偏光膜的制法、偏振片的制法和光学叠层体的制法

    公开(公告)号:CN1627107A

    公开(公告)日:2005-06-15

    申请号:CN200410100387.4

    申请日:2004-12-09

    Abstract: 提供表面状态良好、染色不匀少的偏光膜的制造方法、使用该偏光膜的偏振片的制造方法以及光学叠层体的制造方法。本发明的偏光膜的制造方法,是在按膨润处理、染色处理和硼酸处理的顺序处理聚乙烯醇系膜的工序之前和/或工序中进行单轴拉伸的偏光膜的制造方法,其特征在于,在硼酸处理工序以前设置2段以上的染色浴依次进行染色,与此同时使最后的染色浴含有硼酸。

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