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公开(公告)号:CN103502182A
公开(公告)日:2014-01-08
申请号:CN201180069877.0
申请日:2011-06-28
Applicant: 东京窑业株式会社
CPC classification number: F27D5/0068 , B32B18/00 , C04B35/1015 , C04B35/117 , C04B35/18 , C04B35/443 , C04B35/64 , C04B2235/3217 , C04B2235/3222 , C04B2235/3418 , C04B2235/3463 , C04B2235/3481 , C04B2235/5436 , C04B2235/77 , C04B2235/80 , C04B2235/96 , C04B2235/9692 , C04B2237/341 , C04B2237/343 , C04B2237/58 , F27D1/0006 , F27D3/12 , H01M4/139 , H01M10/0525 , Y10T428/1314
Abstract: 本发明的用于含锂化合物的热处理容器,其特征在于,具备:基底部,含有60~95质量%的氧化铝;表面部,含有20~80质量%的尖晶石,并与基底部一体形成。此外,本发明的制造方法,其特征在于,包括如下步骤:配置氧化铝类粉末的步骤;在氧化铝类粉末的上方配置尖晶石类粉末的步骤;压缩成形的步骤;以及进行烧成的步骤。
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公开(公告)号:CN103476733A
公开(公告)日:2013-12-25
申请号:CN201180069879.X
申请日:2011-06-28
Applicant: 东京窑业株式会社
CPC classification number: C04B35/10 , C01G45/1228 , C01G51/50 , C01G53/50 , C01P2006/40 , C04B35/101 , C04B35/1015 , C04B35/117 , C04B35/185 , C04B35/195 , C04B2235/3206 , C04B2235/3217 , C04B2235/3222 , C04B2235/3244 , C04B2235/3418 , C04B2235/3463 , C04B2235/3481 , C04B2235/442 , C04B2235/72 , C04B2235/77 , C04B2235/80 , C04B2235/96 , C04B2235/9607 , F27D1/0006 , H01M4/0471 , H01M10/052 , Y10T428/131
Abstract: 本发明的用于含锂化合物的热处理容器,当热处理含锂化合物时用于盛装含锂化合物,其特征在于,当全部为100质量%时,含有60~95质量%的氧化铝,且空隙率为10~30%。
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公开(公告)号:CN1178489A
公开(公告)日:1998-04-08
申请号:CN97190038.8
申请日:1997-02-26
Applicant: 日本钢管株式会社 , 日本旋转喷嘴株式会社 , 钢管机械工业株式会社 , 东京窑业株式会社
IPC: B22D41/26
Abstract: 用于回转浇口的滑板砖至少有一个浇口孔被转动以调整该浇口孔与固定板砖的浇口孔之间的重叠度,由此控制钢水或类似物的浇注速度,构成固定板砖和滑板砖的砖形成最合理和经济的形状,以减少其生产成本及回转浇口的运营成本。为了达到这些目的,所述砖40的形状为椭圆形并具有偏心的浇口孔41a和41b。
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