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公开(公告)号:CN107206325A
公开(公告)日:2017-09-26
申请号:CN201680008569.X
申请日:2016-02-18
Applicant: 住友电气工业株式会社
Abstract: 本发明的目的是提供一种过滤单元,所述过滤单元能够以更高的效率来清洗中空纤维膜。根据本发明的过滤单元包括多个过滤模块和管道单元。每个过滤模块包括:多个中空纤维膜,所述多个中空纤维膜在垂直方向上延伸并且以板的形式来被并排排列;以及具有线性的第一集水器,所述第一集水器被连接至所述中空纤维膜的上开口,并且渗入每个中空纤维膜之中的被过滤的液体流经所述第一集水器。所述管道单元被连接至所述过滤模块的所述第一集水器。所述过滤模块被排列成两排,并且在每个排中呈条纹状来排列。所述管道单元包括两个合流管,所述两个合流管被彼此平行排列并且通过第一连接管被连接至每个排中的所述过滤模块的所述第一集水器的外端部。所述过滤单元可以包括:多个扩散管,所述多个扩散管被布置在所述过滤模块下方并且具有多个通孔,气体从所述多个通孔喷出,以及通气机构,所述通气机构将所述气体强行进给至所述扩散管。
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公开(公告)号:CN106414343A
公开(公告)日:2017-02-15
申请号:CN201580005507.9
申请日:2015-03-03
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: B01D65/02 , B01D61/142 , B01D63/02 , B01D2315/06 , B01D2317/02 , B01D2317/022 , B01D2317/04 , B01D2321/185 , C02F1/001 , C02F1/44 , C02F2103/002 , C02F2103/007 , C02F2103/08 , C02F2103/42 , C02F2303/04 , C02F2303/16 , C02F2303/18
Abstract: 本发明的目的是提供:一种具有优良处理效率和成本性能的过滤装置和一种使用该过滤装置的浸渍式过滤方法。根据本发明的过滤装置是能够使用过滤膜而净化目标溶液的浸渍式过滤装置。过滤装置配备有多个过滤单元,其中多个过滤单元中的每个过滤单元配备有过滤槽和被浸渍在过滤槽中的一个或者多个过滤膜模块,其中过滤单元被串联地布置。优选的是,通过溶液的溢出作用而将目标溶液从前级过滤单元供给到后级过滤单元中。还优选的是,过滤装置另外配备有气泡供给器,所述气泡供给器能够每个过滤膜模块的下方供给气泡。根据本发明的浸渍式过滤方法采用上述过滤装置,并且包括将前级过滤单元中的一部分目标溶液供给到后级过滤单元中,以净化溶液。
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公开(公告)号:CN106061591A
公开(公告)日:2016-10-26
申请号:CN201580010398.X
申请日:2015-03-12
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: B01D65/02 , B01D61/20 , B01D2313/26 , B01D2315/06 , B01D2321/18 , B01F3/04113
Abstract: 本发明涉及浸渍在液体中使用的间歇性气泡发生装置,该间歇性气泡发生装置设有直立的筒形壳体和间隔壁,间隔壁大致平行于轴向方向设置在该壳体内,并且形成在气体导入室、气体诱导室和气体排出室之间的边界。气体导入室和气体诱导室在壳体顶部处相互连通,气体诱导室和气体排出室在壳体底部处相互连通,气体导入室的上表面和气体诱导室的上表面由盖板封闭,并且气体诱导室的下表面和气体排出室的下表面由底板封闭。气体导入室优选地具有比气体排出室的横截面面积大的横截面面积。气体诱导室和气体排出室的连通孔的上边缘可以是大致平行的。封闭气体诱导室的底板和封闭气体排出室的底板优选地由单个平坦构件构成。
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公开(公告)号:CN105246836A
公开(公告)日:2016-01-13
申请号:CN201480031231.7
申请日:2014-04-25
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: C02F3/1273 , B01D61/20 , B01D63/02 , B01D65/08 , B01D2311/2657 , B01D2313/08 , B01D2315/06 , Y02W10/15
Abstract: 本发明公开一种过滤装置,其配备有:过滤槽,其存储包含微生物的被处理液;浸入式过滤组件,其布置在过滤槽中并包括多个分离膜;以及第一气体供应单元,其从浸入式过滤组件下方产生气泡以清洁分离膜。过滤装置还包括第二气体供应单元,所述第二气体供应单元设置在过滤槽的下部以与第一气体供应单元间隔开并可以产生气泡以供应氧气。在过滤装置中,从第一气体供应单元产生气泡而在第二气体供应单元上方形成气泡上升阻止区。优选地气泡上升阻止区出现被处理液的向下流动。可替代地,在气泡上升阻止区中可出现被处理液的湍流。
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