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公开(公告)号：CN112368611B
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN201980041920.9
申请日：2019-06-26
Applicant: 东丽株式会社
IPC: G02B5/20 , G02F1/1335 , G03F7/004 , G03F7/023 , G03F7/027 , G09F9/30 , H01L27/32 , H01L51/50 , H05B33/12
Abstract: 树脂组合物，其含有：树脂；和有机金属化合物，其含有选自由银、金、铂及钯组成的组中的至少1种金属；和光聚合引发剂或醌二叠氮化合物；和溶剂。提供即使在250℃以下的加热条件下也能形成兼具高反射率和高遮光性的隔壁的树脂组合物。
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公开(公告)号：CN112368611A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN201980041920.9
申请日：2019-06-26
Applicant: 东丽株式会社
IPC: G02B5/20 , G02F1/1335 , G03F7/004 , G03F7/023 , G03F7/027 , G09F9/30 , H01L27/32 , H01L51/50 , H05B33/12
Abstract: 树脂组合物，其含有：树脂；和有机金属化合物，其含有选自由银、金、铂及钯组成的组中的至少1种金属；和光聚合引发剂或醌二叠氮化合物；和溶剂。提供即使在250℃以下的加热条件下也能形成兼具高反射率和高遮光性的隔壁的树脂组合物。
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公开(公告)号：CN108700808A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780015983.8
申请日：2017-03-17
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: C08G73/10 , G03F7/004 , G03F7/023 , G03F7/09 , G03F7/40 , H01L33/22 , H01L33/32
Abstract: 蚀刻用掩蔽抗蚀剂组合物，其是含有（A）以通式（1）所示的结构单元作为主成分的聚酰亚胺、和（B）光产酸剂的组合物，其特征在于，聚酰亚胺（A）的酰亚胺基当量为0.0025摩尔/g以上，[化学式1](1)在通式（1）中，R1表示碳原子数为2～50的二价的有机基团，R2表示碳原子数为2～50的三价或四价的有机基团，m1为0或1，c1为0或1，当m1＝0时，c1＝1，当m1＝1时，c1＝0。可提供蚀刻用掩蔽抗蚀剂组合物，所述蚀刻用掩蔽抗蚀剂组合物即使在形成100℃～300℃的高温下的高功率干法蚀刻处理中也不产生抗蚀剂燃烧、碳化，且即使在低温下进行抗蚀剂固化，也可得到高的蚀刻耐性，因此能够得到面内均匀性高的蓝宝石图案。
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公开(公告)号：CN108291087A
公开(公告)日：2018-07-17
申请号：CN201680062906.3
申请日：2016-10-27
Applicant: 东丽株式会社
IPC: C08L79/08 , C08G65/18 , C08K5/1525 , C08L63/00 , C08L79/04 , G03F7/004 , G03F7/023 , G03F7/075 , G03F7/20 , G03F7/40
Abstract: 本发明使用如下树脂组合物来提供表面雕刻有曲面状图案的基板的制造方法，所述树脂组合物能够将抗蚀剂图案形成为曲面状，即使在成为高温的高输出功率干法刻蚀处理中也不产生抗蚀剂灼烧、碳化，能够提供具有良好的刻蚀选择比和刻蚀后的除去性的固化膜。本发明为经图案加工的基板的制造方法，所述制造方法包括：在基板上设置包含以下成分的树脂组合物的被膜的工序，所述成分为：(A)选自以下组中的碱溶性树脂，所述组由聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚酰胺酰亚胺前体、聚苯并噁唑、聚苯并噁唑前体、上述树脂中的至少两种以上的共聚物、及上述树脂中的至少一种与其他结构单元的共聚物组成，(B)光产酸剂，以及(C)选自由环氧化合物及氧杂环丁烷化合物组成的组中的至少一种化合物；形成被膜的图案的工序；以被膜的图案作为掩模，利用刻蚀对基板进行图案加工的工序；以及将树脂组合物的被膜除去的工序。
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