公开(公告)号：CN116572533A

公开(公告)日：2023-08-11

申请号：CN202310259330.1

申请日：2023-03-13

Applicant: 之江实验室 ,  浙江大学

Inventor： 汤孟博 ,  匡翠方 ,  杨臻垚 ,  王洪庆 ,  詹兰馨 ,  刘旭 ,  李海峰

IPC: B29C64/386 ,  B29C64/268 ,  B33Y50/00

Abstract: 本发明公开了一种基于转镜的三维阵列打印系统的激光直写打印方法，包括：基于最大刻写长度刻写的直线中选取粗细均匀且连续的线段，作为转镜的有效刻写长度；根据预设打印参数和有效刻写长度，计算获得打印平台的单次移动距离；根据预设打印参数，有效刻写长度以及单次移动距离，生成一个或多个连续垂直分布于转镜扫描平面的二维刻写数据文件；根据预设的刻写功率，二维刻写数据文件输入至三维阵列打印系统中，通过刻写激光对打印平台上的刻写材料进行循环输出，获得所述三维结构对应的阵列打印件。本发明还提供了一种激光直写打印方法。本发明提供的方法可以有效解决实际三维刻写过程中耗时过长的问题。