面的信息;视点信息取得部,其取得观赏者视点相对于投影部的位置信息;矩阵式制作部,其根据由面信息取得部取得的多个被投影面的信息和由视点信息取得部取得的视点的位置信息,制作针对由投影部投影的图像的每个被投影面的变形运算即修正视点变换矩阵群;掩模制作部,其制作表示与图像对应的由矩阵式制作部制作出的各修正视点变换矩阵的对应区域的修正掩模信息;投影控制部,其在由掩模制作部制作出的修正掩模信息的每个对应区域,通过由矩阵式制作部制作出的各修正视点变换矩阵对图像进行了变形运算后通过投影部来投影图像。

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