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公开(公告)号：CN101919089B
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN200880122963.1
申请日：2008-12-03
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: H01M4/13 , H01M4/02 , H01M4/139 , H01M4/364 , H01M4/622 , H01M4/625 , H01M2004/021 , H01M2004/028
Abstract: 本发明提供锂电池正极用复合材料及其制造方法，以及使用该锂电池正极用复合材料的正极和电池，其中所述锂电池正极用复合材料能够形成高速放电特性优良的锂电池、并能够充分确保Li的扩散路径、且导电性高。本发明的锂电池正极用复合材料是由含有正极活性物质粒子和纤维状碳的复合粒子构成的锂电池正极用复合材料，其中上述复合粒子具有下述的形态：上述正极活性物质粒子由上述纤维状碳保持。
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公开(公告)号：CN1320078C
公开(公告)日：2007-06-06
申请号：CN200410061916.4
申请日：2004-06-29
Applicant: 花王株式会社
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1463
Abstract: 本发明涉及含有α-氧化铝、中间氧化铝、氧化剂及水的研磨液组合物，具有使用该研磨液组合物研磨被研磨基板的工序的减少被研磨基板的表面波纹的方法，及具有使用上述研磨液组合物研磨被研磨基板的工序的基板的制造方法。上述研磨液组合物例如适用于研磨磁盘、光盘、光磁盘等磁记录介质的基板、光掩模基板、光学透镜、光学反射镜、光学棱镜、半导体基板等精密部件用基板。
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公开(公告)号：CN1613607A
公开(公告)日：2005-05-11
申请号：CN200410078477.8
申请日：2004-09-09
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: B24B37/048 , B24B37/00 , C09G1/02
Abstract: 本发明提供一种磁盘用研磨液试剂盒，其包含：含有氧化铝的浆料(A)、含有氧化剂的氧化剂液(B)、和含有酸的酸剂液(C)。另一种磁盘用研磨液试剂盒，其包含：含有氧化铝的浆料(A)、和含有氧化剂和无机酸的添加剂液(D)。又一种磁盘用研磨液试剂盒，其包含：含有氧化铝的浆料(A)、和含有酸的酸剂液(C)，并且与含有氧化剂的氧化剂液(B)一起使用。本发明的磁盘用研磨液试剂盒可以适宜地用于制造高品质的硬盘等磁盘基板。
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公开(公告)号：CN1475542A
公开(公告)日：2004-02-18
申请号：CN03152478.8
申请日：2003-07-31
Applicant: 花王株式会社
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 一种研磨液组合物，含有0.03－0.5重量％的有机酸或其盐、研磨材和水，且该研磨材的表面电位为－140～200mV；一种倒棱降低剂，其由具有控制研磨液组合物中的研磨材表面电位的特性的无机化合物构成，在制备含有研磨材(用α型的刚玉晶体构成的Al2O3纯度为98.0重量％以上的高纯度氧化铝)20重量份、柠檬酸1重量份、水78重量份及无机化合物1重量份而成的基准研磨液组合物的场合，通过该无机化合物的存在，该基准研磨液组合物中的研磨材的表面电位被控制在－110～250mV。该研磨液组合物或倒棱降低剂组合物可很好地用于精密部件用基板的研磨。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103958620A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201280058883.0
申请日：2012-12-03
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: C09D4/00 , C08F222/1006 , C09D5/24
Abstract: 本发明提供抗静电性、耐水性、透明性、耐擦伤性等基本性能良好、并且能够简便地获得涂布膜的抗静电用涂布组合物，使用了该抗静电用涂布组合物的涂布膜的制造方法，以及利用该制造方法制造而得的涂布膜。本发明的抗静电用涂布组合物含有：(A)具有4个以上活性能量射线固化性的反应性基团的非离子性聚合性化合物、(B)具有1～3个活性能量射线固化性的反应性基团的非离子性聚合性化合物、以及(C)选自下述式(I)所示的化合物及式(II)所示的化合物中的至少1种的含阳离子基团的聚合性化合物。
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公开(公告)号：CN100386399C
公开(公告)日：2008-05-07
申请号：CN03152471.0
申请日：2003-07-31
Applicant: 花王株式会社
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/044 , C09K3/1463 , Y10T428/32
Abstract: 一种研磨液组合物，含有研磨材、水、和有机酸或其盐，其剪切速度1500s-1时的在25℃的特定粘度为1.0-2.0mPa·s；一种端面下垂降低剂，由具有用下式表示(粘度降低量＝基准研磨液组合物的粘度-含有端面下垂降低剂的研磨液组合物的粘度)的粘度降低量为0.01mPa·s以上的粘度降低作用的布朗斯台德酸或其盐构成，其中，基准研磨液组合物由研磨材20重量份、柠檬酸1重量份及水79重量份构成，含有端面下垂降低剂的研磨液组合物由研磨材20重量份、柠檬酸1重量份、水78.9重量份及端面下垂降低剂0.1重量份构成，粘度是指在剪切速度1500s-1、25℃下的粘度。前述研磨液组合物或端面下垂降低剂组合物可很好地用于精密部件用基板等的研磨。
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公开(公告)号：CN1294225C
公开(公告)日：2007-01-10
申请号：CN03152478.8
申请日：2003-07-31
Applicant: 花王株式会社
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 一种研磨液组合物，含有0.03—0.5重量%的有机酸或其盐、研磨材和水，且该研磨材的表面电位为-140～200mV；一种端面下垂降低剂，其由具有控制研磨液组合物中的研磨材表面电位的特性的无机化合物构成，在制备含有研磨材(用α型的刚玉晶体构成的Al2O3纯度为98.0重量%以上的高纯度氧化铝)20重量份、柠檬酸1重量份、水78重量份及无机化合物1重量份而成的基准研磨液组合物的场合，通过该无机化合物的存在，该基准研磨液组合物中的研磨材的表面电位被控制在-110～250mV。该研磨液组合物或端面下垂降低剂组合物可很好地用于精密部件用基板的研磨。
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公开(公告)号：CN1517389A
公开(公告)日：2004-08-04
申请号：CN200310124748.4
申请日：2003-12-26
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02 , C09K3/1409
Abstract: 本发明提供：由具有2个以上离子型亲水基团的表面活性剂组成的用于研磨精密部件用基板的微小波纹减少剂；由具有OH基或SH基的总碳原子数为2～15的多元羧酸化合物或其盐形成的用于研磨精密部件用基板的微小波纹减少剂；含有该微小波纹减少剂、研磨材料和水的用于研磨精密部件用基板的研磨液组合物；含有水、研磨材料、有机酸或其盐和表面活性剂的研磨液组合物，其中的有机酸是具有OH基或SH基的总碳原子数为2～15个的多元羧酸，而且，表面活性剂的分子中具有2个以上离子型亲水基团，分子量为300以上；用于减少精密部件用基板上微小波纹的方法；及精密部件用基板的制造方法。
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公开(公告)号：CN1427025A
公开(公告)日：2003-07-02
申请号：CN02145898.7
申请日：2002-06-20
Applicant: 花王株式会社
IPC: C08J5/14
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 含有研磨材料和水的研磨液组合物，是沉降度指数80以上，100以下的研磨液组合物，具有使用该研磨液组合物来研磨被研磨基板的工序的基板的制造方法，使用上述研磨液组合物来防止研磨片堵塞的方法，使用研磨片研磨含有镍的被研磨物时，使用上述的研磨液组合物研磨来防止研磨片堵塞的方法。使用研磨片研磨含有镍的被研磨物时，使用含有分子中具有2个以上亲水基，分子量300以上的亲水性高分子或在pH值8.0可溶解氢氧化镍的化合物和水的组合物研磨来防止研磨片堵塞的方法。
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