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公开(公告)号:CN1355332A
公开(公告)日:2002-06-26
申请号:CN00123335.1
申请日:2000-11-29
Applicant: 中国科学院金属研究所
IPC: C23C20/08
Abstract: 一种多功能纳米复合薄膜及其制造方法,其特征在于:以纳米粉体和Si、Al、Zr的盐或烷氧化物为主要原料,通过溶胶-凝胶工艺在金属、陶瓷、玻璃、有机高分子等材料表面形成一层纳米颗粒改性的薄膜,其膜厚在20nm-5μm之间,纳米颗粒的含量在0.001-50vol%之间。用本发明制备的膜层具有抗擦、耐磨、耐腐蚀、抗氧化、阻燃、吸波等多种功能,有广阔的应用前景,其生产工艺简单,适于工业化生产。
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公开(公告)号:CN1239010A
公开(公告)日:1999-12-22
申请号:CN98114069.6
申请日:1998-06-11
Applicant: 中国科学院金属研究所
IPC: B01D50/00
Abstract: 一种纳米粉的收集方法,其特征在于:在合成粉出口,粉体收集前,用超高速气流对纳米粉喷吹,以冷却造粒,气流流速在150m/s~400m/s之间。本发明采用超高速气流对气-粉混合物进行强迫激励,使纳米粉之间强烈碰撞,假团聚成大粒子,同时消除了纳米粉的不饱和键,因而其流动性大大提高,即本发明将纳米粉的收集问题转变成一般粗粉的收集问题,使用常规的粗粉收集方法就可以获得高质量无污染的纳米粉产品。
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公开(公告)号:CN1038124C
公开(公告)日:1998-04-22
申请号:CN94110393.5
申请日:1994-07-19
Applicant: 中国科学院金属研究所
Abstract: 一种激光气相合成硅基超细粉的方法,其特征在于:以有机硅烷为主体反应物,以氢和/或氨为附加反应气,在下述工艺条件下:激光功率密度(P):500~6000W/cm2,反应压力(Pe):0.2~1atm,反应总气流量(Φt):1200~6000cm3/min,反应时间(t):0.2~4ms,反应温度(T):600~1800℃,合成硅基超细粉。用该方法可大幅度降低成本,高质量地合成硅基超细粉。
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公开(公告)号:CN217121748U
公开(公告)日:2022-08-05
申请号:CN202123082965.4
申请日:2021-12-09
Applicant: 中国科学院金属研究所
IPC: B22F12/00 , B22F10/28 , B22F12/44 , B22F10/366 , B22F10/37 , B22F10/38 , B33Y30/00 , B22F10/85 , B22F12/50 , C22C1/04
Abstract: 一种高通量制备多元合金的激光熔覆装置,该装置可高通量制备具有含量梯度变化的多元合金样品库,其中,腔体外设有数控系统和激光器,且数控系统通过激光器与光斑尺寸调节装置相连,光斑尺寸调节装置设置在腔体内壁上,光斑尺寸调节装置下部通过可沿竖直方向移动的Z轴与同轴喷嘴相连通,同轴喷嘴位于X‑Y工作台上方;Z轴上设有保护镜,位于腔体外的送粉器通过送粉管道与腔体内的同轴喷嘴相连通;光斑尺寸调节装置中积分镜设置在积分镜调整板上,积分镜调整板安装在固定板之上;固定板由固定架支撑并由螺钉相互固定,固定架通过轴承与积分镜调整架相连;可调节光阑设置在积分镜下方,伺服电机通过传动轴与可调节光阑相连,可调节光阑外连冷却系统。
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公开(公告)号:CN208395312U
公开(公告)日:2019-01-18
申请号:CN201820772839.0
申请日:2018-05-23
Applicant: 中国科学院金属研究所
IPC: C30B13/22
Abstract: 本实用新型提供了一种激光辅助加热生长晶体的装置,包括激光心部加热装置、氙灯表面加热装置、底座和真空腔体,其中:激光心部加热装置:激光聚焦镜头安装于镜头支架上,并通过光纤与激光器相连,上支撑杆固定于镜头支架下,上支撑杆与激光聚焦镜头之间设有透镜;送料棒悬挂于上支撑杆下端;籽晶棒位于送料棒的下方,并固定在下支撑杆上,送料棒与籽晶棒之间形成悬浮熔区;氙灯表面加热装置:氙灯固定装置位于镜头支架和底座之间,氙灯设置在椭球反光镜凹面一侧;真空腔体:上真空腔体、石英管和下真空腔体之间形成一个真空腔体。本实用新型通过结构和功能设计解决了大尺寸试棒晶体的生长难题,使其可生长直径达30mm的晶体,以利于实现工程化应用。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号:CN204311132U
公开(公告)日:2015-05-06
申请号:CN201420739666.4
申请日:2014-11-28
Applicant: 中国科学院金属研究所
IPC: C23C24/10
Abstract: 本实用新型提供了一种真空激光熔覆加工装置,包括激光器、导光装置、真空室、工作台、自动送粉器、抽真空系统和数控系统;激光器位于真空室前端,导光装置设于真空室上,工作台和自动送粉器的喷嘴设置在真空室内,抽真空系统设在真空室外,数控系统控制工作台和自动送粉器;导光装置包括腔体、光阑、透镜、气体冷却装置、第一、二平面镜、水冷却装置、聚焦镜;光阑位于腔体激光输入口处,其后设有带气体冷却装置的透镜;透镜另一端与腔体成45°角设有第一平面镜;第二平面镜位于第一平面镜下面,与其成90°角;聚焦镜设于第二平面镜另一端,与第二平面镜平行,且与腔体的激光输出口成45°角;第一、二平面镜、聚焦镜背面均设有水冷却装置。
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