公开(公告)号：CN107849690A

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201680045499.5

申请日：2016-07-21

Applicant: 住友重机械工业株式会社

Inventor： 北见尚久 ,  酒见俊之 ,  山本哲也 ,  野本淳一

IPC: C23C14/48 ,  C23C14/32

Abstract: 本发明提供一种成膜装置，将成膜材料成膜于成膜对象物，该成膜装置具备：真空腔室，容纳所述成膜对象物并进行成膜处理；成膜部，在所述真空腔室内使所述成膜材料的粒子附着于所述成膜对象物；及负离子生成部，在所述真空腔室内生成负离子。

公开(公告)号：CN104178735A

公开(公告)日：2014-12-03

申请号：CN201410160005.0

申请日：2014-04-21

Applicant: 住友重机械工业株式会社

Inventor： 酒见俊之 ,  宫下大 ,  北见尚久

IPC: C23C14/32

Abstract: 本发明提供一种成膜装置，其能够实现在成膜对象物的成膜面内的膜质分布的均匀化。本发明的成膜装置，在真空腔室（10）内通过等离子束（P）对成膜材料（Ma）进行加热而使其蒸发，并且使成膜材料的蒸发粒子（Mb）附着于成膜对象物（11）上，其构成为具备以下：等离子源（7），在真空腔室（10）内生成等离子束；作为主阳极的主炉缸（17），被填充成为蒸发源的成膜材料，并且向成膜材料导入等离子束或者被导入等离子束；作为辅助阳极的环炉缸（6），配置于主炉缸的周围，并且引导等离子束；及蒸发方向调整部（21），以规定时间间隔改变从蒸发源蒸发的蒸发粒子的方向。

公开(公告)号：CN104073766A

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：CN201410079015.1

申请日：2014-03-05

Applicant: 住友重机械工业株式会社

Inventor： 酒见俊之

IPC: C23C14/32

Abstract: 本发明提供一种成膜装置，其能够降低因成膜对象物的位置产生的膜质的偏差。本发明的成膜装置（1）具备向真空腔室（10）内供给原料气体（在此为氧气）的原料气体供给部（30），并且具备对成膜对象物（11）局部地供给比原料气体活化的活化气体的活化气体供给部（40）。其中，通过成膜对象物（11）与沉积部（2）的位置关系，有时在成膜对象物（11）中的一部分中，与其他部分相比供给到膜中的氧变少。对于膜中的氧变少的部分，通过活化气体供给部（40）局部地供给氧的活化气体，从而能够弥补膜中的氧。因此，能够降低因成膜对象物（11）的位置产生的膜中的氧的偏差。综上，能够降低因成膜对象物（11）的位置产生的膜质的偏差。

公开(公告)号：CN1149303C

公开(公告)日：2004-05-12

申请号：CN97198505.7

申请日：1997-09-26

Applicant: 住友重机械工业株式会社

Inventor： 酒见俊之 ,  田中胜

IPC: C23C14/32 ,  H01L21/203

Abstract: 一种离子喷镀装置是在真空容器11内配设的炉床30a、30b的周围各自设有内带环状永久磁铁的辅炉床31a、31b。在相邻的2个等离子体枪1A和1B上所设的环状永久磁铁21a和21b的磁极取向、电磁线圈22a和22b的磁极取向、导向线圈24a和24b的磁极取向以及内藏在2个炉床内的2个环状永久磁铁的磁极取向互为反向。

公开(公告)号：CN1186126A

公开(公告)日：1998-07-01

申请号：CN97121761.0

申请日：1997-12-17

Applicant: 住友重机械工业株式会社

Inventor： 酒见俊之 ,  田中胜

IPC: C23C14/32

CPC classification number: C23C14/32 ,  H05H1/54

Abstract: 当在基片上形成薄膜期间,等离子束是指向坩埚,等离子束的电流流经坩埚的。而当在基片上完全形成薄膜之后,到在后续的基片上开始形成薄膜之前的一段时期内,使等离子束指向辅助阳极,以使等离子束电流通过辅助阳极而流动。